公开(公告)号：CN110277293A

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201910106940.1

申请日：2019-02-02

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 陈志刚 ,  阿列克谢·马拉霍塔诺夫 ,  约翰·帕特里克·霍兰德 ,  普拉提克·雅各布·曼凯地 ,  安东尼·德拉·列拉 ,  哈利·金姆 ,  沈亨柱

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明涉及用于等离子体处理中均匀性控制的锥形上电极。一种用于衬底处理系统中的上电极包括下表面。所述下表面包括第一部分和第二部分，并且是面向等离子体的。所述第一部分包括具有第一厚度的第一表面区域。所述第二部分包括具有变化的厚度的第二表面区域，使得所述第二部分从第二厚度过渡到所述第一厚度。

公开(公告)号：CN109994352A

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201811201784.9

申请日：2018-10-16

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 埃文·爱德华·巴顿 ,  约翰·多尔蒂

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/317 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及用于等离子体处理室的电极。一种用于将射频功率传输到等离子体处理区的电极包括由半导体材料形成的板和形成在所述板的顶表面上并与所述板成一体的高导电率层。所述高导电率层具有比所述板的所述半导体材料的电阻低的电阻。所述电极包括分布的通孔。每个通孔延伸穿过所述电极的从所述高导电率层的顶表面到所述板的底表面的整个厚度。在一些实施方式中，板可以由硅材料形成，并且高导电率层可以是由板的硅材料形成的硅化物材料。

公开(公告)号：CN109216141A

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201710560156.9

申请日：2017-07-05

Applicant: 无锡诚承电子科技有限公司

Inventor： 方明江 ,  蔡成振

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/15 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明公开了一种离子引出系统驱动装置，包括：X轴运动模块、Y轴运动模块、Z轴运动模块、R轴运动模块、真空密封模块、电极模块，所述电极模块由引出地电极、抑制电极、绝缘瓷柱等构成，该装置主要作用是驱动真空腔室中的电极模块相对于离子源弧室引出板做相应的运动，提高束流的传输效率与品质，形成理想束流发射状态，变于后面光路部件充分发挥作用。

公开(公告)号：CN108463869A

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201680078107.5

申请日：2016-01-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 薮修平

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/147 ,  H01J37/21

Abstract: 本发明的目的在于在改变了光学条件的情况下也抑制光轴偏移，在本发明的一个实施方式中，具有：带电粒子源(1)，其释放出照射到样本(14)的带电粒子束(4)；聚焦透镜系统，其包括至少一个将带电粒子束(4)以预定的缩小率聚焦的聚焦透镜(7、8)；偏转器(5、6)，其位于上述聚焦透镜系统中最下游的聚焦透镜(8)与带电粒子源(1)之间，使带电粒子源(1)的虚拟位置移动；以及控制单元(20、21、22)，其控制偏转器(5、6)以及上述聚焦透镜系统，控制单元(20、21、22)控制偏转器(5、6)使带电粒子源(1)的虚拟位置移动到抑制由上述聚焦透镜系统的缩小率的变化引起的、上述聚焦透镜系统的下游的带电粒子束(4)的中心轨道的偏移的位置(36)。

公开(公告)号：CN107863284A

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201710234557.5

申请日：2017-04-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 宇根英康 ,  山元徹朗 ,  滝上佳宏

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/244 ,  G01T1/29

Abstract: 本发明涉及能够在任意方向上无缝隙地且连续地执行对带电粒子束的射束电流分布的测量。射束电流测量器件包括多个收集电极，这些收集电极的检测区域在收集电极的布置方向上无缝隙地连续。

公开(公告)号：CN107644800A

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201610582816.9

申请日：2016-07-22

Applicant: 北京中科信电子装备有限公司

Inventor： 不公告发明人

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子注入机用光路对中工装，该工装用于完成离子注入机关键光路部件位置校准，以保证离子束沿理论设计路线传输。该对中工装包括激光发射装置、可调整激光器固定架和光路部件工装，该对中工装可以实现对中束流离子注入机的离子源区与平行透镜区进行结构对中校准，保证注入机有最好品质与效率的离子束流传输。

公开(公告)号：CN105575748B

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201510915124.7

申请日：2015-12-11

Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所

Inventor： 张赛 ,  佘鹏程 ,  陈特超 ,  陈庆广

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/04 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明公开了一种提高大口径离子源离子束流均匀性的方法，其步骤为：S1:设置具有引出孔的栅网；将栅网安装在离子源放电室束流出口位置，对其束流密度均匀性进行测试，并绘出束流密度分布图A；S2：调整栅网上引出孔的分布；根据束流密度分布图A，调整栅网上引出孔的分布；将调整引出孔分布后的栅网安装在同一个离子源放电室相同束流出口位置，对其束流密度均匀性进行测试，并绘出束流密度分布图B；S3：二次调整栅网上引出孔的分布；根据束流密度分布图B，再细微调整栅网上引出孔的分布；S4：安装栅网；安装最终的栅网，离子源离子束均匀性即满足要求。本发明具有原理简单、操作简便、能够降低成本等优点。

公开(公告)号：CN107195519A

公开(公告)日：2017-09-22

申请号：CN201710552037.9

申请日：2017-07-07

Applicant: 桂林电子科技大学

Inventor： 韦寿祺 ,  刘胜 ,  秦玉江 ,  王斌 ,  李震 ,  岳庆功

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J37/32 ,  H01J37/32568 ,  H01J2237/32

Abstract: 本发明公开一种高能带电粒子束从真空到大气的引出窗口，其窗口的主体由等离子体纵向引射式气动窗口组成，利用了超音速等离子体的动能压力和等离子体高温双重隔离作用，引出窗口能获得极大的真空梯度，真空隔离效果极佳，此外，通过改变电极与主电源的正负极接线，可实现等离子体对通过其的带不同电性粒子束起向心汇聚作用。本发明能够解决高能带电粒子束加工制造装备在大气环境中进行加工制造存在的两大关键技术难题。

公开(公告)号：CN106158564B

公开(公告)日：2017-07-18

申请号：CN201610789739.4

申请日：2016-08-31

Applicant: 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司

Inventor： 刁克明

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/04 ,  H01J37/147

Abstract: 本发明涉及一种离子源，包括：气体电离装置、离子光学系统和等离子体桥式中和器，所述气体电离装置用于产生等离子体，所述离子光学系统用于从等离子体中抽取离子束并加速，所述等离子体桥式中和器用于向离子束发射电子生成中性离子束；所述离子源还包括检测系统和控制系统，其中检测系统用于检测离子源出射位置的等离子体电位径向分布，控制系统用于根据等离子体电位径向分布调整等离子体桥式中和器的阴极轴线与离子束轴线之间的夹角。本发明可以在离子源采用不同的离子束参数时，根据等离子体电位径向分布来动态调整等离子体桥式中和器的位置，从而达到最佳的中和效果。

公开(公告)号：CN106935463A

公开(公告)日：2017-07-07

申请号：CN201710107300.3

申请日：2017-02-27

Applicant: 成都京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 廖鹏宇 ,  蒋冬华 ,  赵吾阳 ,  姜龙 ,  宋亮 ,  谭超 ,  彭于航 ,  谢贤虹

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/3174

Abstract: 本发明提供一种用于干法刻蚀的承载装置和干法刻蚀设备，包括相对设置的上部电极和下部电极，以及设置于所述下部电极上面向所述上部电极的一面的待刻蚀基板，所述下部电极的面积不小于待刻蚀基板的面积。本发明的有益效果是：增大了基板的有效使用面积，提升基板边缘刻蚀率的有效性。