玻璃基板的精研磨方法及利用该方法进行了精研磨的无碱玻璃基板

    公开(公告)号:CN104364217A

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201380029856.5

    申请日:2013-05-30

    CPC classification number: C03C3/091 C03C3/087

    Abstract: 本发明涉及一种玻璃基板的精研磨方法,使用含有二氧化铈作为研磨磨粒的研磨浆料对玻璃基板的主面进行研磨,其中,所述玻璃基板的组成为下述的无碱玻璃,所述精研磨方法包括在下述条件下进行研磨的阶段:在将所述玻璃基板的主面的起伏换算为20mm间距的起伏而得到起伏的高度从0.14μm变化至0.10μm时的所述玻璃基板的研磨量设为X(μm)时,使0.04/X为0.12以上,所述无碱玻璃的应变点为710℃以上,50~350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7~43×10-7/℃,玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1710℃以下,玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1320℃以下,以基于氧化物的摩尔%计,含有SiO2:66~70、Al2O3:12~15、B2O3:0~1.5、MgO:大于9.5且为13以下、CaO:4~9、SrO:0.5~4.5、BaO:0~1、ZrO2:0~2,MgO+CaO+SrO+BaO为17~21,MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.40以上,MgO/(MgO+CaO)为0.40以上,MgO/(MgO+SrO)为0.60以上。

    无碱玻璃基板及无碱玻璃基板的减薄方法

    公开(公告)号:CN104334507A

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201380028321.6

    申请日:2013-05-30

    CPC classification number: C03C15/00 C03C3/087 C03C3/091

    Abstract: 本发明涉及一种无碱玻璃基板,其为通过氢氟酸(HF)蚀刻处理减薄了5μm以上的、板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板,其比模量为32MNm/kg以上,光弹性常数为31nm/MPa/cm以下,该基板的玻璃的应变点为710℃以上,50~350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7~43×10-7/℃,粘度达到102dPa·s时的温度T2为1710℃以下,粘度达到104dPa·s时的温度T4为1320℃以下,该玻璃的组成以基于氧化物的摩尔%计含有:SiO2 66~70、Al2O3 12~15、B2O3 0~1.5、MgO大于9.5且为13以下、CaO 4~9、SrO 0.5~4.5、BaO 0~1、ZrO2 0~2,MgO+CaO+SrO+BaO为17~21,MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.40以上,MgO/(MgO+CaO)为0.40以上,MgO/(MgO+SrO)为0.60以上。

    化学强化用玻璃和进行了化学强化处理的玻璃

    公开(公告)号:CN105813995A

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201480067963.1

    申请日:2014-12-12

    CPC classification number: C03C3/087 C03C21/002

    Abstract: 本发明提供一种进行了化学强化处理的玻璃,其是进行了化学强化处理的玻璃,其特征在于,以氧化物基准的质量百分率表示,所述进行了化学强化处理的玻璃含有:60%~75%的SiO2、3%~9%的Al2O3、2%~10%的MgO、3%~10%的CaO、10%~18%的Na2O、最多4%的K2O、0%~3%的ZrO2、0%~0.3%的TiO2和0.02%~0.4%的SO3,玻璃熔液的粘性达到100dPa·秒时的温度T2为1530℃以下,并且在进行了化学强化处理的主表面中,压应力层深度为8μm以上,且表面压应力为500MPa以上。本发明的进行了化学强化处理的玻璃具有高强度,并且在玻璃制造时能够使熔化温度较低。

Patent Agency Ranking