公开(公告)号：KR100546362B1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：KR1020030055876

申请日：2003-08-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김민규

IPC: G11C7/00

CPC classification number: G11C7/222 ,  G06K7/0008 ,  G11C7/22

Abstract: 메모리 클럭 신호의 주파수를 선택적으로 가변시키는 메모리 컨트롤러 및 이를 이용한 메모리의 데이터 독출 동작 제어방법이 개시된다. 본 발명에 의한 메모리 컨트롤러는, CPU, 메모리 인터페이스 장치, 및 주파수 변경 제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다. CPU는 데이터 독출 요청 신호에 응답하여 독출 커맨드 신호를 출력하고, 데이터 기입 요청 신호에 응답하여 기입 커맨드 신호를 출력한다. 메모리 인터페이스 장치는 독출 커맨드 신호 또는 기입 커맨드 신호에 응답하여 복수의 제어신호들을 출력하고, 시스템 클럭 신호를 수신하여 메모리 클럭 신호를 발생하고, 소정의 주파수 변경 제어신호에 응답하여 메모리 클럭 신호의 주파수를 가변시킨다. 주파수 변경 제어부는 복수의 제어신호들과 메모리 클럭 신호에 응답하여 주파수 변경 제어신호를 출력한다. 본 발명에 의한 메모리 컨트롤러 및 이를 이용한 메모리의 데이터 독출 동작 제어방법은 고주파수 동작에서 메모리로부터 잘못된 데이터가 출력되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.

公开(公告)号：KR1020050108020A

公开(公告)日：2005-11-16

申请号：KR1020040032959

申请日：2004-05-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장현룡 ,  김민규

IPC: G02F1/133

CPC classification number: H05B41/2855 ,  H05B41/2824 ,  Y02B20/186

Abstract: 본 발명은 백라이트 어셈블리 및 이를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다. 본 발명의 백라이트 어셈블리는, 복수의 광원에 전압을 인가하여 광원을 온·오프하는 인버터, 복수의 광원에 흐르는 전류를 감지하는 감지부, 감지부로부터의 출력 전압에 따라 광원의 온·오프를 판단하는 기 설정된 기준 전압과 상기 출력 전압을 비교하여 상기 광원의 동작 상태를 판별하며, 주변 상황에 의해 발생하는 동작 오류 조건에 따라 광원이 정상 점등 상태를 유지하도록 기준 전압을 변경하는 정상 점등 판별부, 및 정상 점등 판별부의 출력 신호에 따라 상기 광원의 점멸을 제어하는 제어부를 포함한다.
본 발명에 의하면, 단일의 인버터로 복수의 광원을 제어할 수 있고 백라이트의 부피 및 단가를 줄일 수 있으며, 각 광원의 점등 유무를 판별하는 감지 감도 또는 조립 상태 또는 온도 변화 등과 같은 주변 상황에 따라 정상 상태에서도 광원을 셧다운 시키는 오류를 해결할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050042837A

公开(公告)日：2005-05-11

申请号：KR1020030077456

申请日：2003-11-04

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  코닝정밀소재 주식회사

Inventor： 장현룡 ,  김동우 ,  김민규

IPC: G02F1/13357

CPC classification number: H01J61/305 ,  G02F1/133604 ,  H01J65/046

Abstract: 면광원 장치는 내부 공간을 갖는 광원 몸체를 포함한다. 광원 몸체의 내부 공간에 격벽이 배치되어, 내부 공간을 다수개의 방전 공간으로 구획한다. 격벽의 양단은 광원 몸체의 내벽에 접한다. 격벽에는 각 방전 공간으로 방전 가스가 흐르도록 하는 연통공이 형성된다. 방전 가스에 방전 전압을 인가하여 각 방전 공간에 플라즈마를 형성시키는 전압 인가부가 광원 몸체에 구비된다. 플라즈마가 연통공을 통해 이동하는 것을 제한하는 장벽이 연통공과 인접하게 배치된다. 장벽에 의해 연통공의 입구가 좁아지게 됨으로써, 연통공을 통한 플라즈마의 이동이 제한된다. 따라서, 이웃하는 방전 공간 사이에서 발생되는 전류 편류 현상이 억제된다.

公开(公告)号：KR100443770B1

公开(公告)日：2004-08-09

申请号：KR1020010015655

申请日：2001-03-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 제만호 ,  김민규

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B53/017

Abstract: A method and apparatus for polishing a substrate with a polishing pad and slurry entails washing polishing-pollutants produced by the polishing operation off of the pad in such a way that the pollutants are not splashed onto components of the polishing apparatus. A washing solution for removing the pollutants is directed onto the polishing pad as at least one free-flowing vertical stream. because the washing solution flows freely and vertically as it impinges the polishing pad, the washing solution does not rebound from the pad and flows from the surface of the polishing pad without causing the pollutants on the pad to be splashed up from the surface of the pad.

Abstract translation: 用抛光垫和抛光液抛光基板的方法和设备需要抛光抛光 - 抛光操作产生的污染物离开抛光垫，使得污染物不会溅到抛光设备的部件上。 用于去除污染物的清洗溶液作为至少一个自由流动的垂直流被引导到抛光垫上。 由于洗涤液在冲击研磨垫时自由且垂直地流动，因此洗涤液不会从研磨垫回弹而从研磨垫的表面流出，而不会使垫上的污染物从垫表面飞溅 。

公开(公告)号：KR1020040026501A

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：KR1020020058006

申请日：2002-09-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 신동화 ,  김민규 ,  정병효 ,  김덕중

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A chemical mechanical polishing(CMP) apparatus for fabricating a semiconductor device is provided to improve polishing uniformity of a wafer by supplying gas at regular intervals through at least two first lines such that the gas presses a membrane at an early stage of a polishing process. CONSTITUTION: A polishing pad is capable of rotating. A polishing head for polishing a substrate is formed on the polishing pad. Holes are formed in a lower supporter(240). An upper supporter(250) supplies a gas induction space to a gap between the lower supporter and the upper supporter, located on the lower supporter. The membrane(210) presses the substrate by using the gas supplied from the gas induction space through the holes of the lower supporter, coating the lower supporter to be capable of being separated from the lower surface of the lower supporter. The gas is induced to the gas induction space through at least two first lines to supply uniform pressure to the entire surface of the membrane. The polishing head includes the lower supporter, the upper supporter and the membrane.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体器件的化学机械抛光（CMP）装置，以通过至少两条第一线以规则的间隔供应气体来提高晶片的抛光均匀性，使得气体在抛光初期按压膜 处理。 构成：抛光垫能旋转。 在抛光垫上形成用于研磨衬底的抛光头。 孔形成在下支撑件（240）中。 上支撑件（250）将气体诱导空间供给到位于下支撑件上的下支撑件和上支撑件之间的间隙。 膜（210）通过使用从气体诱导空间供给的气体通过下支撑件的孔来挤压基板，涂覆下支撑件以能够从下支撑件的下表面分离。 气体通过至少两条第一线路被引导到气体诱导空间，以向膜的整个表面提供均匀的压力。 抛光头包括下支撑物，上支撑物和膜。

公开(公告)号：KR1020030066034A

公开(公告)日：2003-08-09

申请号：KR1020020006186

申请日：2002-02-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김민규

IPC: H04L12/433

Abstract: PURPOSE: A communication method of an asynchronous serial communication system is provided to stably transmit a large amount of data by a slave unit having an authority of a flow control by using previous information contained in a packet transmitted between devices. CONSTITUTION: A master unit transmits a packet requesting transmission of a data to a slave unit, and master contained in the packet is set to 0 in order to inform that the slave unit has an authority of a flow control(b1). The slave unit transmits a packet(ACK) in response to the request to the master unit by setting a master contained in the packet to 1(b2). The slave unit processes the requested data and transmits a packet including the data to the master unit, and at this time, a master contained in the packet is set to 1(b3). The master unit transmits a packet(ACK) in response to the requested data to the slave unit, and at this time a mater contained in the packet is set to 0(b4).

Abstract translation: 目的：提供异步串行通信系统的通信方法，通过使用包含在设备之间发送的分组中的先前信息，通过具有流量控制权限的从单元来稳定地发送大量的数据。 构成：主单元向副单元发送请求发送数据的分组，并且将包含在分组中的主机设置为0，以通知从单元具有流量控制的权限（b1）。 从单元通过将分组中包含的主机设置为1（b2），将响应于请求的分组（ACK）发送到主单元。 从单元对所请求的数据进行处理，并将包含数据的数据包发送到主单元，此时，包中包含的主设置为1（b3）。 主单元响应于所请求的数据向从单元发送分组（ACK），此时包中包含的分组被设置为0（b4）。

公开(公告)号：KR1020020021897A

公开(公告)日：2002-03-23

申请号：KR1020000054628

申请日：2000-09-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 배기성 ,  김민규 ,  김덕중

IPC: H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A platen assembly of a polishing apparatus is provided to extend the lifetime of a bearing, by preventing deionized water from being induced to a gap between a bearing retainer and a platen in a polishing process. CONSTITUTION: A pad is placed on the upper surface of the platen(124), and a lower portion of the platen is mechanically connected to a rotating apparatus. The bearing(126) is installed in the lower portion of the platen. Flanges(130,132) for preventing deionized water/slurry from being induced to the gap between the bearing retainer(128) and the platen are formed in the upper and lower portions of the bearing retainer.

Abstract translation: 目的：提供抛光装置的压板组件，以通过在抛光过程中防止去离子水被引到轴承保持器和压板之间的间隙来延长轴承的使用寿命。 构成：将压板放置在压板（124）的上表面上，并且压板的下部机械地连接到旋转装置。 轴承（126）安装在压板的下部。 用于防止去离子水/浆料被引到轴承保持器（128）和压板之间的间隙的法兰（130,132）形成在轴承保持器的上部和下部。

公开(公告)号：KR1020020003745A

公开(公告)日：2002-01-15

申请号：KR1020000037649

申请日：2000-07-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이상열 ,  배도인 ,  김민규

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus of assembling a brush for cleaning a wafer is provided to insert easily a support portion into a brush in a process for assembling the brush for cleaning a wafer by using a predetermined push bar. CONSTITUTION: A tube(34) has an inlet and an outlet for passing a support portion(32). The support portion(32) is used for supporting a brush(30). A bar(34b) is inserted into the brush(30) in order to insert easily the support portion(32). The first insertion body(34) is installed at an upper edge portion of the tube(34a). A diameter of the tube(34a) is similar to the diameter of the support portion(32). A length of the bar(34b) is similar to the length of the brush(30). A resin is coated on a surface of the bar(34b). A push bar(38) is used for pushing an end portion of the support portion(32). The push bar(38) is formed with a resin material.

Abstract translation: 目的：提供一种组装用于清洁晶片的刷子的装置，用于在通过使用预定的推杆组装用于清洁晶片的刷子的过程中将支撑部分容易地插入刷中。 构成：管（34）具有用于使支撑部分（32）通过的入口和出口。 支撑部分（32）用于支撑刷子（30）。 为了易于插入支撑部（32），将杆（34b）插入刷（30）中。 第一插入体（34）安装在管（34a）的上边缘部分。 管（34a）的直径与支撑部（32）的直径相似。 条（34b）的长度与刷（30）的长度相似。 在该棒（34b）的表面上涂布树脂。 推杆（38）用于推动支撑部分（32）的端部。 推杆（38）由树脂材料形成。

公开(公告)号：KR1020010027024A

公开(公告)日：2001-04-06

申请号：KR1019990038582

申请日：1999-09-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 제만호 ,  김민규 ,  조정후

IPC: H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A slurry supplying arm of a chemical mechanical polishing(CMP) equipment is provided to improve efficiency of a CMP process and to save slurry, by preventing peripheral equipment from being contaminated by water splash generated when a polishing pad is cleaned with high pressure deionized water through a nozzle in a high pressure deionized water line. CONSTITUTION: Covers are formed in an upper portion and both lengthwise side portions of a slurry supplying arm(39) of a chemical mechanical polishing(CMP) equipment. A slurry and deionized(DI) water supplying line(23) and a high pressure DI water supplying line are installed inside the covers. A cover complementing unit(34) is installed to prevent particles from being generated by water splash.

Abstract translation: 目的：提供化学机械抛光（CMP）设备的浆料供应臂，以提高CMP工艺的效率，并通过防止外围设备被高压去离子水清洗抛光垫时产生的水溅而被污染 水通过喷嘴在高压去离子水管线中。 构成：在化学机械抛光（CMP）设备的浆料供给臂（39）的上部和纵向侧部形成有盖。 在盖内安装有浆料和去离子（DI）给水管线（23）和高压DI给水管线。 安装盖补充单元（34）以防止水飞溅产生颗粒。

公开(公告)号：KR1020000013209A

公开(公告)日：2000-03-06

申请号：KR1019980031932

申请日：1998-08-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 민병호 ,  김민규 ,  금경수

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: The time when a chemical is taken out is displayed accurately and identified visibly even at a long distance for the convenience of the user of the chemical. CONSTITUTION: The movement of a plate (14) throws switch (S1). A control device (24) to which a switching signal is transmitted decides if the time corresponds to the fixed mode by receiving clock signals to count time continuously from a clock(28), generates a signal corresponding to the clock signal and indicates the signal on the display panel(16) through a decoder(32). Then the time is displayed and a lamp corresponding to the befitting mode radiates on the selection device(30).

Abstract translation: 目的：为了使化学品的使用者方便，即使在长时间内也可以准确地显示化学物质的时间并且被识别出来。 构成：板（14）的移动引起开关（S1）。 发送切换信号的控制装置（24）通过从时钟（28）接收时钟信号连续计数时间来决定时间是否对应于固定模式，生成对应于时钟信号的信号，并指示信号 显示面板（16）通过解码器（32）。 然后显示时间，并且与选择装置相对应的灯在选择装置（30）上辐射。