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公开(公告)号：AT498903T
公开(公告)日：2011-03-15
申请号：AT01963039
申请日：2001-07-31
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： SCHERER KARIN , LACAN PASCALE , BOSMANS RICHARD
Abstract: The invention concerns a method comprising evaporating silicon and/or SiOx, wherein said evaporating is further defined as occurring in the presenceof oxygen if silicon or SiOx with x less than two is being evaporated, to form a silicon oxide film at the surface of a substrate and in bombarding said silicon film, while it is being formed, with a beam of positive ions derived from both a polyfluorocarbon compound and a rare gas. The invention is useful for producing low-index antiglare films.
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公开(公告)号：FR2843406A1
公开(公告)日：2004-02-13
申请号：FR0210110
申请日：2002-08-08
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： SCHERER KARIN , LACAN PASCALE , ROISIN PHILIPPE , BOSMANS RICHARD
Abstract: The production of a stabilized thin layer of silica doped with SiOxFy fluorite comprises the formation on a layer of silica oxyfluoride, of a protective layer of silica and/or a metal oxide by vapor phase deposition with ionic assistance consisting of bombarding the layer during formation with a beam of positive ions formed from a rare gas, oxygen or a mixture of the two or more of these gases. Independent claims are also included for: (a) a stabilized thin layer of silica doped with silica oxyfluoride produced by this method; (b) a multi-layer anti-glare coating incorporating such a stabilized thin layer; and (c) an ophthalmic lens of organic glass including the anti-glare coating.
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公开(公告)号：FR3051000B1
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：FR1654138
申请日：2016-05-09
Applicant: CORP DE LECOLE POLYTECHNIQUE DE MONTREAL , ESSILOR INT
Inventor： TROTTIER-LAPOINTE WILLIAM , ZABEIDA OLEG , MARTINU LUDVIK , SCHMITT THOMAS , SCHERER KARIN
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公开(公告)号：BRPI1016050A2
公开(公告)日：2016-05-10
申请号：BRPI1016050
申请日：2010-03-26
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： PASSARD DELPHINE , CONTE DOMINIQUE , SIRJEAN JEAN-LOUIS , SCHERER KARIN
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35.发明专利
公开(公告)号：FR2985255B1
公开(公告)日：2015-08-07
申请号：FR1162492
申请日：2011-12-28
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：BRPI0812708A2
公开(公告)日：2014-12-23
申请号：BRPI0812708
申请日：2008-06-12
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： NOUVELOT LUC , ROTTE JOHANN , SCHERER KARIN , VALLET DANIEL
Abstract: The invention relates to an optical article provided with antireflection properties, comprising a substrate having at least one main surface coated with an antireflection coating comprising, starting from the substrate: a sub-layer comprising two adjacent layers formed from the same material, the sum of the thicknesses of the two adjacent layers being greater than or equal to 75 nm; and a multilayered antireflection stack comprising at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer, the deposition of the first of said two adjacent layers of the sub-layer having been carried out without ion assistance and the deposition of the second of said two adjacent layers of the sub-layer having been carried out under ion assistance. The invention also relates to a process for manufacturing such an optical article.
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37.发明专利
公开(公告)号：FR3007024A1
公开(公告)日：2014-12-19
申请号：FR1355604
申请日：2013-06-14
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CHIAROTTO SEBASTIEN , FAURE BRUCE , PEGA STEPHANIE , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'une couche A en contact direct avec un revêtement B externe hydrophobe, caractérisé en ce que ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse, contenant dans sa structure : - au moins un atome de carbone, - au moins un atome d'hydrogène, - au moins un groupe Si-X, où X est un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable choisi parmi les groupes H, halogène, alcoxy, aryloxy, acyloxy, -NR1R2 où R1 et R2 désignent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle, et -N(R3)-Si où R3 désigne un groupe alkyle ou un groupe aryle, ledit composé C n'étant ni le tétraméthyldisiloxane, ni le tétraéthoxysilane, ni le vinylméthyldiéthoxysilane, ni l'hexaméthylcyclotrisilazane, ladite couche A n'étant pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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38.发明专利
公开(公告)号：FR2985255A1
公开(公告)日：2013-07-05
申请号：FR1162492
申请日：2011-12-28
Applicant: ECOLE POLYTECH , ESSILOR INT
Inventor： MARTINU LUDVIK , SAPIEHA JOLANTA , ZABEIDA OLEG , CHIAROTTO SEBASTIEN , SCHERER KARIN
Abstract: L'invention concerne un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel multicouche, ledit revêtement comprenant une couche A ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, caractérisé en ce que : ladite couche A constitue : o soit la couche externe du revêtement interférentiel, o soit une couche intermédiaire, directement en contact avec la couche externe du revêtement interférentiel, cette couche externe du revêtement interférentiel étant une couche B ayant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, et ladite couche A a été obtenue par dépôt, sous faisceau d'ions, d'espèces activées issues d'au moins un composé C, sous forme gazeuse contenant dans sa structure au moins un atome de silicium, au moins un atome de carbone, au moins un atome d'hydrogène et, optionnellement au moins un atome d'azote et/ou au moins un atome d'oxygène, le dépôt de la dite couche A s'effectuant en présence d'azote et/ou d'oxygène lorsque le composé A ne contient pas d'azote et/ou d'oxygène et ladite couche A n'est pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.
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公开(公告)号：FR2976680A1
公开(公告)日：2012-12-21
申请号：FR1155179
申请日：2011-06-14
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： CALBA PIERRE JEAN , MARTIN JOSEPH , SCHERER KARIN , THUILLIER ALAIN , WILLEMIN GERARD
IPC: G02B1/10
Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un article optique comprenant, (a) la mise à disposition d'un substrat organique à base d'un polymère organique ayant un taux de reprise en eau supérieur ou égal à 0,6 % en masse par rapport à la masse totale dudit substrat, choisi de préférence parmi les polythiouréthannes thermodurcis, le taux de reprise en eau étant égale à la masse d'eau absorbée par le matériau après séchage puis stockage pendant 800 heures dans une enceinte à 50 °C sous une humidité relative de 100 % et à pression atmosphérique, (b) une étape de formation d'un revêtement dur résistant à l'abrasion, sur ledit substrat organique, cette étape comprenant le chauffage du substrat à une température supérieure ou égale à 90 °C pendant une durée d'au moins 20 minutes, (c) une étape d'exposition du substrat organique recouvert du revêtement dur résistant à l'abrasion à une atmosphère humide de manière à restituer au substrat organique l'eau évaporée au cours de l'étape (b), (d) une étape de dépôt d'un revêtement minéral imperméable à l'eau par évaporation sous vide.
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公开(公告)号：DE60144049D1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：DE60144049
申请日：2001-07-31
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： SCHERER KARIN , LACAN PASCALE , BOSMANS RICHARD
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