公开(公告)号：KR1019970030312A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950041919

申请日：1995-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기 ,  최기철 ,  옥경하 ,  허장무

IPC: H01L21/265

Abstract: 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트가 개시되어 있다. 본 발명은 도전성 재질의 물체에 다른 물건이 끼워지도록 탄성적으로 확대될 수 있는 홈이 형성되어 이루어진 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에, 상기 홈을 통해 분리된 상기 물체의 부분들을 밀착시킬 수 있는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 한다. 따라서, 클램핑 포스트에 전원을 인가해야 할 다른 물체를 단단히 지지하고 안정된 전기적 접촉을 유지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR2019970025780U

公开(公告)日：1997-06-20

申请号：KR2019950035344

申请日：1995-11-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기 ,  주영병 ,  윤수한 ,  손영상

IPC: H01L21/20

公开(公告)号：KR100701999B1

公开(公告)日：2007-03-30

申请号：KR1020010023710

申请日：2001-05-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 웨이퍼상에 불순물 이온빔을 주입할 때, 이 이온빔에 의해 파손된 부분을 국부적으로 교체가 가능한 이온주입장치의 애널라이저 챔버에 관한 것으로, 이와 같은 발명은 외부로부터 불순물 가스를 공급받아 이를 이온화시킨 후 강한 전계로 이온빔을 추출하는 이온 소스부와, 이온 소스부에서 추출되는 이온빔을 소정 각도로 회절시키는 이온주입장치의 애널라이저 챔버에 있어서, 상기 애널라이저 챔버는 이온빔이 유입되는 챔버 헤드와, 챔버 헤드로 유입된 이온빔을 회절시키는 챔버 본체와, 챔버 헤드와 챔버 본체가 결합되도록 하는 결합수단으로 구성된다.
이상과 같이, 본 발명에 따르면, 질량 분석기의 애널라이저 챔버가 챔버 본체와 챔버 헤드로 각각 별도로 형성되어 선택적으로 분리 및 결합이 가능하기 때문에, 애널라이저 챔버로 빠르게 유입되는 이온빔에 의해 애널라이저 챔버의 앤트런스 부분이 일부 파손되었을 경우, 이 일부 파손된 부분 즉, 애널라이저 챔버의 챔버 헤드 부분만을 국부적으로 교체하면 되기 때문에 종래에 애널라이저 챔버 전체를 한꺼번에 교체해야되었던 때보다 교체가 용이할 뿐만 아니라 교체에 드는 비용을 획기적으로 감소시킬 수 있다
이온주입, 이온빔

公开(公告)号：KR1020040079615A

公开(公告)日：2004-09-16

申请号：KR1020030014585

申请日：2003-03-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A load-lock chamber for semiconductor device manufacture including the sensor for position control of a wafer cassette is provided to prevent collision between an elevator or a wafer cassette and an upper part or a lower part of a main body of the load lock chamber by installing a sensor in the inside of the main body of the load lock chamber. CONSTITUTION: A wafer cassette is used for storing a wafer. A main body(200) includes a door into which the wafer cassette is inserted. An elevator(240) is installed in the inside of the main body in order to elevate the wafer cassette. A driver(250) is used for operating the elevator. A controller(260) is used for controlling the driver. The wafer cassette includes a wafer cassette position control sensor. The first sensor(220) is installed at an upper part of the inside of the main body in order to detect a rising limit of the wafer cassette. The second sensor(230) is installed at a lower part of the inside of the main body in order to detect a falling limit of the wafer cassette.

Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体器件制造的负载锁定室，包括用于晶片盒的位置控制的传感器，以防止电梯或晶片盒与负载锁定室的主体的上部或下部之间的碰撞 通过将传感器安装在负载锁定室的主体的内部。 构成：晶片盒用于存储晶片。 主体（200）包括门，其中插入有晶片盒。 电梯（240）安装在主体的内部以便提升晶片盒。 驱动器（250）用于操作电梯。 控制器（260）用于控制驾驶员。 晶片盒包括晶片盒位置控制传感器。 第一传感器（220）安装在主体内部的上部，以便检测晶片盒的上升极限。 为了检测晶片盒的下降极限，第二传感器（230）安装在主体内部的下部。

公开(公告)号：KR1020040076964A

公开(公告)日：2004-09-04

申请号：KR1020030012307

申请日：2003-02-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기

IPC: H01L21/265

Abstract: PURPOSE: An apparatus for measuring amount of ion implantation is provided to connect a shaft unit to a lead crew by utilizing a screw connection method using a ball bearing. CONSTITUTION: A motor(1) is used for generating the driving power. A motor plate(2) is used for supporting the motor. A lead screw(14) is rotated by the driving power of the motor. A screw groove is formed on an outer surface of the lead screw. A ball bearing is installed on the screw groove. A shaft unit(20) is connected to the lead screw by the ball bearing. The shaft unit is moved to the axial direction of the lead screw while the lead screw is rotated. A cup unit(6) outputs a predetermined electric signal according to the measured amount of ions. A cable(7) is used for transmitting the output signal of the cup unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于测量离子注入量的设备，通过使用使用滚珠轴承的螺丝连接方法将轴单元连接到引导人员。 构成：电机（1）用于产生驱动电源。 马达板（2）用于支撑马达。 导螺杆（14）由马达的驱动力旋转。 在导螺杆的外表面上形成螺纹槽。 滚珠轴承安装在螺丝槽上。 轴单元（20）通过滚珠轴承连接到导螺杆。 当导螺杆旋转时，轴单元移动到导螺杆的轴向。 杯单元（6）根据测量的离子量输出预定的电信号。 电缆（7）用于传输杯子单元的输出信号。

公开(公告)号：KR200202978Y1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR2019950035344

申请日：1995-11-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기 ,  주영병 ,  윤수한 ,  손영상

IPC: H01L21/20

Abstract: 본 고안은 이온 소스 헤드의 인슐레이터에 관한 것으로서, 본 고안은 이온 소스 헤드의 필라멘트와 양극 포스트가 간편하게 삽입 결합되어 절연되는 이온 소스 헤드의 인슐레이터를 제공하는데 그 목적을 두고 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 고안에 의한 이온 소스 헤드의 인슐레이터는 양극 포스트와 필라멘트가 스페이서, 슬리브, 인슐레이터를 차례로 적층하여 형성된 절연 조합체에 삽입되어 절연 지지되는 이온 소스 헤드에 있어서, 상기 양극 포스트와 필라멘트는 각각이 단일 인슐레이터에 의해 절연 지지됨을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR100196913B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960055398

申请日：1996-11-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기 ,  이동규 ,  김춘광

IPC: H01L23/36

Abstract: 본 발명은 반도체소자 및 각종 전자부품들이 탑재된 전원공급장치(power supply) 또는 컨트롤러 등의 내부에서 발생하는 열을 외부로 방출하기 위해 냉각팬을 구비한 냉각 시스템에서 상기 냉각팬의 동작여부를 감지하는 수단을 갖는 냉각팬의 동작감지가 가능한 반도체소자 냉각 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, 반도체소자가 장착된 기판상에서 발생하는 열을 방출하기 위한 냉각팬을 구비한 반도체소자 냉각 시스템에 있어서, 상기 냉각팬의 동작상태를 감지하기 위한 수단을 포함하는 반도체소자 냉각 시스템이 개시된다.

公开(公告)号：KR1019990032348A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970053363

申请日：1997-10-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동규 ,  차주찬 ,  송호기 ,  허장무

IPC: H01J37/04

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 소자를 가공하는 제조 장치 중에서 웨이퍼에 이온과 같은 불순물을 주입하는 중전류 이온 주입 장치(Medium current I
2 P apparatus)에 관한 것이며, 더욱 구체적으로는 웨이퍼에 이온이 주입될 때 요구되는 소정의 각도를 구현하기 위하여 종래의 원판 구동부 내의 구동장치가 원판을 회전시키는 등의 과중한 부담을 줄이기 위한 것이며, 이를 위하여 장착부 몸체 내의 회전장치가 원판 구동부를 경사진 회전축에 의해 회전시킬 때 회전범위를 적정범위로 제한할 수 있도록 회전범위를 연장한 제한수단이 형성된 웨이퍼 장착부의 구조를 개시하고 또한 제한수단을 경사진 회전축에서 돌출된 가이드 핀과 장착부 몸체에 형성된 가이드 홈을 포함하는 구조로 개시하며, 이러한 구조를 통하여 웨이퍼를 이온 주사방향에 대하여 양의 방향 또는 음� �� 방향으로 소정의 각도로 유지시킬 수 있으며, 이에 따라 구동장치의 과중한 부담으로 인한 손상을 방지하고 결과적으로 이온 주입 공정의 효율을 향상한다.

公开(公告)号：KR1019990031289A

公开(公告)日：1999-05-06

申请号：KR1019970051943

申请日：1997-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기

IPC: H01L21/26

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 가공하는 반도체 소자 제조 장치 중에서 웨이퍼의 표면에 이온과 같은 불순물을 주입하는 이온 주입 장치에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 냉각수의 누출을 감지할 수 있는 중전류 이온 주입 장치의 냉각수 공급 시스템에 관한 것이며, 이를 위하여 종래의 냉각수 공급 시스템에 냉각수의 누출을 감지할 수 있는 냉각수 누출 감지장치를 갖는 시스템을 개시하고 또한 냉각수 누출 감지장치가 놓여질 덮개의 저면이 "∧" 자 형태를 갖는 구조를 개시하며, 이러한 시스템과 구조를 통하여 냉각수의 누출에 따른 전기적 단락을 방지하며 또한 전기적 단락에 따른 화재 등 제반 안전사고를 방지하여 결과적으로 공정의 안정성을 향상한다.

公开(公告)号：KR1019990031286A

公开(公告)日：1999-05-06

申请号：KR1019970051940

申请日：1997-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 주영병 ,  김용모 ,  송호기 ,  강진영

IPC: H01L21/263

Abstract: 이온 주입공정에서 원하는 도펀트 이온 빔만 통과시키는 슬릿 어셈블리에 사용되는 차폐흑연의 사용주기를 늘려 소모품의 예방정비 주기를 단축시키고 슬릿 어셈블리와 셋-업 컵의 파손을 방지하기 위하여, 이온주입장비에서 도펀트(dopant) 이온 빔만 통과시키는 슬릿 어셈블리로서, 상기 도펀트 이온 빔이 통과하는 슬릿 구멍을 갖는 제1 차폐슬릿과, 상기 제1 차폐슬릿이 고정되는 일단을 갖는 지지체와, 상기 제1 차폐슬릿과 반대쪽 일단에서 상기 지지체에 고정되며, 상기 제1 차폐 슬릿을 통과한 도펀트 이온 빔이 통과하는 슬릿 구멍을 갖는 제2 차폐슬릿과, 상기 지지체의 반대쪽 일단에 고정되는 제1 몸체와 제2 차폐슬릿의 슬릿구멍에 삽입되는 제2 몸체를 가지며, 상기 도펀트 이온 빔이 지나갈 수 있는 통과 구멍을 갖는 차폐 흑연을 구비하는 것을 특징으로 하는 슬릿 어셈블리를 제공한다.