公开(公告)号：KR1020000039505A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：KR1019980054858

申请日：1998-12-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박철민 ,  허장무 ,  박지원

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: An input/output line structure for an extraction stack of an ion implanter is provided to attain stable connection and grounding, and thereby to prevent undesirable arcing phenomena. CONSTITUTION: An input/output line structure is employed for an oil box(300) equipped with an extraction stack. A tube(400) is longitudinally formed in the oil box(300). A first connection line(100) is set in the tube(400) and connected with inner electronic devices of the oil box(300). The first connection line(100) has a length approximately equal to the tube(400). On the other hand, a second connection line(200) having a relatively shorter length is inserted into the tube(300) and then grounded with the first connection line(100). Therefore, the second connection line(200) is not easy to bend, so that an exact and stable connection is made between the first and second connection lines(100,200).

Abstract translation: 目的：提供用于离子注入机的提取堆叠的输入/输出线结构，以实现稳定的连接和接地，从而防止不期望的电弧现象。 构成：配备有提取堆的油箱（300）采用输入/输出线结构。 管（400）纵向形成在油箱（300）中。 第一连接管线（100）设置在管（400）中并与油箱（300）的内部电子装置连接。 第一连接线（100）的长度近似等于管（400）。 另一方面，将具有较短长度的第二连接线（200）插入管（300）中，然后与第一连接线（100）接地。 因此，第二连接线（200）不容易弯曲，从而在第一和第二连接线（100,200）之间进行准确和稳定的连接。

公开(公告)号：KR1019990035585A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970057409

申请日：1997-10-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차주찬 ,  허장무 ,  정지훈 ,  이동규

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 이온 주입 장치의 엔드스테이션 모듈(Endstation Module)에 관한 것으로, 로드 락 챔버에 넣어진 웨이퍼 카세트로부터 이온 주입 작업이 행해지는 작업 챔버 내에 설치된 구동판으로 웨이퍼를 이송하거나 그 역순의 이송 작업을 행하는 이송 수단의 안착부의 재질을 탄성 강도가 높은 금속인 텅스텐이나 몰리브덴 재질로 변경함으로써 안착부에 충돌이 일어난 경우에도 휘어짐이 발생하지 않도록 하고 웨이퍼 이송 작업의 효율을 높이는 것이다.

公开(公告)号：KR1019970077173A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960014752

申请日：1996-05-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조신현 ,  송우철 ,  차주찬 ,  허장무

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 이온 주입 공정 중 벨자(Bell Jar)를 상·하 이송시키는 이송장치에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 이온 주입 설비의 벨자 이송장치의 사각나사와 암나사부에 발생한 마찰력을 감소시키는 이온 주입 설비의 벨자 이송장치를 제공함에 있다.
본 발명의 효과는 가이드 블록에 스파이럴형 강구홈을 형성하고 강구를 사각나사 피치사이와 강구홈에 위치시켜 강구의 점구름으로 마찰력을 극소화시켜 마찰로 인한 이송용 사각나사와 암나사부의 파손을 막음으로서 설비의 안전성을 향상시키는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970030313A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950041922

申请日：1995-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송우철 ,  옥경하 ,  윤재임 ,  허장무

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 디스크의 후방에 설치되어 디스크의 후방으로 새어나가는 이온빔을 차단하기 위한 것으로, 고정 브라켓과, 이 고정브라켓에 회전가능하게 설치된 레버와, 이 레버의 끝단에 설치된 스필 오버 컵과, 디스크 플립 다운시 상기 레버가 더 이상 하강하지 못하도록 받쳐지지하는 스토퍼로 구성된 반도체 제조장치의 스필 오버 컵 조립체에 관한 것으로, 상기 레버를 받쳐지지하는 스토퍼의 상면이 레버를 수평상태로 지지하여 레버 및 스필 오버 컵이 수평상태를 유지하도록 구성된 것이다. 따라서 스필 오버 컵과 트랜스포트 조립체의 케이블이 부딪쳐 부품이 손상되는 것을 방지할 수 있고, 케이블의 손상으로 인해 생성되었던 파티클이 제거됨으로써 웨이퍼의 오염을 방지하여 수율이 높아지는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020000030948A

公开(公告)日：2000-06-05

申请号：KR1019980044009

申请日：1998-10-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허장무 ,  박지원 ,  박철민

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: An equipment for fabricating a semiconductor is provided to prevent breakage of a wafer by automatically checking if the wafer is accurately loaded/unloaded in a wafer cassette while sliding the wafer. CONSTITUTION: A medium current ion injector is composed of a process chamber(12), a transfer chamber(14), a load lock(16), a junction(18), and a sensor(30). Ion, which is accelerated with voltage, is mechanically implanted on a wafer(50) for a semiconductor device to have an electric characteristic in the process chamber. A base plate(16a) where a wafer cassette(40) is put is established at the load lock. On one hand, the sensor is established in the end of the junction near the transfer chamber. And, the sensor detects the movement of the wafer loaded/unloaded to the transfer chamber from the load lock through the junction. Herein, the sensor is consisted of a sensor emitter(30a) and a sensor light receiver(30b). When the wafer is not loaded/unloaded accurately on the wafer cassette, the sensor detects the position of the wafer to prevent breakage of the wafer caused by an interception valve or a collis ion with another wafer.

Abstract translation: 目的：提供用于制造半导体的设备，以通过在滑动晶片的同时自动检查晶片是否被精确地装载/卸载在晶片盒中，从而防止晶片破裂。 构成：中等电流离子注入器由处理室（12），传送室（14），负载锁（16），接合部（18）和传感器（30）组成。 用电压加速的离子被机械地植入用于半导体器件的晶片（50）上以在处理室中具有电特性。 在加载锁定处建立放置晶片盒（40）的基板（16a）。 一方面，传感器建立在传送室附近的接头的末端。 并且，该传感器检测装载/卸载到传送室的晶片从装载锁通过接合点的移动。 这里，传感器由传感器发射器（30a）和传感器光接收器（30b）组成。 当晶片没有在晶片盒上正确地装载/卸载晶片时，传感器检测晶片的位置，以防止由截取阀引起的晶片破裂或与另一个晶片的碰撞。

公开(公告)号：KR100156324B1

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：KR1019950041922

申请日：1995-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송우철 ,  옥경하 ,  윤재임 ,  허장무

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 디스크의 후방에 설치되어 디스크의 후방으로 새어나가는 이온빔을 차단하기 위한 것으로, 고정브라켓과, 이 고정브라켓에 회전가능하게 설치된 레버와, 이 레버의 끝단에 설치된 스필 오버 컵과, 디스크 플립 다운시 상기 레버가 더 이상 하강하지 못하도록 받쳐 지지하는 스토퍼로 구성된 반도체 제조방치의 스필 오버 컵 조립체에 관한 것으로, 상기 레버를 받쳐 지지하는 스토퍼의 상면이 레버를 수평상태로 지지하여 레버 및 스필 오버 컵이 수평상태를 유지하도록 구성된 것이다.
따라서 스필 오버 컵과 트랜스포트 조립체의 케이블이 부딪쳐 부품이 손상되는 것을 방지할 수 있고, 케이블의 손상으로 인해 생성되었던 파티클이 제거됨으로써 웨이퍼의 오염을 방지하여 수율이 높아지는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970030312A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950041919

申请日：1995-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송호기 ,  최기철 ,  옥경하 ,  허장무

IPC: H01L21/265

Abstract: 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트가 개시되어 있다. 본 발명은 도전성 재질의 물체에 다른 물건이 끼워지도록 탄성적으로 확대될 수 있는 홈이 형성되어 이루어진 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에, 상기 홈을 통해 분리된 상기 물체의 부분들을 밀착시킬 수 있는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 한다. 따라서, 클램핑 포스트에 전원을 인가해야 할 다른 물체를 단단히 지지하고 안정된 전기적 접촉을 유지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100503525B1

公开(公告)日：2005-07-22

申请号：KR1020020085746

申请日：2002-12-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 금경수 ,  홍형식 ,  박충훈 ,  허장무 ,  이상민 ,  강현규

IPC: H01L21/027

Abstract: 웨이퍼 얼라인 장치 및 웨이퍼 얼라인 방법이 개시되어 있다. 웨이퍼 척 상에 웨이퍼를 로딩한다. 상기 로딩된 웨이퍼의 플랫존을 센싱할 수 있도록 센싱 감도를 조절한다. 상기 웨이퍼 가장자리에서 일부 차단되거나 통과된 광을 수광하여 상기 로딩된 웨이퍼의 플랫존을 센싱한다. 상기 센싱된 플랫존의 위치를 기준으로 상기 웨이퍼가 원하는 오리엔트 각도에 위치시키기 위한 웨이퍼 척의 회전각을 계산한다. 이어서, 상기 웨이퍼 척을 상기 회전각만큼 수평 회전시킨 후 정지시킴으로서 웨이퍼를 원하는 위치에 얼라인한다. 따라서, 수회에 걸쳐 회전하지 않더라도 상기 웨이퍼를 원하는 오리엔트 각을 갖도록 얼라인할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040059167A

公开(公告)日：2004-07-05

申请号：KR1020020085746

申请日：2002-12-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 금경수 ,  홍형식 ,  박충훈 ,  허장무 ,  이상민 ,  강현규

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for aligning a wafer are provided to obtain a desired orient angle to locate a wafer at a desired position by rotating a wafer chuck, twice. CONSTITUTION: An apparatus for aligning a wafer includes a wafer chuck, a light emission part, a light receiving part, a compensator, and a controller. The wafer chuck(100) is used for loading and rotating a wafer. The light emission part(102) is used for irradiating the light on an edge of the wafer. The light receiving part(104) is used for receiving the light from the edge of the wafer and outputting an electric signal. The compensator(106) is used for compensating the electric signal of the light receiving part to sense a wafer flat zone. The controller(112) is used for sensing the wafer flat zone according to the compensated electric signal and calculating a rotating angle of a wafer chuck to rotate the wafer chuck to the desired position.

Abstract translation: 目的：提供一种用于对准晶片的装置和方法，以获得期望的定向角度，以通过旋转晶片卡盘将晶片定位在期望位置两次。 构成：用于对准晶片的装置包括晶片卡盘，发光部分，光接收部分，补偿器和控制器。 晶片卡盘（100）用于加载和旋转晶片。 发光部分（102）用于在晶片的边缘上照射光。 光接收部分（104）用于接收来自晶片边缘的光并输出电信号。 补偿器（106）用于补偿光接收部分的电信号以感测晶片平坦区域。 控制器（112）用于根据补偿的电信号感测晶片平坦区域，并计算晶片卡盘的旋转角度以将晶片卡盘旋转到所需位置。

公开(公告)号：KR100172030B1

公开(公告)日：1999-03-30

申请号：KR1019950042512

申请日：1995-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황연상 ,  허장무 ,  최찬승 ,  김성주

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 이온주입을 위하여 양이온이 발생되어 취출될 때 충돌로 인한 취출부의 마모를 최소화시키기 위한 이온주입설비의 이온공급장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 이온주입설비의 이온공급장치는 이온을 발생시켜서 인접하여 설치된 이온빔조절장치로 접속하여 취출시키는 이온주입설비의 이온공급장치에서, 상기 이온이 상기 이온빔조절장치로 집속되어 취출되는 취출구가 형성된 취출부는 상기 이온에 대하여 몰리브덴 보다 내마모성이 큰 재질로 제작된 것임을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 취출부의 수명이 연장됨으로써 이온빔조절장치의 수명도 연장되며, 집속되는 이온빔이 안정하고 균일하게 취출될 수 있으며, 그에 따라서 이온주입설비의 공정수행상 생산성이 향상되고 고품질의 웨이퍼를 생산할 수 있는 효과가 있다.