公开(公告)号：TW201731781A

公开(公告)日：2017-09-16

申请号：TW105141907

申请日：2016-12-16

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 歐特 馬休斯 ,  OTTER, MATTHIAS ,  萊曼 瓦特 ,  LEHMAN, WALTER ,  胡乃曼 麥可 ,  HUNERMANN, MICHAEL ,  尼爾森 尼爾斯-克理斯提恩 ,  NIELSEN, NILS-CHRISTIAN ,  惠比 尼吉爾 羅伯特 ,  WHIPPEY, NIGEL ROBERT ,  格羅曼 伯里斯 ,  GROMANN, BORIS ,  柯佩巴尼 愛比托-加法 ,  KPEBANE, ABDOUL-GAFAR

IPC: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/10 ,  C03B37/012 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/106 ,  C03B37/01211 ,  C03C1/026 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32

Abstract: 本發明係關於一種製備石英玻璃體之方法，其包含方法步驟i.)提供二氧化矽顆粒，ii.)在烘爐中自該二氧化矽顆粒製造玻璃熔體，及iii.) 自至少一部分該玻璃熔體製造石英玻璃體，其中該烘爐包含豎立式燒結坩堝。本發明進一步關於一種可藉由此方法獲得之石英玻璃體。本發明進一步關於一種光導、一種施照體及一種成型體，其各自可藉由進一步加工該石英玻璃體獲得。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制备石英玻璃体之方法，其包含方法步骤i.)提供二氧化硅颗粒，ii.)在烘炉中自该二氧化硅颗粒制造玻璃熔体，及iii.) 自至少一部分该玻璃熔体制造石英玻璃体，其中该烘炉包含竖立式烧结坩埚。本发明进一步关于一种可借由此方法获得之石英玻璃体。本发明进一步关于一种光导、一种施照体及一种成型体，其各自可借由进一步加工该石英玻璃体获得。

公开(公告)号：TW201731779A

公开(公告)日：2017-09-16

申请号：TW105141733

申请日：2016-12-16

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 歐特 馬休斯 ,  OTTER, MATTHIAS ,  萊曼 瓦特 ,  LEHMAN, WALTER ,  胡乃曼 麥可 ,  HUNERMANN, MICHAEL ,  尼爾森 尼爾斯-克理斯提恩 ,  NIELSEN, NILS-CHRISTIAN ,  惠比 尼吉爾 羅伯特 ,  WHIPPEY, NIGEL ROBERT ,  格羅曼 伯里斯 ,  GROMANN, BORIS ,  柯佩巴尼 愛比托-加法 ,  KPEBANE, ABDOUL-GAFAR

IPC: C03B20/00 ,  C03B37/012 ,  C03C3/06 ,  F27D7/02

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/10

Abstract: 本發明係關於一種製備石英玻璃體之方法，其包含方法步驟i.)提供二氧化矽顆粒，ii.)於熔融坩堝中自二氧化矽顆粒製造玻璃熔體，及iii.)自至少一部分該玻璃熔體製造石英玻璃體，其中該熔融坩堝包含於烘箱中且由包含鎢或鉬或其組合之至少一種材料製成。本發明進一步係關於一種可藉由此方法獲得之石英玻璃體。此外，本發明係關於一種光導、一種施照體及一種成型體，其中之每一者可藉由進一步加工該石英玻璃體獲得。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制备石英玻璃体之方法，其包含方法步骤i.)提供二氧化硅颗粒，ii.)于熔融坩埚中自二氧化硅颗粒制造玻璃熔体，及iii.)自至少一部分该玻璃熔体制造石英玻璃体，其中该熔融坩埚包含于烘箱中且由包含钨或钼或其组合之至少一种材料制成。本发明进一步系关于一种可借由此方法获得之石英玻璃体。此外，本发明系关于一种光导、一种施照体及一种成型体，其中之每一者可借由进一步加工该石英玻璃体获得。

公开(公告)号：TW201731767A

公开(公告)日：2017-09-16

申请号：TW105141904

申请日：2016-12-16

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 歐特 馬休斯 ,  OTTER, MATTHIAS ,  萊曼 瓦特 ,  LEHMAN, WALTER ,  胡乃曼 麥可 ,  HUNERMANN, MICHAEL ,  尼爾森 尼爾斯-克理斯提恩 ,  NIELSEN, NILS-CHRISTIAN ,  特羅默爾 馬汀 ,  TROMMER, MARTIN

IPC: C01B33/18 ,  C03B19/10 ,  C03B20/00 ,  C03B37/012 ,  C03C12/00

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/0336 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/106 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23

Abstract: 本發明係關於一種製備石英玻璃體之方法，其包含方法步驟i.)提供二氧化矽顆粒，ii.)自二氧化矽顆粒製造玻璃熔體，及iii.)自至少一部分該玻璃熔體製造石英玻璃體，其中該二氧化矽顆粒係藉由提供及加工二氧化矽粉末獲得。本發明亦關於二氧化矽顆粒，其係藉由提供二氧化矽粉末及加工其而獲得。本發明進一步關於一種可藉由此方法獲得之石英玻璃體。本發明進一步關於一種光導、一種施照體及一種成型體，其各自可藉由進一步加工該石英玻璃體獲得。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制备石英玻璃体之方法，其包含方法步骤i.)提供二氧化硅颗粒，ii.)自二氧化硅颗粒制造玻璃熔体，及iii.)自至少一部分该玻璃熔体制造石英玻璃体，其中该二氧化硅颗粒系借由提供及加工二氧化硅粉末获得。本发明亦关于二氧化硅颗粒，其系借由提供二氧化硅粉末及加工其而获得。本发明进一步关于一种可借由此方法获得之石英玻璃体。本发明进一步关于一种光导、一种施照体及一种成型体，其各自可借由进一步加工该石英玻璃体获得。

公开(公告)号：TWI593659B

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：TW101107584

申请日：2012-03-07

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 諾伊曼 克里斯汀 ,  NEUMANN, CHRISTIAN ,  貝克 約爾格 ,  霍夫曼 亞慶 ,  HOFMANN, ACHIM

IPC: C04B38/04 ,  C03B19/14 ,  H01M4/13

CPC classification number: H01M4/1393 ,  C03B19/06 ,  C03B19/14 ,  C04B14/022 ,  C04B14/06 ,  C04B18/023 ,  C04B20/008 ,  C04B38/0022 ,  C04B38/045 ,  C23C16/01 ,  C23C16/402 ,  C23C16/453 ,  H01M10/052 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54

公开(公告)号：TWI583640B

公开(公告)日：2017-05-21

申请号：TW104119887

申请日：2015-06-18

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 貝克 克勞斯 ,  BECKER, KLAUS ,  歐克斯 史帝芬 ,  OCHS, STEFAN ,  湯瑪士 史蒂分 ,  THOMAS, STEPHAN

IPC: C03B20/00 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03B23/04 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7095

公开(公告)号：TWI582059B

公开(公告)日：2017-05-11

申请号：TW105136416

申请日：2010-12-10

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 諾伊曼 克里斯汀 ,  NEUMANN, CHRISTIAN

IPC: C04B35/52 ,  C04B38/06 ,  H01M4/13

CPC classification number: C04B35/521 ,  C01B32/05 ,  C03B19/14 ,  C04B38/0032 ,  C04B2111/00853 ,  H01M4/133 ,  H01M4/1393 ,  H01M4/587 ,  C04B35/52 ,  C04B38/045

公开(公告)号：TWI564269B

公开(公告)日：2017-01-01

申请号：TW099143153

申请日：2010-12-10

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 諾伊曼 克里斯汀 ,  NEUMANN, CHRISTIAN

IPC: C04B35/52 ,  C04B38/06 ,  H01M4/13

CPC classification number: C04B35/521 ,  C01B32/05 ,  C03B19/14 ,  C04B38/0032 ,  C04B2111/00853 ,  H01M4/133 ,  H01M4/1393 ,  H01M4/587 ,  C04B35/52 ,  C04B38/045

公开(公告)号：TWI563346B

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：TW103131648

申请日：2014-09-12

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 貝克 克勞斯 ,  BECKER, KLAUS ,  湯瑪士 史蒂分 ,  THOMAS, STEPHAN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/008

公开(公告)号：TWI546268B

公开(公告)日：2016-08-21

申请号：TW103103371

申请日：2014-01-29

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 庫恩 伯多

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03B19/01 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：TW201602022A

公开(公告)日：2016-01-16

申请号：TW104119887

申请日：2015-06-18

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 貝克 克勞斯 ,  BECKER, KLAUS ,  歐克斯 史帝芬 ,  OCHS, STEFAN ,  湯瑪士 史蒂分 ,  THOMAS, STEPHAN

IPC: C03B20/00 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03B23/04 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7095

Abstract: 在用於EUV微影製程中之鏡面基材的鈦摻雜矽石玻璃坯料中，通常界定光學使用區域CA。在CA內，熱膨脹係數CTE具有於該坯料之厚度上平均化之二維dCTE分佈剖面，在此情況下，最大不均勻性dCTEmax(定義為CTE最大值與CTE最小值之差值)係小於5ppb/K。已知藉由個別調適之位置相關性調整二氧化鈦濃度之方式避免高CTE不均勻性值。相對高絕對CTE不均勻性值係僅於使用期間出現之輻射剖面顯示圓形對稱時可接受。自此開始，為提供經設計並適合與具有非圓形輻射剖面共同使用亦無需個別調適之位置相關性調整二氧化鈦濃度之鈦摻雜矽石玻璃坯料，本發明提出dCTEmax係至少0.5ppb/K，及CA形成具有該區域之質心之非圓形區域，其中該dCTE分佈剖面係非旋轉對稱並界定於CA上使得標準化至單位長度並延伸通過該區域之該質心之直剖面區段(straight profile sections)產生形成具有小於0.5 x dCTEmax之帶寬之曲線帶的dCTE曲線族。

Abstract in simplified Chinese: 在用于EUV微影制程中之镜面基材的钛掺杂硅石玻璃坯料中，通常界定光学使用区域CA。在CA内，热膨胀系数CTE具有于该坯料之厚度上平均化之二维dCTE分布剖面，在此情况下，最大不均匀性dCTEmax(定义为CTE最大值与CTE最小值之差值)系小于5ppb/K。已知借由个别调适之位置相关性调整二氧化钛浓度之方式避免高CTE不均匀性值。相对高绝对CTE不均匀性值系仅于使用期间出现之辐射剖面显示圆形对称时可接受。自此开始，为提供经设计并适合与具有非圆形辐射剖面共同使用亦无需个别调适之位置相关性调整二氧化钛浓度之钛掺杂硅石玻璃坯料，本发明提出dCTEmax系至少0.5ppb/K，及CA形成具有该区域之质心之非圆形区域，其中该dCTE分布剖面系非旋转对称并界定于CA上使得标准化至单位长度并延伸通过该区域之该质心之直剖面区段(straight profile sections)产生形成具有小于0.5 x dCTEmax之带宽之曲线带的dCTE曲线族。