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公开(公告)号：CN104952769A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510121582.3
申请日：2015-03-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67057 , B25J11/0095 , H01L21/67034 , H01L21/67173 , H01L21/67276 , H01L21/68721 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供基板处理装置以及抗蚀剂剥离装置。本发明的课题在于抑制药液气氛向处理槽的周围扩散。本发明的基板处理装置具有：处理槽，其收纳保持在基板保持架的基板，并用于对上述基板进行处理；升降器，其支承基板保持架基板，将保持架收纳于处理槽或者从处理槽中取出保持架；以及护罩，其覆盖通过升降器从处理槽中取出的基板保持架的周围。
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公开(公告)号：CN107081673A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201710064401.7
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B1/00 , B08B11/02 , H01L21/67219 , H01L21/67259 , H01L21/68728 , B24B37/32 , B24B37/10 , B24B37/345 , B24B57/02 , H01L21/67092 , H01L21/67772 , H01L21/67778
Abstract: 本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。
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公开(公告)号：CN106994645A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610817482.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
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公开(公告)号：CN112424924B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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公开(公告)号：CN115674009A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210846351.9
申请日：2022-07-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种不使研磨装置的运转率降低，而可确实进行弹性膜的磨合处理的磨合处理装置及磨合处理方法。磨合处理装置(50)具备：搭载至少包含载体(8)与安装于该载体的弹性膜(10)的弹性膜组件(7)的载台(54)；与搭载于载台的弹性膜组件的弹性膜的最外周部相对的磨合判定模块(57)；向形成于弹性膜的最外周部与载体之间的压力室(14a)供给具有规定压力的加压流体的流体供给装置(60)；及控制磨合判定模块与流体供给装置的动作的控制装置(52)。控制装置基于通过供给至压力室的加压流体而膨胀的弹性膜而施加于磨合判定模块的负荷，来判断弹性膜的磨合处理完成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115666853A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180038346.9
申请日：2021-05-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B41/02 , B24B37/005 , B24B37/30 , B24B41/047 , B24B41/06 , B24B55/06 , H01L21/304
Abstract: 实现一种适合表面基准研磨的研磨装置。研磨装置100包含：沿着基板300的第一方向(X方向)配置的多个基板保持机构200；沿着与第一方向(X方向)交叉的第二方向(Y方向)配置的多个研磨头201；夹着基板300而与多个研磨头201相对，并在第二方向(Y方向)延伸的载台202；及用于使多个研磨头201与载台202在第一方向(X方向)移动的驱动机构500、600。
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公开(公告)号：CN107081673B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201710064401.7
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。
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公开(公告)号：CN112424924A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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公开(公告)号：CN106994645B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201610817482.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
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公开(公告)号：CN110919527A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201910887678.9
申请日：2019-09-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 在使用被划分为圆状或环状的薄膜的基板研磨装置中，在方形的基板的角部以及边部的中央的附近局部地对按压力进行调节是困难的。本发明公开了一种研磨头以及研磨装置，该研磨头是用于通过安装于研磨台的研磨垫来对方形的基板进行研磨的研磨装置的研磨头，具备：头主体部；多个弹性袋，该多个弹性袋设置于头主体部的应与研磨台相对的表面；以及基板保持板，该基板保持板用于保持基板，并且由弹性袋向远离头主体部的方向按压该基板保持板，在头主体部设置有与各个弹性袋连通的袋用流路，研磨头还具备设置于弹性袋与基板保持板之间的至少两块支撑板，弹性袋隔着支撑板而按压基板保持板。
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