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公开(公告)号:KR1019940016713A
公开(公告)日:1994-07-23
申请号:KR1019920026629
申请日:1992-12-30
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L41/27
Abstract: 본 발명은 n
_ 실리콘기판(1)상에 열산화막(8)이 형성된 제 1 기판과 p
++ 실리콘기판(10)상에 p
_ 에피층(7)이 형성된 제 2 기판을 상호접합하되 상기 p
_ 에피층(7)과 상기 열산화막(8)이 접합되게 하는 단계와, 상기 p
++ 실리콘기판(10)을 식각하여 형성된 제 2 기판과 실리콘(1a) 상부표면에 압저항(2)과 유전체분리용산화막(9)이 형성된 제 4 기판을 상호접합시키되 상기 p
_ 에피층(7)과 상기 유전체분리용산화막(9)이 접합되게 하는 단계와, 제 1 규소막(13)을 마스크로서 사용하여 상기 실리콘기판(1a)을 식각하는 단계와, 상기 압저항(2)에 전극(4)을 형성하고 패시베이션용산화막(14)과 제 2 규소막(2)에 전극(4)을 형성하고 패시베이션용산화막(14)과 제 2 규소막(13a)을 순차로 형성하고 상기 규소막(13,13a)의 다이어프램패턴을 형성하는 단계와, 습식이방성식각에 의해 기 n
_ 실리콘기판(1)을 식각하여 박막실리콘다이어프램(3)을 형성하는 단계를 포함하는 것이다. -