公开(公告)号：KR100609863B1

公开(公告)日：2006-08-08

申请号：KR1020040058335

申请日：2004-07-26

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 윤주영 ,  임종연 ,  신용현 ,  정광화

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정 중 화학물질이 이용되는 반응공정에 있어서, 반응로에서 배출되는 부산물의 성분을 분석하여 공정의 진행상태를 모니터링할 수 있도록 한 반도체 제조용 반응공정 진단시스템에 관한 것이다.
이에 본 발명은, 반도체 제조공정 중 각종 화학물질이 포함된 반응가스가 내부로 주입되는 반응로와, 상기 반응로에서 발생된 부산물을 외부로 배출하는 배출관 및 펌프와, 상기 배출관에 설치되어 상기 부산물에 포함된 각종 화학물질의 성분을 분석하여 디스플레이하는 성분 분석부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 진단시스템을 제공함으로써, 반응의 진행상태를 파악하여 원활한 반응을 유도할 수 있을 뿐만 아니라, 반응성이 높은 화학물질의 배출로 인한 배출관 및 펌프의 부식등을 최소화할 수 있는 효과를 가진다.
반응로, 배출관, 펌프, 분석부, 밸브, 제어부

公开(公告)号：KR100542243B1

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：KR1020030055645

申请日：2003-08-12

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 윤주영 ,  김정형 ,  임종연 ,  신용현 ,  정광화

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 플라즈마 유기금속화학증착 공정을 위한 탄소불순물 생성 진단방법 및 진단장치에 관한 것으로, 플라즈마 유기금속화학증착 공정을 위한 해당 유기금속 전구체의 탄소불순물의 기준 분광 데이터를 컴퓨터에 저장하는 단계(S1000), 반응로 내에 형성된 플라즈마로 기화된 유기금속 전구체를 주입하여 분해하는 단계(S2000), 상기 플라즈마 및 해리된 상기 유기금속 전구체의 당해 분자들의 분광 데이터를 검출하고 상기 컴퓨터에 전송하는 단계(S3000), 상기 검출된 당해 분광 데이터를 상기 기준 분광 데이터와 비교하여 상기 탄소불순물의 생성 여부를 판단하는 단계(S4000) 및 상기 탄소불순물의 생성 판단에 따라 알람음향을 방출하는 단계(S4000);를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이 때 상기 기준 분광 데이터는, 상기 탄소불순물이 증착된 박막으로 함입될 수 있는 탄소불순물의 크기, 상기 박막과의 화학반응 및 불완전한 분자구조를 기초로 설정되는 것이 바람직하다. 또한 분광 데이터의 검출을 위해 반응로에 광학 방출 분광기가 연결되는 진단장치 구조가 바람직하다.
탄소불순물, 전구체, 함입억제, 박막, 웨이퍼, 유기금속화학증착, 플라즈마

公开(公告)号：KR100473794B1

公开(公告)日：2005-03-14

申请号：KR1020030050408

申请日：2003-07-23

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 김정형 ,  신용현 ,  정광화 ,  최상철

IPC: G01R27/04

CPC classification number: H01J37/32935 ,  H05H1/0062

Abstract: 본 발명은 플라즈마 전자밀도 측정 및 모니터링 장치에 관한 것으로, 전자밀도의 변화가 있는 플라즈마가 내포된 챔버와, 상기 챔버 내에 일측이 실장되어 전자파를 방사 및 수신하기 위한 안테나 구조로서 각 도파관 및 송/수신안테나가 구비되는 주파수 탐침기와, 상기 주파수 탐침기의 각 도파관에 전기적으로 연결되어 방사할 전자파를 송출하는 전자파 발생기 및 수신된 전자파의 주파수를 스캔하여 진폭과 대비시켜 분석하는 주파수 분석기를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이 때 상기 주파수 탐침기가 챔버 내에서 이송되며 전자밀도의 공간분포를 검지할 수 있도록 주파수 탐침기의 후방에는 유압실린더 구조의 이송부가 결합됨이 바람직하다.

公开(公告)号：KR1020050017988A

公开(公告)日：2005-02-23

申请号：KR1020030055645

申请日：2003-08-12

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 윤주영 ,  김정형 ,  임종연 ,  신용현 ,  정광화

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: A method for diagnosing generation of a carbon impurity for a plasma metal organic chemical vapor deposition process is provided to minimize subsidence of a carbon impurity by controlling the carbon impurity subsided to a thin film such that the carbon impurity is generated by an excessive analysis of a precursor. CONSTITUTION: The reference spectrum data of a carbon impurity of a corresponding metal organic precursor for a plasma metal organic chemical vapor deposition process is stored in a computer(S1000). A vaporized metal organic precursor is injected to the plasma formed in a reaction furnace so as to be analyzed(S2000). The spectrum data of corresponding molecules of the plasma and the dissociated metal organic precursor is detected and transferred to the computer(S3000). The detected spectrum data is compared with the reference spectrum data to determine whether the carbon impurity is generated(S4000). An alarm sound is outputted according to the determination of the generation of the carbon impurity(S5000).

Abstract translation: 目的：提供一种用于诊断等离子体金属有机化学气相沉积工艺中碳杂质生成的方法，以通过控制碳杂质减少到薄膜来减少碳杂质的沉降，从而通过过度分析产生碳杂质 的前兆。 构成：用于等离子体金属有机化学气相沉积工艺的相应金属有机前体的碳杂质的参考光谱数据存储在计算机中（S1000）。 将蒸发的金属有机前体注入到在反应炉中形成的等离子体中以进行分析（S2000）。 检测等离子体和解离的金属有机前体的相应分子的光谱数据并传送到计算机（S3000）。 将检测到的光谱数据与参考光谱数据进行比较，以确定是否产生碳杂质（S4000）。 根据碳杂质的产生判定，输出报警声（S5000）。

公开(公告)号：KR1020050011358A

公开(公告)日：2005-01-29

申请号：KR1020030050408

申请日：2003-07-23

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 김정형 ,  신용현 ,  정광화 ,  최상철

IPC: G01R27/04

CPC classification number: H01J37/32935 ,  H05H1/0062

Abstract: PURPOSE: An apparatus for measuring and monitoring plasma electron density is provided to improve reliability of a plasma etching operation by measuring plasma electron densities using characteristic frequencies for each of the electron densities. CONSTITUTION: An apparatus for measuring and monitoring plasma electron density includes a chamber(100), an electromagnetic wave transceiver, an electromagnetic wave generator(300), a frequency analyzer(400), and a computer(600). The chamber contains plasma(2000) having varying electron density. The electromagnetic wave transceiver is implemented on one side of the chamber to correlate the density of the plasma to the frequency of the emitted electromagnetic wave. The electromagnetic wave generator is electrically coupled with the electromagnetic wave transceiver to repeatedly emit electromagnetic waves having a predetermined bandwidth. The frequency analyzer scans the electromagnetic wave received at the electromagnetic wave transceiver. The computer calculates the correlation between the frequency of the emitted electromagnetic wave and the electron density.

Abstract translation: 目的：提供一种用于测量和监测等离子体电子密度的装置，以通过使用每个电子密度的特征频率来测量等离子体电子密度来提高等离子体蚀刻操作的可靠性。 构成：用于测量和监测等离子体电子密度的装置包括室（100），电磁波收发器，电磁波发生器（300），频率分析器（400）和计算机（600）。 该室包含具有不同电子密度的等离子体（2000）。 电磁波收发器在室的一侧上实现，以将等离子体的密度与发射的电磁波的频率相关联。 电磁波发生器与电磁波收发器电耦合以重复地发射具有预定带宽的电磁波。 频率分析仪扫描电磁波收发器接收到的电磁波。 计算机计算发射的电磁波的频率与电子密度之间的相关性。

公开(公告)号：KR1020020075475A

公开(公告)日：2002-10-05

申请号：KR1020010015394

申请日：2001-03-24

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 성대진 ,  신용현 ,  김정형 ,  임종연 ,  정광화

IPC: G01P5/08

CPC classification number: G01F1/698 ,  G01F1/684

Abstract: PURPOSE: A gas flow rate distribution anemometer is provided, which obtains a flow rate distribution at a scanned plane as scanning vertically to a direction of the flow rate by extending a sensor arrangement and visualizes it. CONSTITUTION: According to an apparatus for measuring a flow rate distribution of a gas, metal lines(11) are arranged serially, and a current line(12a,12b) is connected to both ends of the above metal line and flows a current to the metal lines. And lead lines(13) are connected to the above metal lines with a constant gap. The anemometer measures a spatial flow rate distribution by detecting a voltage difference between adjacent lead lines as flowing a constant current to the metal line through the above current line.

Abstract translation: 目的：提供一种气体流量分布风速计，其通过延伸传感器装置并使其可视化而获得扫描平面上的流量分布，垂直扫描流量方向。 构成：根据用于测量气体的流量分布的装置，金属线（11）被串联布置，并且电流线（12a，12b）连接到上述金属线的两端，并将电流流向 金属线。 并且导线（13）以一定间隙连接到上述金属线。 风速计通过检测相邻引线之间的电压差来测量空间流量分布，使得通过上述电流线将恒定电流流向金属线。

公开(公告)号：KR1019980016180A

公开(公告)日：1998-05-25

申请号：KR1019960035704

申请日：1996-08-27

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 정광화 ,  장홍영

IPC: H01J27/00

Abstract: 본 발명은 이온드래그 진공펌프를 개시한다. 개시된 진공펌프는 몸체에 마련되며 이온을 발생시키는 이온발생수단과; 상기 이온발생수단에 의해 발생된 이온을 가속시킴으로써 이온 주위의 기체를 외부로 배출시키는 이온드래그수단과; 배출되는 이온을 중성화시키는 이온중성화수단을 포함한다. 따라서, 진폭, 소음 그리고 오염이 없는 진공시스템의 구성이 가능하고, 회로의 구성을 단순화시킬 수 있고, 소형경량화시킬 수 있어 휴대용으로도 발전시킬 수 있는 장점이 있다.