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公开(公告)号：KR200140420Y1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR2019960008005
申请日：1996-04-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 고안은 이온 주입기의 웨이퍼 로딩 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 회전되는 회전 디스크상의 로딩부에 웨이퍼를 로딩하도록 도와주는 리프트 핀이 웨이퍼 로딩부에 관통 형성되어 있는 안내홈 또는 회전 디스크의 하부면에 접촉되었는지를 조기에 발견하여 리프트 핀의 손상을 보호하며, 동시에 작업상의 에러를 조기에 발견하여 조치할 수 있는 이온 주입기의 웨이퍼 로딩 장치에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR100156315B1
公开(公告)日：1998-12-01
申请号：KR1019950041919
申请日：1995-11-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트가 개시되어 있다.
본 발명은 도전성 재질의 물체에 다른 물건이 끼워지도록 탄성적으로 확대될 수 있는 홈이 형성되어 이루어진 반도체 이온주입장비의 클램핑 포스트에, 상기 홈을 통해 분리된 상기 물체의 부분들을 밀착시킬 수 있는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서, 클램핑 포스트에 전원을 인가해야 할 다른 물체를 단단히 지지하고 안정된 전기적 접촉을 유지할 수 있는 효과가 있다.-
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公开(公告)号：KR1019970052130A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950049328
申请日：1995-12-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 웨이퍼에 주입되는 이온에 의하여 발생되는 2차전자 발생억제용 패러데이전압을 피드백(Feed-Back)상태에 따라 제어하고 피드백되는 패러데이전압을 모니터링하는 이온주입설비의 패러데이컵 어셈블리에 관한 것이다.
본 발명에 따른 이온주입설비의 패러데이컵 어셈블리는, 패러데이텁과 바이어스플레이트 및 접지플레이트를 구비하고, 상기 바이어스플레이트에 상기 패러데이컵에서의 2차전자 발생억제를 우히나 패러데이전압이 인가되도록 바이어스 전원이 구성된 이온주입설비에서, 상기 바이어스플레이트에 인가된 페러데이전압을 피드백(Feed-Back)하여 상기 바이어스전원의 패러데이전압공급을 제어하는 피드백수단 및 상기 피드백 패러데이전압을 모니터링 하는 모니터링수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 패러데이전압의 인가상태를 정확히 확인할 수 있고 또 제어할 수 있으므로 웨이퍼의 불량을 줄여서 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019970030592A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950040543
申请日：1995-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 픽 아암이 카세트로부터 웨이퍼를 핸들링하여 플랫 존 센서와 공정 챔버 사이인 플랫 존 확인위치로 이동시키고, 이 플랫 존 확인위치에서 웨이퍼의 플랫 존 위치를 확인하기 위해 웨이퍼를 소정의 속도로 회전시키는 오리엔터 구동방법에 관한 것으로, 상기 웨이퍼가 픽 아암의 고정부에 부딪칠때 공정 챔버의 대향측인 플랫 존 센서쪽으로 이동되도록 오리엔터의 회전방향을 설정하여 된 것이다.
따라서 웨이퍼가 플랫 존 센서에 걸려 오리엔터로부터 떨어지지 않게 되는 것이고, 이로써 웨이퍼가 깨지는 등의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
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