Method Of Manufacturing A Probe Comprising A Cantilever With A Conduit
    31.
    发明申请
    Method Of Manufacturing A Probe Comprising A Cantilever With A Conduit 有权
    制造包含导管的悬臂的探针的方法

    公开(公告)号:US20130305519A1

    公开(公告)日:2013-11-21

    申请号:US13978502

    申请日:2012-01-13

    Applicant: Edin Sarajlic

    Inventor: Edin Sarajlic

    Abstract: The present invention relates to a method of manufacturing a probe comprising a cantilever with a conduit. According to the invention, an etchant window is provided in a layer covering an elongated sacrificial conduit core that is to form the conduit. This allows for an etching process where the elongated sacrificial conduit core is etched away before all material of a substrate is etched away, the remaining material of the substrate material making the probe stronger without being in the way during use of the probe.

    Abstract translation: 本发明涉及一种制造探针的方法,该探针包括具有导管的悬臂。 根据本发明,在覆盖要形成导管的细长牺牲导管芯的层中提供蚀刻剂窗口。 这允许蚀刻工艺,其中在衬底的所有材料被蚀刻掉之前,细长的牺牲导管芯被蚀刻掉,使衬底材料的剩余材料在探针的使用期间不会妨碍探针而不会妨碍。

    PIPETTENVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
    34.
    发明申请
    PIPETTENVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG 审中-公开
    移液器装置和方法及其

    公开(公告)号:WO2003000421A1

    公开(公告)日:2003-01-03

    申请号:PCT/EP2002/006855

    申请日:2002-06-20

    CPC classification number: B81C1/00087 B01L3/0241 B81B2201/057

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung insbesondere für ein Patch-Clamping von Vesikeln und/oder für ein Dispensieren von kleinen, definierten Flüssigkeitsmengen auf Oberflächen, bei welcher in einem Substrat (2) zumindest eine Pipette in Form eines Durchgangsloches (8) mit einem vorbestimmten Durchmesser ausgebildet ist, wobei ein Rand (16) des Durchgangsloches (8) um ein vorbestimmtes Mass von einer benachbarten Oberfläche (4) des Substrats (2) vorsteht, und ein Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung mit folgenden Schritten: Ausbilden zumindest eines Loches (8), Ausbilden zumindest einer veränderten Oberflächenschicht (12) auf zumindest den Innenflächen des Loches (8), selektives Abtragen des Substrates (2), wobei die veränderte Oberflächenschicht (12) im wesentlichen nicht angegriffen wird, so dass diese über eine Oberfläche (4) des Substrats vorsteht und einen vorstehenden Rand (16) bildet, wobei das Loch (8) in einem geeigneten Verfahrensschritt als Durchgangsloch ausgebildet wird.

    Abstract translation: 本发明涉及一种在特定的装置为囊泡的膜片钳和/或用于液体在表面上的小的限定数量的分配,其中,在基板(2)形成的至少一个移液管中的通孔(8)的形式,具有预定直径 是从相邻表面(4)的基板(2),以及用于制造具有以下步骤的装置的方法的所述通孔(8)以预定量突出的边缘(16):形成至少一个孔(8), 至少在孔的内表面上形成至少一个改性的表面层(12)(8),选择性地去除所述衬底(2),其中,所述改性表面层(12)是基本不受影响,使得那些在其一个表面(4)的基板的 突出并突出边缘(16),其中在合适的工艺步骤为通孔的孔(8) 形成。

    A METHOD OF MANUFACTURING A PLURALITY OF THROUGH-HOLES IN A LAYER
    36.
    发明公开
    A METHOD OF MANUFACTURING A PLURALITY OF THROUGH-HOLES IN A LAYER 审中-公开
    一种在一层中制造多个通孔的方法

    公开(公告)号:EP3210936A1

    公开(公告)日:2017-08-30

    申请号:EP17158208.3

    申请日:2017-02-27

    Applicant: SmartTip B.V.

    Inventor: SARAJLIC, Edin

    Abstract: A method of manufacturing a plurality of through-holes (132) in a layer (250) of first material (220) by subjecting part of the layer (250) of said first material (220) to ion beam milling. For batch-wise production, the method comprises
    - after a step of providing the layer (250) of first material (220) and before the step of ion beam milling, providing a second layer (250) of a second material (230) on the layer (250) of first material (220),
    - providing the second layer (250) of the second material (230) with a plurality of holes, the holes being provided at central locations of pits (210) in the first layer (250), and
    - subjecting the second layer (250) of the second material (230) to said step of ion beam milling at an angle using said second layer (250) of the second material (230) as a shadow mask.

    Abstract translation: 一种通过使所述第一材料(220)的一部分层(250)经受离子束铣削而在第一材料(220)的层(250)中制造多个通孔(132)的方法。 对于分批式生产,该方法包括: - 在提供第一材料(220)的层(250)并且在离子束铣削步骤之前,提供第二材料(230)的第二层(250) 第一材料(220)的层(250), - 为第二材料(230)的第二层(250)提供多个孔,所述孔设置在第一层中的凹坑(210)的中心位置处 以及 - 使用所述第二材料(230)的所述第二层(250)作为阴影掩模以一定角度使所述第二材料(230)的所述第二层(250)经受所述离子束铣削步骤。

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