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公开(公告)号：CN112424924A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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公开(公告)号：CN106994645B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201610817482.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
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公开(公告)号：CN110919527A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201910887678.9
申请日：2019-09-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 在使用被划分为圆状或环状的薄膜的基板研磨装置中，在方形的基板的角部以及边部的中央的附近局部地对按压力进行调节是困难的。本发明公开了一种研磨头以及研磨装置，该研磨头是用于通过安装于研磨台的研磨垫来对方形的基板进行研磨的研磨装置的研磨头，具备：头主体部；多个弹性袋，该多个弹性袋设置于头主体部的应与研磨台相对的表面；以及基板保持板，该基板保持板用于保持基板，并且由弹性袋向远离头主体部的方向按压该基板保持板，在头主体部设置有与各个弹性袋连通的袋用流路，研磨头还具备设置于弹性袋与基板保持板之间的至少两块支撑板，弹性袋隔着支撑板而按压基板保持板。
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公开(公告)号：CN110000689A
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201910007722.2
申请日：2019-01-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供了用于面朝上式的研磨装置的研磨头、具备该研磨头的研磨装置及使用了该研磨装置的研磨方法。在面朝上式的研磨装置中，不经由旋转接头就供给研磨液。作为一实施方式，本申请公开了一种研磨头，该研磨头在下表面安装研磨垫来使用，该研磨头用于面朝上式的研磨装置，该研磨头具备：液体贮存部，该液体贮存部设于研磨头的旋转轴的周围，且用于接收液体；及液体排出口，该液体排出口设于研磨头的下表面，且用于排出由液体贮存部接收到的液体，在研磨头的上部形成有以研磨头的旋转轴为中心的环状的开口，液体贮存部经由开口而研磨头的外部的空间连通。
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公开(公告)号：CN118119478A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202280069708.5
申请日：2022-10-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B21/08 , B24B21/00 , B24B41/06 , H01L21/304 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明关于一种用于处理晶片等基板的基板处理装置，特别是关于一边以旋转辊保持基板的周缘部一边将处理工具按压于基板表面来处理该基板表面的基板处理装置。基板处理装置具备：绕基准中心点(CP)排列，并以与基板(W)的周缘部接触的方式配置的多个辊(11A～11D)；将处理工具(3)按压于基板(W)的表面外周部的按压构件(21A)；及对按压构件(21A)赋予按压力的致动器(22A)。多个辊(11A～11D)中的两个(11A、11B)邻接于按压构件(21A)，且配置于按压构件(21A)的两侧。
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公开(公告)号：CN110788740B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201910708221.7
申请日：2019-08-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , H01L21/304
Abstract: 本申请提供用于保持基板的顶环以及基板处理装置，顶环用于保持尺寸大的基板。根据一个实施方式，提供用于保持基板的顶环，该顶环具有：基板支承面；保持部件，该保持部件被配置为包围所述基板支承面的外周；以及保持器引导装置，该保持器引导装置以使保持部件能够在与所述基板支承面垂直的方向上位移的方式进行引导，并且以禁止保持部件在与所述基板支承面平行且远离所述基板支承面的方向上的位移的方式进行支承，保持器引导装置配置在将所述基板支承部包围的保持部件的内侧。
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公开(公告)号：CN111032283B
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN201880054220.9
申请日：2018-08-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/00 , B24B7/04 , B24B47/26 , B24B55/06 , H01L21/304
Abstract: 在研磨液通过旋转接头内的基板研磨装置中，需要实施旋转接头的维修。本发明公开一种基板研磨装置，具有：用于保持基板的研磨头；表面设有第一开口部的旋转台；设于旋转台的研磨液吐出机构；及至少控制研磨液吐出机构的控制部，研磨液吐出机构具有：第一气缸、第一活塞、及驱动第一活塞的驱动机构，第一开口部与由第一气缸及第一活塞规定的液体保持空间连通，控制部控制驱动机构对第一活塞的驱动，使液体保持空间的容积增减。
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公开(公告)号：CN107868975B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201710763259.5
申请日：2017-08-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。
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公开(公告)号：CN111032283A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880054220.9
申请日：2018-08-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/00 , B24B7/04 , B24B47/26 , B24B55/06 , H01L21/304
Abstract: 在研磨液通过旋转接头内的基板研磨装置中，需要实施旋转接头的维修。本发明公开一种基板研磨装置，具有：用于保持基板的研磨头；表面设有第一开口部的旋转台；设于旋转台的研磨液吐出机构；及至少控制研磨液吐出机构的控制部，研磨液吐出机构具有：第一气缸、第一活塞、及驱动第一活塞的驱动机构，第一开口部与由第一气缸及第一活塞规定的液体保持空间连通，控制部控制驱动机构对第一活塞的驱动，使液体保持空间的容积增减。
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