附载体的铜箔及用有附载体的铜箔的覆铜积层板

    公开(公告)号:CN104685109B

    公开(公告)日:2017-12-05

    申请号:CN201380049406.2

    申请日:2013-09-27

    CPC classification number: C25D7/0614 C25D5/14 H05K3/382 H05K3/389 H05K3/4652

    Abstract: 一种附表面处理层的铜箔,其特征在于:在铜箔或铜合金箔上具有由通过实施粗化处理所形成的粗化处理层、形成在该粗化处理层上的由Ni‑Co层所构成的耐热层、及形成在该耐热层上的含有Zn、Ni、Cr的耐候层及防锈层构成的多个表面处理层,上述表面处理层中的总Zn量/(总Zn量+总Ni量)为0.02以上0.35以下,上述表面处理层中的总Ni量为1600μg/dm2以下。本发明提供一种附载体的铜箔,其是使用有在铜箔的表面实施粗化处理后在其上形成耐热层、防锈层后再实施硅烷偶合处理的印刷电路用铜箔的覆铜积层板,并且在形成精细图案印刷电路后对基板实施酸处理或化学蚀刻时,可提高对因酸渗入铜箔电路与基板树脂的界面所引起的密接性降低的抑制,耐酸性密接强度优异,且碱蚀刻性优异。

    印刷电路用铜箔
    33.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103958743B

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201280054151.4

    申请日:2012-10-31

    Abstract: 本发明涉及一种印刷电路用铜箔,其在铜箔的表面形成铜的一次粒子层后,在该一次粒子层上形成由铜、钴及镍构成的3元系合金的二次粒子层,其特征在于,粗化处理面的一定区域的利用激光显微镜观察到的高度直方图的平均值为1500以上。还提供根据技术方案1所述的印刷电路用铜箔,其特征在于,所述铜的一次粒子层的平均粒径为0.25-0.45μm,由铜、钴及镍构成的3元系合金所构成的二次粒子层的平均粒径为0.35μm以下。本发明提供一种通过在铜箔的表面形成铜的一次粒子层后,在其上形成由镀铜-钴-镍合金构成的二次粒子层,将粗化处理面的利用激光显微镜观察到的高度直方图的平均值设为1500以上,从而能够减少来自铜箔的掉粉的产生,提高剥离强度并且提高耐热性的印刷电路用铜箔。

    附载体的铜箔及用有附载体的铜箔的覆铜积层板

    公开(公告)号:CN104685109A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201380049406.2

    申请日:2013-09-27

    CPC classification number: C25D7/0614 C25D5/14 H05K3/382 H05K3/389 H05K3/4652

    Abstract: 一种附表面处理层的铜箔,其特征在于:在铜箔或铜合金箔上具有由通过实施粗化处理所形成的粗化处理层、形成在该粗化处理层上的由Ni-Co层所构成的耐热层、及形成在该耐热层上的含有Zn、Ni、Cr的耐候层及防锈层构成的多个表面处理层,上述表面处理层中的总Zn量/(总Zn量+总Ni量)为0.02以上0.35以下,上述表面处理层中的总Ni量为1600μg/dm2以下。本发明提供一种附载体的铜箔,其是使用有在铜箔的表面实施粗化处理后在其上形成耐热层、防锈层后再实施硅烷偶合处理的印刷电路用铜箔的覆铜积层板,并且在形成精细图案印刷电路后对基板实施酸处理或化学蚀刻时,可提高对因酸渗入铜箔电路与基板树脂的界面所引起的密接性降低的抑制,耐酸性密接强度优异,且碱蚀刻性优异。

Patent Agency Ranking