Abstract:
본 발명은 수직형 발광 소자 및 이중포토레지스트를 이용한 그의 제조방법에 관한 것으로 제 1 기판 상부에 발광 소자를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 기판의 상부에 포토레지스트를 증착하고 상기 포토레지스트 및 발광 소자의 상부에 반사막을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 반사막의 상부에 포토레지스트를 증착하는 단계를 포함한다. 그리고, 상기 포토레지스트의 상부에 제 2기판을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제 1기판 및 포토레지스트를 제거하고, 상기 발광 소자 상부에 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면, 이중으로 포토레지스트를 증착한 후, 플레이팅 방법을 통해 금속 기판을 성장하여 본딩을 진행함으로써, 기판의 휘어짐 현상을 방지하며 후속 공정 진행 시 기판 혹은 발광 소자의 파손을 방지함에 따라 공정시간을 단축하고 안정적인 전기적, 열적 특성을 갖는 수직형 발광 소자를 구현할 수 있다. 수직형, 이중포토레지스트, 플레이팅 방법
Abstract:
본 발명은 수직형 발광 다이오드 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 반도체층이 적층된 발광다이오드 상부에 본딩 금속층을 매개로 접합되고, 내부에 금속으로 충진되어 발광다이오드를 외부와 전기적으로 소통시키는 비아홀을 구비한 세라믹 기판을 포함한다. 이러한 발광 다이오드를 제조하는 방법으로서, 기판 위에 개별소자로 형성된 발광다이오드 상부에 금속으로 충진된 비아홀을 구비한 세라믹 기판을 접합하는 단계와, 상기 기판을 제거하고 세라믹 기판이 접합된 발광다이오드 개별소자를 분리하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면, 발광 다이오드 상부에 도전성 기판 대신 비아홀을 구비한 세라믹 기판을 장착함으로써 가격대비 열전도율이 매우 우수하고, 질화갈륨 반도체층과 세라믹 기판 사이의 열팽창 계수를 최소화함으로써 소자의 신뢰성이 향상된 발광 다이오드를 얻을 수 있는 효과가 있다. 발광다이오드, 반도체층, 비아홀, 세라믹, 질화갈륨, 열팽창 계수
Abstract:
A method of producing a p-type compound semiconductor having a non-planar surface and a method are provided to increase optical efficiency and manufacturing costs by patterning p-type semiconductor layer with a non-planar. An n-type semiconductor layer(140), an active layer(160), and a p-type semiconductor layer(180) are successively formed on the substrate(100) as a lighting-emitting area emitting a light. Lighting-emitting areas are made of the compound semiconductor thin film especially. A buffer layer(120) is more formed between the substrate and the compound semiconductor to reduce a constant resistance of the compound semiconductor thin film and the substrate. A non planar is formed on the surface of the upper most P-type semiconductor to radiate light efficiently so that valid area is increased.
Abstract:
본 발명은 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide, ITO) 투명전극 직접 접촉층을 포함하는 발광 다이오드 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 기판, n형 화합물 반도체층, 활성층 및 p형 화합물 반도체층, ITO 투명전극층이 순차적으로 적층되는 발광 다이오드에 있어서, 상기 p형 화합물 반도체층과 ITO 투명전극층 사이에 위치하여 상기 p형 화합물 반도체층과 ITO 투명전극층과 접촉 저항을 낮추는 ITO 투명전극 직접 접촉층을 포함한다. 본 발명에 의하면, ITO 투명전극 직접 접촉층에 의해, 종래 p형 화합물 반도체층과의 오믹접촉을 위해 사용했던 p형 오믹 금속의 공정을 삭제함에 따라 공정이 단순화되고 생산성이 향상되는 경제적 부가가치가 있고, 종래에 비하여 유효 반사 면적이 증가되어 반사율이 높아져서 효율이 향상되는 장점이 있다. 인듐주석산화물, 투명 전극, 발광 다이오드, 오믹 접촉, 화합물 반도체
Abstract:
An Ag series transparent metal for a ultraviolet light emitting diode is provided to improve the optical permeability and the luminance of the ultraviolet light-emitting device by forming an Ohmic contact between a transparent electrode of the ultraviolet light-emitting device and a p-GaN system semiconductor layer. An n-GaN system semiconductor layer(22) is formed on a substrate(21). An active layer(23) is laminated on the n-type semiconductor layer. A p-GaN system semiconductor layer(24) is formed on the active layer. A transparent electrode(25) consisting of Ag or Ag alloy is evaporated on the p-GaN system semiconductor layer. A p-type metal electrode(26) is formed on the top of one side of the transparent electrode. An n-type metal electrode(27) is formed on the other side of the n-GaN system semiconductor layer.
Abstract:
A light emitting diodes with redistributed metal pad is provided to improve optical power by forming a first electrode and a second electrode on the same plane. In a light emitting diodes with redistributed metal pad, a first semiconductor and second semiconductor layers(110,130) laminated on the substrate(100) are mesa-etched. The reflective layer(140) is formed on the upper side and the side in which the mesa etching is made. More than one second electrode is contacted on top of the reflective layer, while more than one first electrode is contacted with the semiconductor layer the contact. The first protective layer(Passivation)(300) is formed in the part excluding the contacted first and the second electrode. The first electrode is connected through the first electrode line to one first bonding pad. The second electrode is connected through the second electrode line to the second bonding pad. The first protective layer is formed by the double protective film which are identical each other or different. The second protective layer is formed in the rest of substrate excluding the first and the second bonding pad.
Abstract:
A semiconductor light emitting device having multiple active layers and a manufacturing method thereof are provided to prevent rapid saturation of an output light due to injection current by enlarging an area of the active layer twice. A light emitting layer having plural active layers is deposited on a substrate(10). The light emitting layer is formed by depositing plural light emitting diode modules(20) each having the active layer, in which adjacent semiconductor layers(21,23) have the same shape. The semiconductor layer has a metal electrode layer(40) to allow an electric current to flow through each semiconductor layer. An insulating layer(30) is formed between a side of the metal electrode layer and a side of the light emitting layer to restrict inflow of the current into the light emitting layer from the side of the metal electrode layer.
Abstract:
A vertical type semiconductor light emitting diode and a method for manufacturing the same are provided to simplify a total process by performing a bonding process without a patterning process. A semiconductor emission layer(204) is formed on a lower part of a substrate(200). The semiconductor emission layer is divided into unit modules in order to emit the light. A protective layer(208) is formed in a separate space between the semiconductor emission layer and the semiconductor emission layer in order to protect the semiconductor emission layer. A bonding metal layer(205) and a receptor(207) are sequentially formed at a lower surface of the substrate including the protective layer and the semiconductor emission layer. A reflective metal layer is formed on an upper part of the receptor. Further, one or more ohmic metal layers are on an upper or a lower part of the bonding metal layer.
Abstract:
A vertical light emitting diode and its fabricating method are provided to improve reliability by minimizing a thermal expansion coefficient between a semiconductor layer and a ceramic substrate. A plurality of semiconductor layers(202,204) are laminated on a light emitting diode. A bonding metal layer(209) is formed on an upper surface of the light emitting diode including the semiconductor layers. A ceramic substrate(210) having a via hole is bonded with the upper surface of the light emitting diode through the bonding metal layer. The via hole of the ceramic substrate is filled with a metal to connect the light emitting diode with the outside. The light emitting diode includes the semiconductor layers including nitride semiconductor compounds of different types, an active layer(203), and electrodes(206,211).