公开(公告)号：DE112009003724B4

公开(公告)日：2017-07-13

申请号：DE112009003724

申请日：2009-12-04

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  TOMIMATSU SATOSHI

IPC: H01J37/073

Abstract: Verwendung eines Elektronenstrahlgeräts mit einer Schottky-Emissions-Elektronenquelle, die eine Einkristall-Wolframmetallnadel (1) als Elektronenemissionsquelle, eine Zirkonium-Sauerstoff(Zr-O)-Diffusionsquelle (2), eine Heizeinrichtung (3) und eine Unterdrückerelektrode (6) aufweist, einer Extraktionselektrode (11) zum Extrahieren von Elektronen von der Schottky-Emissions-Elektronenquelle, und einer über einer Objektivlinse angeordneten Booster-Elektrode (20) zum Beschleunigen der extrahierten Elektronen, wobei die Einkristall-Wolframmetallnadel (1) einen zylindrischen Abschnitt, einen auf dem zylindrischen Abschnitt angeordneten und von diesem ausgehenden eingeschnürten Teil mit konischer Form sowie einen von dem eingeschnürten Teil ausgehenden, etwa konischen Teil aufweist, und wobei die Elektronen emittierende Spitze des konischen Teils als Halbkugel angenommen einen Krümmungsradius r aufweist, der größer als 0,5 μm und kleiner als 1 μm ist, und der konische Teil einen Konuswinkel α von mehr als 5° und weniger als (8/r)° aufweist, wobei der Konuswinkel der Öffnungswinkel eines den konischen Teil bildenden Konus ist und r in Mikrometereinheiten (μm) angegeben ist, wobei das Elektronenstrahlgerät: in einem Betriebsmodus zur Untersuchung einer Probe mit niedriger Beschleunigungsspannung und hoher Auflösung, bei einer Spannung (Vs) von –0,3 kV bis –0,7 kV an der Unterdrückerelektrode (6), einer Extraktionsspannung (V1) von 2,5 kV bis 3 kV angelegt an der Extraktionselektrode (11), und einer Spannung (Vb) an der Booster-Elektrode (20) zum Beschleunigen der Elektronen und einer Verzögerungsspannung (VT) an der Probe zum Verzögern der auf die Probe auftreffenden Elektronen auf eine Energie im Bereich von 50 eV bis 1 keV, sowie ...

公开(公告)号：DE112015000433T5

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：DE112015000433

申请日：2015-01-09

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： SHOUJI MINAMI ,  OHSHIMA TAKASHI ,  OOMINAMI YUUSUKE ,  MORISHITA HIDEO ,  HARADA KUNIO

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/244

Abstract: Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Bildbetrachtung durch durchgelassene geladene Teilchen einfach auszuführen. Eine Probe, die durch einen Strahl geladener Teilchen bestrahlt wird, wird direkt oder über ein vorgegebenes Element auf einem lichtemittierenden Element (23) angeordnet, worin geladene Teilchen eintreten, welche die Probe durchquert haben oder in der Probe gestreut wurden, wodurch bewirkt wird, dass davon Licht emittiert wird, das unter Verwendung eines Lichtübertragungsmittels (203) wirksam gesammelt und detektiert wird, um ein durch durchgelassene geladene Teilchen erhaltenes Bild der Probe zu erzeugen.

公开(公告)号：DE112014002139T5

公开(公告)日：2016-01-14

申请号：DE112014002139

申请日：2014-04-14

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： IMAI YUTA ,  MORISHITA HIDEO ,  OHSHIMA TAKASHI

IPC: H01J37/073 ,  H01J27/26 ,  H01J37/06 ,  H01J37/063 ,  H01J37/08 ,  H01J37/28

Abstract: Zweck der vorliegenqden Erfindung ist es, eine Ladungsteilchenkanone bereitzustellen, die nur eine elektrostatische Linse verwendet, welche Ladungsteilchenkanone relativ klein ist und eine geringere Aberration hat, und eine Ladungsteilchenkanone des Feldemissionstyps bereitzustellen, die auch bei einem hohen Strom eine hohe Luminanz hat. Diese Ladungsteilchenkanone hat: eine Ladungsteilchenquelle; eine Beschleunigungselektrode, die von der Ladungsteilchenquelle emittierte geladene Teilchen beschleunigt; eine Steuerelektrode, die weiter zu der Seite der Ladungsteilchenquelle hin als die Beschleunigungselektrode angeordnet ist und die einen größeren Öffnungsdurchmesser als den Öffnungsdurchmesser der Beschleunigungselektrode hat; und einen Steuerabschnitt, der ein an die Steuerelektrode anzulegendes Potenzial auf der Grundlage eines an die Beschleunigungselektrode angelegten Potenzials steuert.

公开(公告)号：CZ2013115A3

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CZ2013115

申请日：2011-07-07

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  HATANO MICHIO ,  MORISHITA HIDEO

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: Tento vynález navrhuje prístroj s elektronovým svazkem obsahující prostredky pro vizualizování osového posunutí zpomalovacího elektrického pole a prostredky pro úpravu osového posunutí. Prostredky pro vizualizování osového posunutí obsahují reflexní desticku (6) a optický systém (2, 3) pro smerování sekundárního elektronového svazku (9) na reflexní desticku (6) a prostredky pro úpravu osového posunutí obsahují mechanismus (8) pro naklápení a otácení stolku (5) na vzorek. S tímto usporádáním lze v prístroji s elektronovým svazkem, napríklad v rastrovacím elektronovém mikroskopu apod., vyloucit takové problémy, jako je posunutí zorného pole zpusobené posunutím osové symetrie elektrického pole mezi cockou (3) objektivu a vzorkem (4) a neschopnost merit sekundární elektrony a odrazené elektrony, které poskytují zádoucí informace.

公开(公告)号：CZ20130115A3

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CZ20130115

申请日：2011-07-07

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  HATANO MICHIO ,  MORISHITA HIDEO

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/261 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/153 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/20207 ,  H01J2237/20221

Abstract: Tento vynález navrhuje prístroj s elektronovým svazkem obsahující prostredky pro vizualizování osového posunutí zpomalovacího elektrického pole a prostredky pro úpravu osového posunutí. Prostredky pro vizualizování osového posunutí obsahují reflexní desticku (6) a optický systém (2, 3) pro smerování sekundárního elektronového svazku (9) na reflexní desticku (6) a prostredky pro úpravu osového posunutí obsahují mechanismus (8) pro naklápení a otácení stolku (5) na vzorek. S tímto usporádáním lze v prístroji s elektronovým svazkem, napríklad v rastrovacím elektronovém mikroskopu apod., vyloucit takové problémy, jako je posunutí zorného pole zpusobené posunutím osové symetrie elektrického pole mezi cockou (3) objektivu a vzorkem (4) a neschopnost merit sekundární elektrony a odrazené elektrony, které poskytují zádoucí informace.

公开(公告)号：DE112010005188T5

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：DE112010005188

申请日：2010-08-11

Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

Inventor： HATANO MICHIO ,  WATANABE YASUKO ,  SATO MITSUGU ,  HONDA HIROYUKI ,  SAWAHATA TETSUYA ,  ITO SUKEHIRO ,  OHSHIMA TAKASHI

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: Ziel ist es, mit Elektronen, die an einer Probe (50) erzeugt werden und die eine Energie von nicht weniger als 1 keV und nicht mehr als der Einstrahlungsenergie eines primären Elektronenstrahls haben, in einem Rasterelektronenmikroskop mit einem primären Elektronenstrahl (3) als Sonde auf einfache und wirkungsvolle Weise eine elektronische Energie-Bandpaß-Rasterelektronenmikroskopabbildung zu erzeugen, wobei der primäre Elektronenstrahl mit einer Energie von 1 kV bis 200 kV beschleunigt wird. Beschrieben wird eine Vorrichtung zum Bestrahlen mit geladenen Teilchen mit einer Quelle für geladene Teilchen, die als Sonde dienen, mit einem optischen System für die geladenen Teilchen, mit einem Probentisch (49), mit einem Vakuumpumpsystem, mit einer Blende zum Begrenzen der Sonde, mit einer leitenden Schicht (1) und mit einem Detektor (2) für geer Stelle außerhalb der optischen Achse des optischen Systems zwischen dem Probentisch und der Blende angeordnet ist, wobei der Abstand zwischen der Erfassungsfläche des Detektor für geladene Teilchen und dem Probentisch größer ist als der Abstand zwischen dem Probentisch und der leitenden Schicht, und wobei die Oberfläche der leitenden Schicht und die Erfassungsfläche des Detektors geneigt sind.