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    SYSTÈME COMPACT D'ANALYSE PAR RAYONS-X
    31.
    发明申请
    SYSTÈME COMPACT D'ANALYSE PAR RAYONS-X 审中-公开
    紧凑的X射线分析系统

    公开(公告)号：WO2011086191A1

    公开(公告)日：2011-07-21

    申请号：PCT/EP2011/050568

    申请日：2011-01-18

    Applicant: XENOCS ,  PANINE, Pierre ,  HOGHOJ, Peter

    Inventor： PANINE, Pierre ,  HOGHOJ, Peter

    IPC: G01N23/201

    CPC classification number: G01N23/201

    Abstract: L'invention concerne un dispositif de délivrance d'un faisceau de rayons-X pour l'analyse d'un échantillon (50), comprenant : - un bloc source (100) comprenant des moyens d'émission de rayons-X; - un bloc optique (200) placé en aval du bloc source (100), ledit bloc optique (200) comprenant un composant optique monochromateur (210) ayant une surface réfléchissante (212) prévue pour conditionner des rayons-X émis par le bloc source (100) selon un effet optique monodimensionnel ou bidimensionnel; et - des moyens de définition (300) des rayons-X comprenant : o un organe (310) anti-diffusant de délimitation spatiale des rayons-X conditionnés par le composant optique monochromateur (210), placé en aval du composant optique monochromateur (210) et comprenant une ou plusieurs plaques (311) ayant des portions (313) agencées pour former un orifice de délimitation (312), lesdites portions (313) étant revêtues d'un matériau monocristallin limitant la diffusion de rayons-X; o un organe (320) de coupure des rayons-X émis par le bloc source (100), comprenant des moyens d'absorption de rayons-X agencés dans le dispositif de délivrance pour couper les faisceaux directs de rayons-X susceptibles d'atteindre l'organe (310) anti-diffusant de délimitation spatiale sans conditionnement par le composant optique monochromateur (210).

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于传送用于分析样品（50）的X射线束的装置，包括：源单元（100），包括X射线发射装置; 设置在所述源块（100）下游的光学单元（200），所述光学块（200）包括光学单色仪部件（210），所述光学单色仪部件具有被设计成调节由所述源单元发射的X射线的反射表面（212） 100）使用一维或二维光学效应; 和X射线定义装置（300），包括：准直构件（310），用于空间地限定由光学单色仪部件（210）调节的X射线，设置在光学单色仪部件（210）的下游，并且包括一个或多个板 （311），其具有布置成形成限定孔（312）的部分（313），所述部分（313）涂覆有限制X射线扩散的单晶材料; 用于由所述源单元（100）发射的X射线的切断构件（320），包括布置在所述输送装置中的X射线吸收装置，以切断易于到达所述空间定界准直构件（310）的直接X射线束 ），而不用光学单色器部件（210）进行调理。

    ENSEMBLE OPTIQUE DE COQUES RÉFLECTIVES ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
    32.
    发明申请
    ENSEMBLE OPTIQUE DE COQUES RÉFLECTIVES ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ 审中-公开
    反射镜的光学组件及相关方法

    公开(公告)号：WO2007135183A1

    公开(公告)日：2007-11-29

    申请号：PCT/EP2007/055034

    申请日：2007-05-24

    Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, Peter ,  RODRIGUES, Sergio

    Inventor： HOGHOJ, Peter ,  RODRIGUES, Sergio

    IPC: G21K1/06

    CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/067

    Abstract: L'invention concerne un ensemble optique comprenant un empilement d'une pluralité de coques réflectives (10;20), chaque coque réflective comprenant un substrat (11) ayant une face arrière (111) comprenant une pluralité de nervures (111 ) formant entretoise et une face avant (112), et un revêtement réflecteur (12) pour rayons X déposé sur la face avant (112) du substrat (11), caractérisé en ce que chaque coque réflective (10) comprend en outre une couche d'adhésion (13) déposée sur le revêtement réflecteur (12), la couche d'adhésion (13) étant une couche mince formée dans un matériau inorganique permettant une adhésion moléculaire avec la face arrière du substrat (21) de la coque réflective adjacente (20). L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel ensemble optique.

    Abstract translation: 本发明涉及一种光学组件，其包括多个反射壳体（10; 20）的叠层，其中每个反射壳体包括具有多个间隔肋（111）的背面（111）和 前表面（112）和沉积在基板（11）的前表面（112）上的X射线反射涂层（12），其特征在于，每个反射壳体（10）还包括粘附层（13） 所述反射涂层（21），所述粘合剂层（13）是由能够与所述相邻反射壳体（20）的所述基板（21）的背面分子粘合的无机材料制成的薄层。 本发明还涉及制造这种光学组件的方法。

    A METHOD FOR PRODUCING A REPLICATION MASTER, REPLICATION METHOD AND REPLICATION MASTER
    33.
    发明申请
    A METHOD FOR PRODUCING A REPLICATION MASTER, REPLICATION METHOD AND REPLICATION MASTER 审中-公开
    一种生产复制主体，复制方法和复制主体的方法

    公开(公告)号：WO2005051626A1

    公开(公告)日：2005-06-09

    申请号：PCT/EP2004/053158

    申请日：2004-11-29

    Applicant: XENOCS S.A. ,  HOGHOJ, Peter ,  SIEBRECHT, Ralf ,  RODRIGUES, Sergio

    Inventor： HOGHOJ, Peter ,  SIEBRECHT, Ralf ,  RODRIGUES, Sergio

    IPC: B29C33/38

    CPC classification number: B29C33/56 ,  B29C33/3878 ,  B29C33/58 ,  B29C33/62 ,  B29C39/126 ,  B29K2995/0073

    Abstract: In a method for producing a replication master (10) having a surface with low roughness, comprising the steps of forming said master (10) such as to have a desired external surface shape corresponding to a counterform of a surface of an object (18, 20) to be produced by replication and treating said external surface of said master (10) to obtain a predetermined surface roughness value, it is proposed that said method furthermore comprises the step of coating at least a part of said master (10) with a soluble smoothening layer (16). The invention further relates to a replication master (10) for producing a smooth object (18, 20) having a low surface roughness, wherein at least a part of said master (10) is coated with a soluble smoothening layer (16).

    Abstract translation: 在制造具有低粗糙度的表面的复制主体（10）的方法中，包括以下步骤：形成所述主体（10），以便具有对应于物体表面（18,18）的反面形状的期望的外表面形状， 20）通过复制和处理所述母盘（10）的所述外表面以获得预定的表面粗糙度值来产生，所以提出所述方法还包括以下步骤：将所述母版（10）的至少一部分涂覆到所述母版 可溶性平滑层（16）。 本发明还涉及一种用于生产具有低表面粗糙度的光滑物体（18,20）的复制主体（10），其中所述主体（10）的至少一部分涂覆有可溶平滑层（16）。

    OPTICAL DEVICE FOR X-RAY APPLICATIONS
    34.
    发明申请
    OPTICAL DEVICE FOR X-RAY APPLICATIONS 审中-公开
    用于X射线应用的光学装置

    公开(公告)号：WO2004001769A8

    公开(公告)日：2005-01-06

    申请号：PCT/FR0301879

    申请日：2003-06-19

    Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ PETER ,  DARIEL AURELIEN ,  RODRIGUES SERGIO

    Inventor： HOGHOJ PETER ,  DARIEL AURELIEN ,  RODRIGUES SERGIO

    IPC: G01N23/20 ,  G21K1/06 ,  G21K3/00

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

    Abstract: The invention relates to an optical device which is intended to process an incident X-ray beam. The inventive device comprises: a monochromator; and an optical incident beam-conditioning element with a reflecting surface which can produce a bi-dimensional optical effect in order to adapt a beam directed towards the monochromator, the aforementioned optical element comprising a multi-layered, X-ray-reflecting surface. The invention is characterised in that the reflecting surface comprises a single surface, said reflecting surface being curved in two different directions.

    Abstract translation: 本发明涉及一种旨在处理入射的X射线束的光学装置。 本发明的装置包括：单色器; 以及具有能够产生二维光学效果的反射面的光入射光束调节元件，以适应朝向单色仪的光束，上述光学元件包括多层的X射线反射表面。 本发明的特征在于，反射表面包括单个表面，所述反射表面在两个不同的方向上弯曲。

    PROCEDE PERFECTIONNE DE REVETEMENT D'UN SUPPORT, DISPOSITIF ET STRUCTURE ASSOCIES
    35.
    发明申请
    PROCEDE PERFECTIONNE DE REVETEMENT D'UN SUPPORT, DISPOSITIF ET STRUCTURE ASSOCIES 审中-公开
    用于覆盖与之相关的支持，设备和结构的高级方法

    公开(公告)号：WO2002097156A1

    公开(公告)日：2002-12-05

    申请号：PCT/FR2002/001829

    申请日：2002-05-31

    Applicant: XENOCS ,  HOGHOJ, PETER

    Inventor： HOGHOJ, PETER

    IPC: C23C14/46

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/46 ,  G03F1/24

    Abstract: l'invention propose un procédé de revêtement d'un support (30) par une couche de particules issues d'un ensemble de cible (20), le procédé comprenant la mise en oeuvre d'une source d'ions (10) pour diriger un faisceau d'ions (100) vers ledit ensemble de cible, afin de générer un flux de particules (F) issues de l'interaction entre le faisceau d'ions et l'ensemble de cible, en vue de déposer au moins une partie du flux de particules sur le support, caractérisé en ce que le procédé comprend la mise en mouvement sélective du faisceau d'ions entre la source d'ions et l'ensemble de cible pour balayer l'ensemble de cible de manière à réaliser des revêtements ayant une épaisseur contrôlée selon un profil désiré. L'invention propose également une structure et un filtre réalisé par un tel procédé.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用目标实体（20）产生的颗粒层覆盖支撑体（30）的方法，所述方法包括实现离子源（10），用于将离子束（100）引向所述目标 实体，以便产生由离子束和目标实体之间的相互作用产生的粒子通量（F），以便将至少一部分颗粒通量沉积在载体上，其特征在于该方法包括设定离子 在离子源和目标实体之间射入运动以便以创建覆盖物的方式扫描目标实体，所述覆盖物根据期望的轮廓具有受控的厚度。本发明还涉及一种结构和过滤器 根据所述方法。

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