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公开(公告)号:KR1020120044064A
公开(公告)日:2012-05-07
申请号:KR1020100105450
申请日:2010-10-27
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G02B21/0064 , G01B11/026 , G01B11/06 , G01B11/24
Abstract: PURPOSE: An optical measuring device is provided to scan a lot per unit hour because a line beam formed by a cylindrical lens and focused on a first opening device is linearly focused on a so that scanning at high speeds is possible. CONSTITUTION: An optical measuring device comprises a light source(102), a linear polarizing device(106), a polarizing beam splitter(112), a 1/4 wavelength plate(116), an objective lens(118), and a light receiving unit(130). The polarizing beam splitter is transfers the linear-polarized lights irradiating to one between a first optical path and second optical path. The 1/4 wavelength plate transfers circular-polarizes the lights linear-polarized and separated, thereby transferring to a direction of a measuring object(120). The 1/4 wavelength plate linear-polarizes the circular-polarized lights to the second optical path of a polarizing beam splitter. The objective lens generates a chromatic aberration, thereby generating lights of a plurality of wavelengths. The light receiving unit generates shape information of the measuring object from the light transmitted the second optical path.
Abstract translation: 目的:提供一种用于每单位时间扫描的光学测量装置,因为由圆柱形透镜形成并聚焦在第一打开装置上的线束被线性聚焦,使得可以高速扫描是可能的。 构成:光学测量装置包括光源(102),线性偏振装置(106),偏振分束器(112),1/4波长板(116),物镜(118)和光 接收单元(130)。 偏振分束器将照射到第一光路和第二光路之间的线偏振光转印。 1/4波长板传输圆偏振线性偏振和分离的光,从而转移到测量对象(120)的方向。 1/4波长板将圆偏振光线线偏振到偏振分束器的第二光路。 物镜产生色差,从而产生多个波长的光。 光接收单元从发射第二光路的光产生测量对象的形状信息。
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公开(公告)号:KR100807254B1
公开(公告)日:2008-02-28
申请号:KR1020070020429
申请日:2007-02-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: An apparatus for inspecting defects is provided to simplify the structure of a defect inspection apparatus by installing an illumination apparatus for generating a transmission light image in a manner that the illumination apparatus transfers together with a stage. A stage(20) transfers an object to be inspected to a desired position. A holder(30) has a support unit on which the inspected object is mounted, transfers together with the stage. An optical microscope(40) has a light source for irradiating light to the upper surface of the inspected object mounted on the holder. An illumination apparatus(80) irradiates light to the lower surface of the inspected object mounted on the holder, transferring together with the stage. An electron microscope(50) irradiates an electron beam to the inspected object mounted on the holder to generate an image. The illumination apparatus can be formed of a plate type so that light is irradiated to the entire region of the lower surface of the inspected object.
Abstract translation: 提供了一种用于检查缺陷的装置,通过以照明装置与舞台一起传送的方式安装用于产生透射光图像的照明装置来简化缺陷检查装置的结构。 阶段(20)将要检查的对象传送到期望的位置。 保持器(30)具有安装被检查对象的支撑单元,与台架一起传送。 光学显微镜(40)具有用于将光照射到安装在保持器上的被检查物体的上表面的光源。 照明装置(80)将光照射到安装在保持器上的被检查物体的下表面,与台一起转印。 电子显微镜(50)将电子束照射到安装在保持器上的检查对象以产生图像。 照明装置可以由板式形成,使得光被照射到被检查物体的下表面的整个区域。
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公开(公告)号:KR1020050035570A
公开(公告)日:2005-04-19
申请号:KR1020030070990
申请日:2003-10-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01J37/073 , H01J2237/31779
Abstract: 전자빔 프로젝션 리소그라피용 에미터와 그 작동 방법 및 제조 방법이 개시된다. 개시된 에미터는, 광도전체 기판과, 광도전체 기판의 전면에 형성된 절연층과, 절연층 위에 형성되며 상대적으로 얇은 부분과 두꺼운 부분을 가지도록 패터닝된 게이트 전극층과, 광도전체 기판의 배면에 형성되며 투명한 도전성 물질로 이루어진 베이스 전극층을 구비한다. 상기 에미터에 있어서, 베이스 전극층과 게이트 전극층 사이에 전압을 인가하고, 에미터의 배면쪽에서 광도전체 기판의 일부분에 광을 조사하여 광도전체층 기판의 일부분을 도전체로 변환시키면, 광도전체 기판 중 광이 조사된 부분에서만 전자가 방출된다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 에미터로부터 부분적인 전자 방출이 가능하므로, 전면적인 1차 패터닝 후에 부분적인 보정이나 보수가 가능하게 된다.
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公开(公告)号:KR100218275B1
公开(公告)日:1999-09-01
申请号:KR1019970017809
申请日:1997-05-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L27/10
CPC classification number: H01L29/42324 , G11C11/223 , H01L29/42328 , H01L29/78391
Abstract: 본 발명은 벌크형 `1트랜지스터구조의 강유전체 메모리소자를 개시한다. 메모리소자는 제 1 전도형 반도체기판의 표면 근방에 형성된 제 2 전도형 소스영역과, 채널영역을 사이에 두고 상기 소스영역과 마주보는 상기 반도체 기판의 표면근방에 형성된 제 2 전도형 드레인영역을 포함한다. 또한, 상기 메모리소자는 상기 채널영역의 반도체 기판의 표면에 형성된 제 1 절연막과, 상기 제 1 절연막상에 형성된 제 1 플로팅게이트 전극층과, 상기 제 1 플로팅 게이트 전극층상에 형성된 제 2 절연막과, 상기 제 2 절연막상에 형성된 제 1 제어게이트 전극층과, 상기 제 1 제어게이트 전극층상에 형성된 제 3 절연막과, 상기 제 3 절연막상에 형성되고 상기 제 1 플로팅게이트 전극층과 전기적으로 연결된 제 2 플로팅게이트 전극층과, 상기 제 2 플로팅게이트 전극층상에 형성된 강유전체막과, 상기 강유전체막상에 형성된 제 2 제어게이트 전극층을 더 포함한다.
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公开(公告)号:KR1019980082618A
公开(公告)日:1998-12-05
申请号:KR1019970017625
申请日:1997-05-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L29/768
Abstract: 이 발명은 게이트(gate), 소스(source) 및 드레인(drain)의 패턴(pattern)이 개량된 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터에 관한 것으로서,
역 디귿자 형상의 게이트에 소스가 게이트 상에 역 디귿자의 중첩 구간을 가지도록 형성되므로, 종래의 구조에 비해 동일한 채널 면적을 확보하면서 게이트-소스간의 기생 커패시턴스는 종래 구조에 비해 감소된다. 따라서, 이러한 구조의 박막 트랜지스터를 이용한 액정 표시 장치는 충전 특성이 더욱 향상되며, 공정 상의 변동에 대한 적응성이 강하다.-
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公开(公告)号:KR1019960030753A
公开(公告)日:1996-08-17
申请号:KR1019950000850
申请日:1995-01-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H05F3/04
Abstract: 반도체 기판에 형성된 소오스, 드레인, 및 게이트를 구비하는 NMOS 트랜지스터에 있어서, 상기 소오스 및 드레인 사이의 실리콘 기판내에 상기 실리콘 기판보다 낮은 전위를 갖는 물질층을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전방전(ESD) 보호소자에 관하여 기재되어 있다.
본 발명에 의하면, 소오스기판드레인으로 형성되는 기생 바이폴라 트랜지스터를 빨리 구동시켜 과전류가 흐를수 있는 경로를 기판 내에 형성시킨다. 따라서, 과전류가 칩내로 유입되는 것을 방지하고, ESD에 의해 발생된 과전류로부터 칩이 보호된다.-
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公开(公告)号:KR101843042B1
公开(公告)日:2018-03-28
申请号:KR1020120003497
申请日:2012-01-11
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/08 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/0807
Abstract: 헬륨이온현미경(helium ion microscopy, HIM)을이용하여, 반도체기판상에형성되어있는패턴을 3차원적인입체정보로얻을수 있는반도체기판검사장비를제공하는것이다. 상기반도체기판검사장비는헬륨가스를담아두는가스용기, 상기가스용기내에위치하고, 상기헬륨가스를헬륨이온으로변환시키는헬륨이온발생부, 상기가스용기아래에위치하고, 피검사기판이놓이는웨이퍼스테이지, 상기웨이퍼스테이지상에위치하고, 상기피검사기판으로부터발생되는전자를검출하는이차전자검출기, 연속적인질소공급장치로부터제1 기체질소를공급받아액체질소로압축하는압축기, 상기압축기와연결되어상기액체질소를저장하는액체질소듀워(Dewar), 및상기액체질소듀워로부터공급받은상기액체질소를제2 기체질소로기화시켜상기헬륨이온발생부를냉각시키고, 상기가스용기상에서상기헬륨이온발생부와결합되어있는냉각장치를포함한다.
Abstract translation: 使用氦离子显微镜(氦离子显微镜,HIM),以提供所获得形成具有三维立体信息在半导体衬底上的图案的半导体基板检查装置。 半导体基板检查装置是气体容器,位于容器中的气体,位于所述氦离子产生单元,所述氦气转换成氦离子气体容器的下方,位于避免检查器板的晶片台,晶片定位把氦气 位于舞台上,接收该血液二次电子检测器,用于检测从所述测试基板中产生的电子,从连接到所述压缩机,所述压缩机用于压缩液氮商店液氮在连续氮气供给供给第一气态氮 液氮dyuwo(杜瓦),和汽化液氮从液氮被提供dyuwo,其耦合到所述氦离子产生单元的气体容器上,并且冷却部件的第二气态氮冷却单元引起的氦离子,以 它包括。
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公开(公告)号:KR101819006B1
公开(公告)日:2018-01-17
申请号:KR1020100105450
申请日:2010-10-27
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G02B21/0064 , G01B11/026 , G01B11/06 , G01B11/24
Abstract: 광학측정장치를개시한다. 광학계통의광 효율을개선하여측정의정밀도와속도를향상시키기위한광학측정장치는, 광원과; 광원으로부터방출되는빛을선형편광시키는선형편광소자와; 입사되는선형편광된빛을제 1 광경로와제 2 광경로가운데어느하나의경로로전달하는편광빔 스플리터와; 편광빔 스플리터에서제 1 광경로를통해전달되는편광분리된빛을원형편광시켜서측정대상물방향으로전달되도록하고, 측정대상물에서반사되어돌아오는원형편광된빛을선형편광시켜서편광빔 스플리터의제 2 광경로로전달하는 1/4 파장판과; 1/4 파장판에의해원형편광된빛에색수차를발생시켜서서로다른복수의파장의빛을발생시키는대물렌즈와; 제 2 광경로를통해전달되는빛으로부터측정대상물의형상정보를발생시키는수광부를포함한다.
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