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公开(公告)号:KR100213142B1
公开(公告)日:1999-08-02
申请号:KR1019970007489
申请日:1997-03-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F02B37/00
CPC classification number: Y02T10/144
Abstract: 본 발명은 자동차의 출력을 높이기 위하여 사용되는 터보차저에 관한 것으로, 본 발명에 따른 터보차저는 흡입구와 토출구를 갖는 밀폐용기와 흡입구를 통하여 흡입된 공기의 속도를 가변시켜 공기를 압축하도록 마련된 적어도 하나이상의 압축부를 구비하고, 압축부를 구동하기 위한 구동모터를 포함한다. 그리고 압축부는 흡입구의 내측에 마련되어 공기를 가속하는 임펠러와 임펠러의 외곽에 마련되어 가속된 공기가 확산되어 감속되도록 하는 디퓨져를 구비하여 공기를 압축하는 제1압축부와 토출구의 내측에 마련되며 제1압축부에서 압축된 공기를 가속하는 임펠러와 가속된 공기가 확산되어 감속되도록 하는 디퓨져를 구비하여 공기를 재압축하는 제2압축부를 포함하는 것이다.
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公开(公告)号:KR100189149B1
公开(公告)日:1999-06-01
申请号:KR1019970006030
申请日:1997-02-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F04C18/324
Abstract: 본 발명은 공기조화기용 원심압축기에 관한 것으로 본 발명의 공기조화기의 원심압축기는 흡입구와 토출구를 갖는 밀폐용기가 마련되고, 밀폐용기 내부에 설치되어 전기적으로 작동하는 구동부와 흡입구를 통하여 유입된 냉매의 속도를 가변시켜 냉매를 압축할 수 있도록 구동부에 의하여 구동하는 원판과 이 원판에 나선형상으로 결합된 다수개의 판상의 날개를 포함하는 임펠러를 구비한 것이다.
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公开(公告)号:KR200136068Y1
公开(公告)日:1999-03-20
申请号:KR2019960000486
申请日:1996-01-16
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor: 안종선
Abstract: 본 고안은 흡수식 냉방기에 관한 것으로, 그 목적은 희용액을 농용액으로 빨리 변환하여 흡수기로 공급하고 증발기에서 발생되는 많은 양의 수분을 흡수하여 냉방량을 증대시키는 것이다.
본 고안에 따른 흡수식 냉방기는 증발기(3)의 수분을 흡수기(6)로 강제송출시키는 펌프(10)와 발생기(1)의 가열기(1a)에 연료량을 조절하는 유량조절밸브(13)가 마련되어 있다. 따라서 설정된 온도보다 냉방토출공기 온도가 높을 경우 펌프(10)와 유량조절밸브(13)가 작동되어 증발기(3)의 수분이 흡수기(6)로 강제 송출되고, 흡수기(6)의 흡수용액이 빨리 농용액으로 변환되어 지속적인 흡수작용을 함으로써, 증발기(3)에서의 수분 증발량이 증대 팬코일 유니트(5, F2)에서 종전보다 더욱 강한 냉풍이 배출되는 이점이 있다.-
公开(公告)号:KR2019980058749U
公开(公告)日:1998-10-26
申请号:KR2019970003201
申请日:1997-02-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F25B1/00
Abstract: 본 고안은 공기조화기용 냉동사이클에 관한 것으로, 본 고안의 냉동사이클은 흡입구를 통하여 유입된 냉매의 속도를 가변시켜 냉매를 압축할 수 있도록 하는 임펠러를 구비한 원심압축기와 원심압축기에서 압축되어 토출된 냉매를 응축하는 응축기를 구비하고, 응축수단에서 토출된 냉매를 열교환시키는 증발기와 원심압축기와 응축기 사이에는 원심압축기에서 토출된 냉매가 원심압축기로 역류하는 것을 방지할 수 있도록 하는 밸브가 마련된 것이다.
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公开(公告)号:KR1019980069123A
公开(公告)日:1998-10-26
申请号:KR1019970006030
申请日:1997-02-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F04C18/324
Abstract: 본 발명은 공기조화기용 원심압축기에 관한 것으로 본 발명의 공기조화기의 원심압축기는 흡입구와 토출구를 갖는 밀폐용기가 마련되고, 밀폐용기 내부에 설치되어 전기적으로 작동하는 구동부와 흡입구를 통하여 유입된 냉매의 속도를 가변시켜 냉매를 압축할 수 있도록 구동부에 의하여 구동하는 원판과 이 원판에 나선형상으로 결합된 다수개의 판상의 날개를 포함하는 임펠러를 구비한 것이다.
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公开(公告)号:KR1019970022061A
公开(公告)日:1997-05-28
申请号:KR1019950033711
申请日:1995-10-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F25B15/00
Abstract: 본 발명은 리튬브로마이드수용액을 이용하여 냉난방을 출력시키는 흡수식 냉난방기에 관한 것으로써, 특히 회용액을 냉매증기와 농용액으로 분리시키는 발생기와, 상기 발생기에서 분리된 냉매증기를 응축시키는 응축기와, 상기 응축기에서 응축된 냉매가 증발되는 증발기로 이루어져 냉난방을 출력하는 흡수식 냉난방기에 있어서, 상기 발생기에서 분리된 농용액이 충만되며 상기 발생기에서 분리된 농용액의 흐름을 가이드하는 용액배관이 접속된 흡수기와, 상기 흡수기에 충만된 농용액에 직접 접촉되어 희용액을 생성시키도록 상기 증발기에서 증발작용된 냉매증기를 버블화시키며 상기 증발기에서 증발작용된 냉매증기의 흐름을 가이드하는 냉매증기배관에 장착된 에어펌프수단과, 상기 에어펌프수단에 의해 버블화된 냉매증기가 상기 흡수기 의 내부에서 분사되도록 상기 냉매증기배관의 단부에 고착된 분사수단으로 이루어진 흡수식 냉난방기에 관한 것으로 흡수기에 농용액이 충만되도록 하고 농용액이 충만된 흡수기로 버블화된 냉매증기를 공급하여 버블화된 냉매증기가 농용액에 직접 접촉되어서 희용액을 생성시키므로써 흡수 효율을 향상시켜 냉난방 효율을 보다 향상시킴과 동시에, 흡수기의 냉각수 배관을 제거하여 크기를 콤팩트화 시키고 발생기로 고온의 희용액이 공급되도록 하여 에너지의 소비를 절감시킬 수 있다는 효과가 있다.
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公开(公告)号:KR2019970002547U
公开(公告)日:1997-01-24
申请号:KR2019950012817
申请日:1995-06-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F25B15/00
Abstract: 본고안은증발기의증발성능을향상시킬수 있도록한 흡수식냉방기의증발기에관한것이다. 본고안이적용되는흡수식냉방기는흡수기(6), 발생기(1), 응축기(2), 증발기(30) 및팬코일유니트를포함한다. 상기한구성에서증발기(30)는상부에는상기응축기(2)에의해응축된액냉매가유입되는냉매유입관(31), 상기팬코일유니트를통과한물이유입되는냉수유입관(33) 및상기흡수기(32)와연통되는수증기유출관(32)이설치되며, 일측면에는상기응축기(2)로부터유입된액냉매의증발을용이하게하기위한망사체(36)가설치되며, 하부에는상기팬코일유니트로연통되는냉수유출관(34)이설치되어팬코일유니트에서유입된물에포함된열기를냉매의증발열로이용함으로써상기팬코일유니트에상대적으로차가운물을흘려보내는증발기(30)를구비한다. 본고안의흡수식냉방기에따르면증발기의증발효율이향상되는외에제조단가가절감되고중량이감소되는효과가있다.
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公开(公告)号:KR1020110082427A
公开(公告)日:2011-07-19
申请号:KR1020100002392
申请日:2010-01-11
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/67 , B24B37/10 , B24B49/12 , H01L21/683
CPC classification number: B24B37/10 , B24B49/12 , H01L21/67092 , H01L21/304 , H01L21/67259 , H01L21/6838
Abstract: PURPOSE: A chemical mechanical polishing apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to increase the polishing uniformity in the central part and the edge parts of a wafer surface. CONSTITUTION: A spin chuck(1) rotates a wafer(W) around a rotary shaft(2). A polisher(5) comprises a polishing pad(4). The polisher moves along with a wafer surface by a polishing arm. A polisher support device(100) levels the polisher. The polisher support device includes a support head(10) and an elevating device(20).
Abstract translation: 目的:提供一种用于制造半导体器件的化学机械抛光装置,以增加晶片表面的中心部分和边缘部分的抛光均匀性。 构成:旋转卡盘(1)围绕旋转轴(2)旋转晶片(W)。 抛光机(5)包括抛光垫(4)。 抛光机通过抛光臂与晶片表面一起移动。 抛光机支撑装置(100)使抛光机水平。 抛光机支撑装置包括支撑头(10)和升降装置(20)。
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公开(公告)号:KR100839351B1
公开(公告)日:2008-06-19
申请号:KR1020060099724
申请日:2006-10-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L29/78
CPC classification number: H01L27/11 , B82Y10/00 , H01L27/10873 , H01L27/10879 , H01L29/66795 , H01L29/785
Abstract: 스페이서가 형성된 채널막 패턴을 포함하는 반도체 메모리 소자 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 반도체 메모리 소자는 채널막 패턴, 스페이서, 게이트 전극을 포함한다. 상기 채널막 패턴은 기판 상에 형성되고, 측면과 상면을 갖는다. 상기 스페이서는 상기 채널막 패턴의 측면에 형성된다. 상기 게이트는 상기 스페이서가 형성된 채널막 패턴의 측면과 상면을 감싸는 구조를 갖는다. 상술한 구조를 갖는 메모리 소자는 균일한 전기적 특성을 갖는다.
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公开(公告)号:KR1020070037785A
公开(公告)日:2007-04-09
申请号:KR1020050092793
申请日:2005-10-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/20
CPC classification number: H01L21/02598 , H01L21/02293 , H01L21/02532 , H01L21/268 , H01L21/324
Abstract: 스택형 반도체 장치의 채널 박막 형성 방법에 관한 것으로서, 단결정으로 이루어진 시드를 갖는 구조물 상에 제1 시드와 제2 시드를 부분적으로 노출시키는 제1 절연 구조물을 형성한다. 그리고, 선택적 에피택시얼 성장을 수행하여 상기 제1 시드로부터 상기 제1 절연 구조물의 표면을 따 제1 에피택시얼막을 성장시키고, 상기 제2 시드로부터 상기 제1 절연 구조물의 표면을 따라 제2 에피택시얼막을 성장시킨다. 그러나, 상기 제1 에피택시얼막의 성장과 상기 제2 에피택시얼막의 성장에서는 상기 제1 에피택시얼막과 상기 제2 에피택시얼막이 서로 접하는 부위에 보이드가 빈번하게 발생한다. 그러므로, 열처리를 수행하여 상기 제1 에피택시얼막과 상기 제2 에피택시얼막 각각을 순간적으로 액상에서 고상으로 변화시켜 상기 보이드를 제거한다.
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