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公开(公告)号：KR1020130126483A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：KR1020130049215
申请日：2013-05-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67034
Abstract: The purpose of the present invention is to move a processing liquid supply nozzle of a substrate processing apparatus having a first processing unit and a second processing unit which is formed on the first processing unit to a suitable position according to performed processing. The substrate processing apparatus (100) of the present invention comprises the processing liquid supply nozzle (40) which supplies a second processing liquid for second liquid processing to the lower part of a substrate (W) and a nozzle elevating tool (44) for elevating the processing liquid supply nozzle. The processing liquid supply nozzle is positioned on a descending position when first liquid processing is performed in the first processing unit (1) and the processing liquid supply nozzle is positioned on an ascending position higher than the descending position when the second liquid processing is performed in the second processing unit (2).
Abstract translation: 本发明的目的是根据执行的处理将具有第一处理单元和第二处理单元的基板处理装置的处理液体供给喷嘴移动到第一处理单元上的适当位置。 本发明的基板处理装置（100）包括：向基板（W）的下部供给第二液体处理用的第二处理液的处理液供给喷嘴（40）和用于升降的喷嘴升降工具 处理液体供给喷嘴。 当在第一处理单元（1）中执行第一液体处理时，处理液体供给喷嘴位于下降位置，并且当执行第二液体处理时处理液体供给喷嘴位于比下降位置更高的上升位置 第二处理单元（2）。
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公开(公告)号：KR1020140079338A
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：KR1020137029451
申请日：2012-10-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/311 , H01L21/02 , B08B3/04
CPC classification number: B08B3/04 , H01L21/31133 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/67109 , H01L21/67748 , H01L21/68792 , H01L21/02052 , H01L21/02282
Abstract: 기판 처리 장치는, 액체를 저류하는 저류조와, 기판(W)을 회전 가능하게 수평으로 지지하는 기판 지지부(10)와, 저류조에 저류된 액체에 기판(W)을 침지하는 침지 위치와 침지 위치의 상측으로서 저류조에 저류된 액체로부터 기판(W)을 이격시킨 이격 위치 사이에서, 기판 지지부(10)를 이동시키는 플레이트 구동부(30a)를 구비한다. 기판 처리 장치는, 기판 지지부(10)로 지지된 기판(W)을 회전시키는 회전 구동부(30M)와, 이격 위치에 있어서 회전 구동부(30M)로 회전되고 있는 기판(W)에 액체를 공급하는 액체 공급부(10n, 20m, 20n)도 구비한다.
Abstract translation: 一种基板处理装置，包括：储存罐，被配置为储存液体; 基板支撑单元，其构造成可水平地支撑基板; 以及板驱动单元，其构造成将所述基板支撑单元移动到所述基板浸入到所述储存槽中的液体中的浸渍位置与所述浸渍位置上方的所述基板与所述液体分离的分离位置之间移动 储存在储罐中。 基板处理装置还包括：旋转驱动单元，被配置为使由基板支撑单元支撑的基板旋转，以及液体供应单元，其构造成将液体供应到由旋转驱动单元在分离位置旋转的基板。
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公开(公告)号：KR101868642B1
公开(公告)日：2018-06-18
申请号：KR1020130049215
申请日：2013-05-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67
Abstract: 본발명은, 제1 처리부와, 그위에있는제2 처리부를갖는기판처리장치에있어서, 처리액공급노즐을, 실행되는처리에따른적합한위치에위치시키는것을목적으로한다. 본발명의기판처리장치(100)는, 기판(W)의하면에제2 액처리를위한제2 처리액을공급하는처리액공급노즐(40)과, 처리액공급노즐을승강시키는노즐승강기구(44)를포함하고, 제1 처리부(1)에서제1 액처리를행할때에처리액공급노즐이하강위치에위치하며, 제2 처리부(2)에서제2 액처리를행할때에처리액공급노즐이하강위치보다도높은상승위치에위치한다.
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公开(公告)号：KR1020170084687A
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：KR1020170002242
申请日：2017-01-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/10 , B08B17/025 , B08B2203/0229 , C11D11/0047 , H01L21/02041
Abstract: [과제] 컵의둘레벽부에부착된이물질을제거할수 있는기판처리장치및 기판처리장치의세정방법을제공한다. [해결수단] 실시형태의일양태에따른기판처리장치는, 유지부와, 처리액공급부와, 제1 컵과, 제2 컵과, 세정액공급부를구비한다. 유지부는기판을유지한다. 처리액공급부는, 기판에대하여제1 처리액및 제2 처리액을공급한다. 제1 컵은, 둘레벽부를구비하고, 제1 처리액을둘레벽부에의해형성된회수부를통해회수한다. 제2 컵은, 제1 컵에인접하여배치되고, 제2 처리액을회수한다. 세정액공급부는, 제1 컵의회수부에세정액을공급한다. 기판처리장치에있어서는, 세정액공급부에의해공급된세정액을둘레벽부로부터제2 컵측으로오버플로우시킴으로써둘레벽부를세정한다.
Abstract translation: 发明内容本发明提供一种能够去除附着在杯子的周壁上的异物的基板处理装置和基板处理装置的清洁方法。 解决问题的手段根据本发明实施例的基板处理设备包括保持部分，处理液体供应部分，第一杯，第二杯和清洁液供应部分。 保持部分保持衬底。 处理液供给部将第一处理液和第二处理液供给到基板。 第一杯具有周壁部，并且第一处理液通过由周壁部形成的回收部回收。 第二杯与第一杯相邻设置，回收第二处理液。 清洁液供应部分将清洁液供应到第一杯形圆锥形部分。 在该基板处理装置中，通过使从清洗液供给部供给的清洗液从周壁部向第二杯侧溢出来清洗周壁部。
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公开(公告)号：KR1020130056185A
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：KR1020120131424
申请日：2012-11-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , B08B3/12 , B08B3/10 , H01L21/687
CPC classification number: B08B3/10 , B08B3/12 , H01L21/67028 , H01L21/02052 , H01L21/68742 , H01L21/68764
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to prevent fumes from being attached to a substrate after a liquid process by performing the liquid process and a dry process in a high location. CONSTITUTION: A substrate supporting unit(10) supports a wafer. A water storage tank(20) faces the lower side of the wafer supported by the substrate supporting unit. A driving unit(30) changes a distance between the substrate supporting unit and the water storage tank. A ring-shaped liquid receiving cup(40) is installed on the outer side of the water storage tank to surround the water storage tank. A ring-shaped dry cup(42) is formed on the upper side of the circular liquid receiving cup. [Reference numerals] (AA) Acid; (BB) Alkali; (CC) Exhaust
Abstract translation: 目的：提供液体处理装置和液体处理方法，以通过在高位置执行液体处理和干燥处理来防止在液体处理之后将烟雾附着到基板。 构成：衬底支撑单元（10）支撑晶片。 储水箱（20）面向由基板支撑单元支撑的晶片的下侧。 驱动单元（30）改变基板支撑单元和储水箱之间的距离。 在储水箱的外侧设置有环状的液体接受杯40，围绕储水箱。 环形干杯（42）形成在圆形液体容纳杯的上侧。 （AA）酸; （BB）碱 （CC）排气
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101917889B1
公开(公告)日：2018-11-12
申请号：KR1020130089468
申请日：2013-07-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/683 , G01B11/00
CPC classification number: H01L22/30 , H01L21/67259 , H01L21/68728 , H01L21/68792 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본발명은, 기판의유지상태를판별하는장치의배치자유도및 유지상태판정의실행시기의자유도를향상시키는것을목적으로한다. 기판처리장치는, 기판유지부재에의해기판이유지되었을때에기판이존재할수 있는영역을향해검출광을조사하는투광기(61, 71)와, 투광기로부터조사된검출광을받는수광기(62, 72)를구비한다. 기판유지부재에유지된기판의주위에위치하도록설치된기판처리장치의구성부재인기판주위부재(20, 30, 31, 34, 38 등)를, 투광기로부터수광기로향하는검출광의광로(64, 74)가통과하고있다. 검출광은, 기판주위부재를투과하고, 기판을투과하지않는파장을갖고있다.
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公开(公告)号：KR1020170143455A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：KR1020170078122
申请日：2017-06-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/683
CPC classification number: B08B13/00 , B08B3/041 , B08B3/08 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67173
Abstract: 본발명은액 받이컵의컵체의돌출부를얼룩없이세정하는것을과제로한다. 제1 컵체(51)와제2 컵체(52) 중어느한쪽을승강시켜양자를근접상태로한다. 이때, 제1 돌출부(5102)의하면에형성된간극형성부(5106)와제2 돌출부(5202)의상면사이의제1 간극(G1)이, 제1 돌출부의간극형성부가없는부분과제2 돌출부의상면사이의제2 간극(G2)보다작다. 이상태로, 제2 간극에세정액을공급한다. 반경방향외향으로흐르고자하는세정액의움직임이좁은제1 간극에의해제한되기때문에, 제1 돌출부와제2 돌출부사이의공간의전역을세정액으로채울수 있어, 세정대상면을얼룩없이세정할수 있다.
Abstract translation: 本发明克服了清洗杯架的杯体的突出部分没有斑点的问题。 第一杯体51和第二杯体52中的一个升高和降低以使它们靠得很近。 此时，形成在根据第一突起5102间隙形成部（5106）沃赫第二突起5202是衣服侧之间的第一间隙（G1），任务的第一部分的顶表面2周之间的突起，而不形成在突起部的间隙 Ag 2比间隙G2小。 结果，清洁液体被供应到第二间隙。 由于清洗液的运动，以通过一个窄的第一间隙中，第一突出部和它的两个凸起之间chaeulsu用洗涤液的空间的整个区域流动径向向外椅子是有限的，它可以均匀地清洁清洁目标表面上。
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公开(公告)号：KR101678269B1
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020137029451
申请日：2012-10-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/311 , H01L21/02 , B08B3/04
CPC classification number: B08B3/04 , H01L21/31133 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/67109 , H01L21/67748 , H01L21/68792
Abstract: 기판처리장치는, 액체를저류하는저류조와, 기판(W)을회전가능하게수평으로지지하는기판지지부(10)와, 저류조에저류된액체에기판(W)을침지하는침지위치와침지위치의상측으로서저류조에저류된액체로부터기판(W)을이격시킨이격위치사이에서, 기판지지부(10)를이동시키는플레이트구동부(30a)를구비한다. 기판처리장치는, 기판지지부(10)로지지된기판(W)을회전시키는회전구동부(30M)와, 이격위치에있어서회전구동부(30M)로회전되고있는기판(W)에액체를공급하는액체공급부(10n, 20m, 20n)도구비한다.
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公开(公告)号：KR101678253B1
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020120131424
申请日：2012-11-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , B08B3/12 , B08B3/10 , H01L21/687
CPC classification number: B08B3/10 , B08B3/12 , H01L21/67028
Abstract: 본발명은액처리와건조처리를상이한높이위치에서행할수 있는액처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판을유지하는기판지지부와, 상기기판지지부를회전시키는회전구동부와, 상기기판지지부를상승및 하강시키는기판지지부승강부재와, 상기기판에처리액을공급하는처리액공급부와, 상기기판에상기처리액을공급할때에, 상기기판을둘러싸는액 수용컵과, 상기기판에상기처리액을공급할때에, 상기기판과상기액 수용컵의위쪽에위치하는건조컵을구비하고, 상기건조컵은, 상기기판을건조할때에, 상기기판을둘러싸며, 상기액 수용컵의위쪽에위치하는것을특징으로하는액처리장치에의해상기한과제가달성된다.
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公开(公告)号：KR101678251B1
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020120118595
申请日：2012-10-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/02057 , H01L21/6715
Abstract: 액처리공정중에기판을상방으로부터지지하는기판지지부, 혹은기판과함께회전하는천판을기판에공급되는린스액을이용하여세정한다. 액처리장치(100)는웨이퍼(W)를상방으로부터지지하는회전가능한기판지지부(10)와, 기판지지부(10)의회전중심에마련되며적어도린스액을웨이퍼(W)에대하여공급하는탑 플레이트노즐(10n)을구비하고있다. 탑플레이트노즐(10n)은기판지지부(10)에대하여상하방향으로이동가능하게되어있고, 탑플레이트노즐(10n)을기판지지부(10)로부터이격시킨상태로탑 플레이트노즐(10n)로부터린스액을웨이퍼(W)에대하여공급한다. 탑플레이트노즐(10n)을기판지지부(10)에접근시킨상태로, 탑플레이트노즐(10n)로부터린스액을기판지지부(10)의하면에공급하여세정한다.
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