公开(公告)号：KR101678269B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020137029451

申请日：2012-10-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  하시모토유스케

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/311 ,  H01L21/02 ,  B08B3/04

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68792

Abstract: 기판처리장치는, 액체를저류하는저류조와, 기판(W)을회전가능하게수평으로지지하는기판지지부(10)와, 저류조에저류된액체에기판(W)을침지하는침지위치와침지위치의상측으로서저류조에저류된액체로부터기판(W)을이격시킨이격위치사이에서, 기판지지부(10)를이동시키는플레이트구동부(30a)를구비한다. 기판처리장치는, 기판지지부(10)로지지된기판(W)을회전시키는회전구동부(30M)와, 이격위치에있어서회전구동부(30M)로회전되고있는기판(W)에액체를공급하는액체공급부(10n, 20m, 20n)도구비한다.

公开(公告)号：KR101678253B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020120131424

申请日：2012-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  하시모토유스케

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B08B3/12 ,  B08B3/10 ,  H01L21/687

CPC classification number: B08B3/10 ,  B08B3/12 ,  H01L21/67028

Abstract: 본발명은액처리와건조처리를상이한높이위치에서행할수 있는액처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판을유지하는기판지지부와, 상기기판지지부를회전시키는회전구동부와, 상기기판지지부를상승및 하강시키는기판지지부승강부재와, 상기기판에처리액을공급하는처리액공급부와, 상기기판에상기처리액을공급할때에, 상기기판을둘러싸는액 수용컵과, 상기기판에상기처리액을공급할때에, 상기기판과상기액 수용컵의위쪽에위치하는건조컵을구비하고, 상기건조컵은, 상기기판을건조할때에, 상기기판을둘러싸며, 상기액 수용컵의위쪽에위치하는것을특징으로하는액처리장치에의해상기한과제가달성된다.

公开(公告)号：KR101678251B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020120118595

申请日：2012-10-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  하시모토유스케

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/6715

Abstract: 액처리공정중에기판을상방으로부터지지하는기판지지부, 혹은기판과함께회전하는천판을기판에공급되는린스액을이용하여세정한다. 액처리장치(100)는웨이퍼(W)를상방으로부터지지하는회전가능한기판지지부(10)와, 기판지지부(10)의회전중심에마련되며적어도린스액을웨이퍼(W)에대하여공급하는탑 플레이트노즐(10n)을구비하고있다. 탑플레이트노즐(10n)은기판지지부(10)에대하여상하방향으로이동가능하게되어있고, 탑플레이트노즐(10n)을기판지지부(10)로부터이격시킨상태로탑 플레이트노즐(10n)로부터린스액을웨이퍼(W)에대하여공급한다. 탑플레이트노즐(10n)을기판지지부(10)에접근시킨상태로, 탑플레이트노즐(10n)로부터린스액을기판지지부(10)의하면에공급하여세정한다.

公开(公告)号：KR1020130046364A

公开(公告)日：2013-05-07

申请号：KR1020120118595

申请日：2012-10-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  하시모토유스케

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/68764

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage medium are provided to improve process speed by supplying a process liquid while rotating a substrate. CONSTITUTION: A substrate support part(10) supports a wafer in an upper direction. The substrate support part is rotatably arranged. A top plate nozzle supplies a rinse liquid to the wafer. A base plate nozzle is formed in the central part of a low flowing bottom part(20). A cup part(40) includes a first liquid storage part and a second liquid storage part. [Reference numerals] (AA) Exhaust gas; (BB) Acid; (CC) Alkali; (DD) SC1 and etc; (EE) Drain

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以通过在旋转基板的同时提供处理液来提高处理速度。 构成：衬底支撑部分（10）沿上方支撑晶片。 基板支撑部可旋转地布置。 顶板喷嘴将冲洗液体提供给晶片。 底板喷嘴形成在低流动底部（20）的中心部分。 杯部（40）包括第一液体储存部和第二液体储存部。 （附图标记）（AA）废气; （BB）酸; （CC）碱 （DD）SC1等; （EE）排水

公开(公告)号：KR1020120068666A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：KR1020110041924

申请日：2011-05-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가타노부히로 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing device is provided to suppress the generation of corpuscles by preventing processing liquid scattered from a substrate from being attached to the substrate again. CONSTITUTION: A rotation driving unit rotates a substrate holding unit(12). A processing solution supply unit supplies processing liquid to the substrate on the substrate holding unit. A guide rotating cup(21) rotates with the substrate holding unit and guides the processing liquid scattered from the rotating substrate. A guide cup(31) downwardly guides the processing liquid guided by the guide rotating cup.

Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置，用于通过防止从基板散射的处理液体再次附着于基板来抑制微粒的产生。 构成：旋转驱动单元旋转基板保持单元（12）。 处理液供给单元向基板保持单元的基板供给处理液。 引导旋转杯（21）与衬底保持单元一起旋转并引导从旋转衬底散射的处理液体。 引导杯（31）向下引导由导向旋转杯引导的处理液。

公开(公告)号：KR100886021B1

公开(公告)日：2009-03-03

申请号：KR1020010068755

申请日：2001-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196

Abstract: 본 발명은 액처리방법 및 액처리장치에 관한 것으로서, 수납용기내에 있어서, 기판에 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 액처리장치에서 수납용기를 탑재하는 프레임을 갖추고 있으며, 수납용기는 프레임에서 소정방향으로 인출하는 것이 가능한 구조를 갖추고 있다. 따라서, 멘테난스시에 수납용기를 프레임에서 인출하여 멘테난스를 실행하기 위한 작업스페이스를 충분하게 확보할 수 있고 멘테난스작업을 적절하게 실행하는 것이 가능한 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR100827793B1

公开(公告)日：2008-05-07

申请号：KR1020080000876

申请日：2008-01-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196

Abstract: 본 발명은 액처리방법 및 액처리장치에 관한 것으로서, 수납용기내에 있어서, 기판에 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 액처리장치에서 수납용기를 탑재하는 프레임을 갖추고 있으며, 수납용기는 프레임에서 소정방향으로 인출하는 것이 가능한 구조를 갖추고 있다. 따라서, 멘테난스시에 수납용기를 프레임에서 인출하여 멘테난스를 실행하기 위한 작업스페이스를 충분하게 확보할 수 있고 멘테난스작업을 적절하게 실행하는 것이 가능한 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR100741051B1

公开(公告)日：2007-07-20

申请号：KR1020000058179

申请日：2000-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠야마유지 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명은, 액처리장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 웨이퍼 뒷면보다도 처리액의 부착력이 큰 재료에 의해 구성된 액분리용 링을, 스핀척에 의해 수평으로 보지된 기판과 아주 작은 틈을 경유하여 그 주위를 둘러싸도록 설치하고, 공급 노즐을 기판의 일단측으로부터 처리액의 공급을 수행하면서 이동시키고, 기판의 타단측 근방에서 공급 노즐의 토출구멍과, 상기 액분리용 링의 정상부를 근접시킴으로써, 이 때, 표면 장력으로 연결된 공급 노즐 토출구멍 및 기판 표면의 처리액이 액분리용 링측으로 흐르도록 하여 떼어지기 때문에, 여분의 처리액이 기판 표면으로 되돌아가는 것을 억제할 수 있는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明中，所述液体处理装置，并涉及该方法中，液体支里昂环由比所述晶片的后处理液的大的粘附性材料构成，通过在基板和非常小的间隙不是水平在旋转卡盘围绕 通过安装周边和，在执行从所述基板的一个端部侧的处理液的供给的供给喷嘴的移动，关闭排孔和在该基板的另一端侧附近的进料喷嘴的液体支里昂环的顶部，在这个时候， 因为除去供给喷嘴排出口和连接到液体的表面张力流向液体支里昂环的一侧，能够抑制多余的处理溶液返回到基板表面上设置的技术的基板的表面的过程。

公开(公告)号：KR1020010098485A

公开(公告)日：2001-11-08

申请号：KR1020010018860

申请日：2001-04-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이나다히로이치 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 처리실내의 기판의 표면에 처리액의 막을 형성하는 막형성방법으로서, 처리실내에 기체를 공급하는 동시에, 처리실내의 분위기를 배기하는 상태에서, 처리실내의 유지부재에 재치된 기판에 처리액을 공급하는 공정과, 처리액의 공급전에 기판 표면의 온도를 측정하는 공정을 가진다.
처리액의 공급전에, 기판 표면의 온도를 측정하면, 기판 표면의 온도나 온도분포를 확인할 수 있다. 그리고, 예를 들면 미리 구해 둔 균일한 막두께가 형성되는 경우의 이상적인 온도분포와 그 측정결과를 비교함으로써, 그 후의 처리에 의해 형성되는 막의 막두께를 예측할 수 있다. 또한, 온도를 측정한 후, 처리막을 형성하여, 그 처리막의 막두께를 평가함으로써, 그 데이터를 축적하여, 소위 최적의 조건을 찾아내어 설정할 수 있다. 따라서 이들 측정결과에 기초하여, 처리액 등의 온도 등을 조절하여, 막두께가 균일해지도록 보정할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010076373A

公开(公告)日：2001-08-11

申请号：KR1020010003099

申请日：2001-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰야마유지 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021

Abstract: PURPOSE: A developing treatment equipment is provided to prevent dropping of developer from a coating liquid supply nozzle on a substrate on which the developer has been already supplied. CONSTITUTION: A developer supply nozzle(70) which is installed so as to move freely in the X direction in a chamber(60) begins to move from a cleaning tank(85) as a waiting position(T) to the positive X direction. The nozzle(70) crosses a part above a wafer(W) without supplying developer and stops at a position(P') which proceeds a little from an end portion(P) of the wafer(W). The nozzle(70) then moves in the reverse direction, i.e., the negative X direction while supplying developer to the wafer(W). After that, the nozzle(70) stops supply of developer at a position(Q') which proceeds a little from an end portion(Q) of a cleaning tank(85) side of the wafer(W), and is returned to the cleaning tank(85).

Abstract translation: 目的：提供一种显影处理设备，以防止显影剂从已经供应显影剂的基底上的涂料液体供应喷嘴掉落。 构成：在室（60）中沿X方向自由移动的显影剂供给喷嘴（70）开始从作为等待位置（T）的清洗槽（85）向正X方向移动。 喷嘴（70）在不供应显影剂的情况下与晶片（W）上方的部分交叉，并停止在从晶片（W）的端部（P）稍微延伸的位置（P'）处。 然后，喷嘴（70）在将显影剂供应到晶片（W）的同时沿相反方向，即负X方向移动。 之后，喷嘴（70）在从晶片（W）的清洗槽（85）侧的端部（Q）稍微进行的位置（Q'）停止供给显影剂，返回到 清洗槽（85）。