Abstract:
PURPOSE: A touch screen panel (TSP) for multi touch and a manufacturing method thereof are provided to increase light transmittance and manufacturing process reliability, by forming a thin and continuous uniform wire. CONSTITUTION: An upper plate (100) and a lower plate (200) of a transparent material comprise grooves which have a channel shape of established depth and width. An upper plate conduction part is formed in a width groove part, and is constituted with conductive ink. A lower plate conductive part is formed in a longitudinal groove part of the lower plate, and is constituted with the conductive ink. A spacer part is formed in the upper plate and/or the lower plate. The spacer part is formed with the same material as the upper plate or the lower plate, and is formed integrally without a boundary with the upper plate or the lower plate.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing an organic thin film solar battery of a channel structure is provided to improve convenience of process while having the advantage of a grid structure by forming the grid structure by adding a partition wall formation process. CONSTITUTION: A wall(110) is formed on the surface of a substrate(100). A bottom electrode pattern(200) is formed on the substrate. Partition walls which are perpendicular to the wall are formed on the bottom electrode pattern at constant intervals. A buffer layer(300) is formed on the bottom electrode pattern. An active layer(400) is formed on the buffer layer. An electron acceptation layer(500) is formed on the active layer. A top electrode pattern(600) is formed on the electron acceptation layer. The bottom electrode pattern is separated from the top electrode pattern.
Abstract:
본 발명은 저온 선택적 원자층 형성 공정을 이용한 유연성 기판용 투명전도막 형성방법에 관한 것으로서, 유연성 기판 위에 노출되는 형태의 소수성막 기판을 형성하기 위하여 스핀 코팅기에 유연성 기판을 장착한 후, 상기 기판 위에 소수성 물질을 투입하고 상기 스핀 코팅기를 소정의 회전속도로 일정 시간 동안 작동시켜 상기 기판 위에 소수성(hydrophobic) 물질을 코팅하는 단계; 소수성 물질이 코팅된 소수성막 기판에 원하는 형상의 새도우 마스크(shadow mask)를 설치하는 단계; 새도우 마스크가 설치된 소수성막 기판을 자외선 투과장치에 장착하고, 일정 시간 동안 자외선을 투과시켜 자외선이 조사(照射)된 부분의 소수성막 기판을 친수성막 기판으로 변경하는 단계; 및 친수성막으로 변경된 기판에 소정 압력 및 온도의 조건에서 ALD(Atomic Layer Deposition)를 이용하여 AZO(Al-doped Zinc Oxide) 투명전도막을 형성하는 단계를 포함한다. AZO, 투명전도막, ALD, 친수성, 소수성, 자외선, 투과, 새도우 마스크
Abstract:
본 발명은 솔벤트를 이용한 미세버섯구조 패턴의 형성방법에 관한 것으로, 그 목적은 미세버섯구조 패턴의 형성을 위한 주요 공정이 상온에서 진행되도록 하여 불균일한 열팽창에 의한 문제의 발생을 예방할 수 있는 솔벤트를 이용한 미세버섯구조 패턴의 형성방법을 제공함에 있다. 이를 위한 본 발명은 미세버섯구조의 하부 구조물에 상응하는 다수개의 돌기가 표면에 형성된 프리폼을 형성하는 단계(S110); 상부가 개방된 용기에 솔벤트를 담아 상기 프리폼과 함께 밀폐용기에 넣은 후, 밀폐용기의 온도 조절을 통해 솔벤트를 기화시켜 기화된 솔벤트가 확산에 의해 프리폼 속으로 흡수되어지도록 하는 단계(S120); 상기 S120 단계를 통하여 솔벤트가 흡수된 프리폼을 밀폐용기로부터 꺼낸 후, 상온에서 평판형의 가압부재로써 돌기의 상단부를 가압하여 돌기의 상단부가 측면방향으로 넓게 퍼지도록 하여 버섯구조를 형성하는 단계(S130); 및 상기 가압부재를 분리하고, 프리폼을 건조시켜 잔여 솔벤트를 제거하는 단계(S140)로 이루어진 솔벤트를 이용한 미세버섯구조 패턴의 형성방법에 관한 것을 기술적 요지로 한다.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a transparent conductive film for a flexible substrate using a low-temperature and a selective atomic layer forming process is provided to form a AZO transparent oxide conductive film suitable for a flexible substrate through a selective deposition of ALD(Atomic Layer Deposition) under low temperature. CONSTITUTION: A hydrophobic material(102) is coated on a substrate(101). A desired shadow mask(103) is arranged in the hydrophobic film substrate in which the hydrophobic material is coated. The ultraviolet ray is projected selectively on the hydrophobic film substrate to be changed into a hydrophilic film substrate(102a). An AZO transparent is formed by processing an ALD(Atomic Layer Deposition) on the hydrophilic film substrate The AZO transparent has average visible ray transmission over 90% and resistance less than 100Ω / cm^2.
Abstract translation:目的:提供一种使用低温和选择性原子层形成工艺形成用于柔性基板的透明导电膜的方法,以通过选择性沉积ALD形成适合柔性基板的AZO透明氧化物导电膜(原子层 沉积)在低温下。 构成:将疏水材料(102)涂覆在基底(101)上。 在其中涂覆有疏水性材料的疏水膜基材中布置期望的荫罩(103)。 紫外线选择性地投影在疏水性膜基材上,形成亲水性膜基板(102a)。 通过在亲水膜基材上处理ALD(原子层沉积)形成AZO透明。AZO透明的平均可见光透射率超过90%,电阻小于100Ω/ cm ^ 2。
Abstract:
PURPOSE: A method for forming fine mushroom structure pattern including undercut is provided to cut down the product cost by forming the corresponding pattern by of the intensity gradient by the temperature differential of the height direction of material or the intensity difference of the different kind material. CONSTITUTION: A first stamper in which the pattern corresponding to the shape of the lower structure(11) is imprinted is heated by temperature more than the glass transition temperature of material. The heated first stamper press the material(200). The pattern of the lower structure shape is transferred in the surface of material. After forming the lower structure, the second stamper is heated by the temperature more than the glass transition temperature of material. The upper structure(12) is formed by pressing the top end of the lower structure formed in the material. The heated second stamper press the top end of the lower structure formed in the material and forms the upper structure. The top end portion of the formed substructure is pressurized as the heated second stamper in material and superstructure is formed. The only upper part region(A) of the lower structure corresponding to the thickness of the upper structure is heated by the temperature over the glass transition temperature due to the heat conducted from the second stamper.
Abstract:
본 발명은 사출성형이 용이한 미세바늘에 관한 것으로, 그 목적은 사출금형에 적합한 형상을 갖도록 구성되어 사출금형을 이용한 대량생산이 가능한 미세바늘을 제공하는 것이다. 이를 위한 본 발명은 블록형상으로 이루어진 몸체부; 상기 몸체부의 상면으로부터 소정의 깊이를 갖도록 형성되어 약물 또는 채취된 체액이 보관되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 몸체부의 일측면으로부터 몸체와 평행하게 연장되며, 그의 끝단이 뾰족하게 형성되어 인체에 주사되는 바늘부; 상기 바늘부의 상면으로부터 소정의 깊이를 갖도록 형성되고, 상기 챔버에 그의 일측단이 연결됨과 더불어 그의 타측단이 상기 바늘부의 측면으로 연장되어 약물 또는 체액이 지나가는 통로를 제공하는 채널; 및 상기 챔버를 커버하도록 상기 몸체부의 상부에 부착되는 커버부;를 구비하는 사출성형이 용이한 미세바늘에 관한 것을 그 기술적 요지로 한다. 미세바늘, 사출금형, 몸체부, 바늘부, 챔버, 채널
Abstract:
본 발명은 빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광한 후 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻고, 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만들며, 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하고 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면 렌즈 형태가 양각된 제2 스탬퍼를 제작하며, 상기 제1 마스크에 형성된 상기 차단영역의 크기 보다 작은 차단 영역을 가진 제2 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 제2 스탬퍼 상에 정렬시켜 노광/현상한 후 리플로우 공정 처리하여 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 음각으로 하는 제3 스탬퍼를 제작한다. 그리고 상기 제3 스탬퍼를 금형으로 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 양각으로 하는 렌즈 제품을 사출한다.