公开(公告)号：KR1020010004093A

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019990024699

申请日：1999-06-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정상돈 ,  강광용 ,  한석길 ,  이수재

IPC: H01S5/30

Abstract: PURPOSE: A laser molecular beam epitaxy(MBE) apparatus is provided in which an ion beam generator is set to easily control supply of active oxygen when a metal oxide is fabricated and an ion beam formed from various gases is irradiated on the surface of the metal oxide to change composition and structure thereof. CONSTITUTION: A laser MBE apparatus has a pressure gauge(12) and an external vacuum pump(11) and vaporizes a metal oxide target(1) with a high-power pulse laser beam at a low pressure to deposit a metal oxide on a substrate(2) heated by a heater(3). The laser MBE apparatus includes a gas flow rate adjustment controller(6) for receiving an electrical signal from the pressure gauge to control gas flow rates, a gas flow rate controller(7) for supplying gases such that the laser MBE apparatus has a desired inner vacuum degree when the metal oxide is deposited, an ion beam generation controller(5) attached to the outside of the MBE apparatus to control the speed of an ion beam, and an ion beam generator(4) set inside the MBE apparatus to ionize the gases inserted from the gas flow rate controller, generating the ion beam.

Abstract translation: 目的：提供一种激光分子束外延（MBE）装置，其中设置离子束发生器以容易地控制当制造金属氧化物时的活性氧供应，并且从各种气体形成的离子束照射在金属的表面上 氧化物以改变其组成和结构。 构成：激光MBE装置具有压力计（12）和外部真空泵（11），并且用低功率的高功率脉冲激光束使金属氧化物靶（1）蒸发以在基底上沉积金属氧化物 （2）由加热器（3）加热。 激光MBE装置包括用于从压力计接收电信号以控制气体流速的气体流量调节控制器（6），用于供应气体的气体流速控制器（7），使得激光器MBE装置具有期望的内部 沉积金属氧化物时的真空度，附着在MBE装置的外部以控制离子束的速度的离子束发生控制器（5）和设置在MBE装置内的离子束发生器（4），以使 从气体流量控制器插入的气体，产生离子束。

公开(公告)号：KR100216542B1

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019960035748

申请日：1996-08-27

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김제하 ,  한석길 ,  강광용

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C14/28

Abstract: 본 발명은 펄스 레이저 증착장치를 사용하여 기판 상에 박막을 성장할 때, 고품위의 재현성있는 박막을 성장할 수 있고, 증착장치를 자동화할 수 있으며, 펄스 레이저 증착을 경제적으로 수행할 수 있는 멀티 타겟 구동장치에 관한 것이다. 본 발명의 펄스 레이저 증착장치용 멀티 타겟 구동장치는, 스테핑 모터와, 구동 피드스루로 구성되어, 타겟원판 구동축 및 타겟 구동용 모터축에 회전 구동력을 제공하기 위한 구동력 제공부와; 설치 플랜지와, 타겟원판 구동용 피동기어와, 타겟원판 구동용 능동기어와, 타겟원판 구동용 모터축과, 타겟원판 구동축과, 머리부 지지용 프레임과 타겟 구동용 모터축으로 구성되어, 상기한 구동력 제공부로부터 제공받은 타겟원판 및 타겟의 회전에 필요한 회전 구동력을 전달하며 타겟 구동장치의 머리부를 지지하기 위한 구동력 전달 및 지지부와; 타겟 원판과, 타겟 구동용 피동기어와, 타겟 구동용 능동기어와, 타겟홀더 고정용 스터브와, 타겟 홀더와, 복수의 타겟 구동축으로 구성되어, 타겟 재료를 레이저빔의 촛점에 위치시키도록 타겟원판과 타겟의 회전이 수행되는 머리부를 포함한다.

公开(公告)号：KR100199018B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960061306

申请日：1996-12-03

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 한석길 ,  강광용 ,  김제하

IPC: H01P1/20

Abstract: 본 발명은 마이크로스트립 평행결합선 방식의 Ag를 첨가한 고온초전도 임의 형태의 4극 대역통과필터에 관한 것으로서, 마이크로파 특성이 우수한 단결정 기판과 상기 단결정기판 상부에 형성된 신호전송용 입력단과 상기 단결정 기판 상부의 상기 신호 전송용 입력단의 타측에 형성된 출력단과 상기 단결정 기판 상부에 입력단과 출력단과 연결되도록 형성된 ㄱ자형의 정랍망과 상기 다결정기판과의 정합망 사이에 개수에 의해 결정되는 4개의 마이크로스트립 방식으로 형성된 필터패턴과 상기 다결정기판 하부에 형성된 접지판을 만든다. 따라서 손실 특성을 저하 시키면서 스커트 특성을 향상 시킬 수 있고, 기존의 고온초전도체인 YBCO를 사용 하지 않고 Ag-YBCO를 이용하여 제작하여 기존의 특성보다 우수한 소자를 창출한 것이다.

公开(公告)号：KR100171378B1

公开(公告)日：1999-03-30

申请号：KR1019950051471

申请日：1995-12-18

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김제하 ,  한석길 ,  강광용

IPC: H01L21/203

Abstract: 본 발명은 대면적 펄스 레이저 박막 증착을 위한 비접촉 회전 전열기에 관한 것이다.
본 발명의 비접촉 회전 전열기는, 전열기(1), 기판 및 기판 지지대(2), 세라믹 열차단 로드(3), 히터 밑판(4), 방열판(5), 회전부주 베어링(7), 회전부 주 베어링 지지축(6), 전열선 연결터미널(9), 열전대 연결 터미널(10), 회전부 주 베어링(7)과 연결된 회전부 간격유지 및 방열판(11)과 회전부 기본 밑판(12), 피동동력 전달기어(14), 회전부 형상 지지로드(13), 냉각수 공급/회수용 피팅(8) 및 셔터(21)로 구성되어, 기판의 온도 조절과 회전을 수행하기 위한 전열기부(A); 상하의 측면 지지 프레임(15,16), 윗면 결합용 지지판(17), 셔터 동작로드 지지 베어링(18), 모터 동력축 지지 베어링(19), 셔터 동작 로드(20), 능동 동력 전달축(22), 능동 동력 전달기어(23), 냉각수 공급/회수용 금속 튜브(24), 열전대선(39), 전열선(40)으로 구성되며, 진공 내에 위치하여 상기한 전열기부(A)와 진공용기 밖에 위치하는 이송부(C)를 연결지지하기 위한 지지부(B); 및, 이송부 전체 지지 플레임(32)에 부착된 이송기어(28), 이송부 동작 손잡이(29), 눈금자(30) 및 지시기(31)로 구성된 기구 동작부, 기구의 이동시 진공을 유지하면서 그 움직임을 가능하게 하는 상하 벨로우즈(25, 26), 진공의 안과 밖을 연결하는 상하부 접속 플랜지(34, 35), 진공 챔버 접속 플랜지(27), 위치 고정 중간 지지판(33), 상부 접속 플랜지(34)에 부착된 수동 로타리식 피드스루(36), 하부 접속 플랜지(35)에 연결된 스텝핑 모터(38), 열전대선용 피드스루(41) 및 전열선용 피드스루로 구성되며, 챔버챔버 접속 플랜지(27)와 이송부 전체 지지판(33)을 기준하여 상기한 기구를 전후 이동시키기 위한 이송부(C)로 구성된다.

公开(公告)号：KR100155310B1

公开(公告)日：1998-10-15

申请号：KR1019950020383

申请日：1995-07-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 강광용 ,  한석길 ,  김제하 ,  이상렬

IPC: H01L27/24

Abstract: 본 발명은 무선 및 마이크로파 통신시스템에 사용되는 핵심부품인 다채널 멀티플렉서의 한부분으로 마이크로스트립 분기선 방식의 3-dB 직각 결합기(coupler)와 평행결합선 방식의 2-극 대역통과 여파기를 집적시킨 고온초전도 서브시스템의 일종이다.
본 발명인 마이크로스트립선 방식의 고온초전도 마이크로파 듀플렉서는 고온초전도 YBCO/MgO 에피텍셜 박막과 미세형상화 공정을 통하여 구현하였으며 출력포트에서의 여파기 신호는 36MHz의 대역폭과 ∼10GHz 중심주파수를 가졌다.
한편, 4-포트형 3-성분 시험지구(test-jig)에 제조한 고온초전도 듀플렉서를 내장시키고 저온 마이크로파 특성을 측정하기 전에, 기판 뒷면에는 전자선 증발기로 이중금속(Ti/Ag)접지평면을 증착하였다.
따라서, 고온초전도 듀플렉서는 YBCO/MgO/Ti/Ag구조를 갖게 되었다. 이러한 고온초전도 듀플렉서는 사용하면 무선 및 마이크로파 통신부품에서 무손실, 무분산으로 신호처리가 가능하고, 마이크로스트립線 방식의 서브시스템이므로 제조도 간단하고 경량이므로 고온초전도 MMICs의 발달을 촉진할 것으로 기대된다.

公开(公告)号：KR1019980048944A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960067599

申请日：1996-12-18

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김제하 ,  한석길 ,  강광용

IPC: H01L21/3065

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
레이저 어블레이션을 이용한 미세 건식식각장치
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
본 발명은 빛을 도파시킬 수 있는 광섬유를 사용하되, 이 광섬유 출구 한 끝을 원뿔형으로 가공하여 도파된 빛을 렌즈의 사용없이 레이저 어블레이션을 발생시키기 위해 필요한 에너지 밀도를 얻고, 이 집적된 에너지를 이용하여 미세 스트립 선로의 폭 및 면적을 직접 식각하므로써 박막집적소자의 표면 정전용량 및 인덕턴스의 미세조정 등을 가능하게 하는 레이저 어블레이션을 이용한 미세 건식식각 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, 자외선 빔을 발생하는 수단; 상기 레이저 발생수단에서 방사되는 레이저 빔의 전달경로를 제공하는 광섬유 도파관; 상기 레이저 발생수단과 광섬유 도파관 사이에 장착되어 광섬유내로 레이저 빔이 입사되도록 집중시키는 수단; 및 상기 광섬유도파관의 출구에서 출력된 빔에 의해 식각재료가 소정각도에서 식각되도록 위치조절하는 샘플 플랫포옴을 포함하는 레이저 어블레이션을 이용한 미세 건식식각장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
박막위에 형성된 마이크로 스트립선로의 폭 및 면적의 미세조정을 레이저 어블레이션을 이용하여 직접적인 건식식각을 통하여 이루므로써 집적소자의 표면정전 용량 및 인덕턴스의 미세조정을 가능하게 하는 것임,

公开(公告)号：KR1019970052042A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950051471

申请日：1995-12-18

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김제하 ,  한석길 ,  강광용

IPC: H01L21/203

Abstract: 본 발명은 대면적 펄스 레이저 박막 증착을 위한 비접촉 회전 전열기에 관한 것이다.
본 발명의 비접촉 회전 전열기는, 전열기(1), 기판 및 기판 지지대(2), 세라믹 열차단 로드(3), 히터 밑판(4), 방열판(5), 회전부주 베어링(7), 회전부 주 베어링 지지축(6), 전열선 연결터미널(9), 열전대 연결 터미널(10), 회전부 주 베어링(7)과 연결된 회전부 간격유지 및 방열판(11)과 회전부 기본 밑판(12), 피동동력 전달기어(14), 회전부 형상 지지로드(13), 냉각수 공급/회수용 피팅(8) 및 셔터(21)로 구성되어, 기판의 온도 조절과 회전을 수행하기 위한 전열기부(A); 상하의 측면 지지 프레임(15,16), 윗면 결합용 지지판(17), 셔터 동작로드 지지 베어링(18), 모터 동력축 지지 베어링(19), 셔터 동작 로드(20), 능동 동력 전달축(22), 능동 동력 전달기어(23), 냉각수 공급/회수용 금속 튜브(24), 열전대선(39), 전열선(40)으로 구성되며, 진공 내에 위치하여 상기한 전열기부(A)와 진공용기 밖에 위치하는 이송부(C)를 연결지지하기 위한 지지부(B); 및, 이송부 전체 지지 플레임(32)에 부착된 이송기어(28), 이송부 동작 손잡이(29), 눈금자(30) 및 지시기(31)로 구성된 기구 동작부, 기구의 이동시 진공을 유지하면서 그 움직임을 가능하게 하는 상하 벨로우즈(25, 26), 진공의 안과 밖을 연결하는 상하부 접속 플랜지(34, 35), 진공 챔버 접속 플랜지(27), 위치 고정 중간 지지판(33), 상부 접속 플랜지(34)에 부착된 수동 로타리식 피드스루(36), 하부 접속 플랜지(35)에 연결된 스텝핑 모터(38), 열전대선용 피드스루(41) 및 전열선용 피드스루로 구성되며, 챔버챔버 접속 플랜지(27)와 이송부 전체 지지판(33)을 기준하여 상기한 기구를 전후 이동시키기 위한 이송부(C)로 구성된다.

公开(公告)号：KR1019960026996A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940035157

申请日：1994-12-19

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 강광용 ,  이상렬 ,  한석길

IPC: H01L39/00

Abstract: 본 발명은 새로운 산화물인 양질의 고온초전도 박막과, 전자기파 저역통과 필터의 회로해석 이론과, 전산모 사용 소프트웨어와, 반도체소자의 제조공정을 응용한 포토리소그래픽 및 식각공정을 이용하여 전자기판영역(3~33GH
z )에서도 매우 우수한 성능을 발휘하며, 종래의 소자에 비하여 크기도 상당히 감소시킬 수 있는 마이크로 스트립 방식의 저역통과 필터를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 전자기파 저역통과 필터이론과 전사모사로써 최적 저역통과 필터의 패턴을 설계하고 상기 설계된 회로 패턴을 전사시켜서 제조한 전자선- 마스크를 사용하여 포토리소그래픽 공정과 필터 패턴의 예리도를 향상시킬 수 있는 식각공정을 통하여 차단주파수가 8GH
z 인 YBCO/MgO/Ti/Ag 구조의 저역통과 필터를 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 전자기파용 고온초전도 7-극 저역통과 필턴는 RF 및 전자기파 통신시스템에 사용되는 핵심부품인 주파수 믹서기를 구성하는 중요소자로서 외부에서 가해주는 바이어스를 제어하거나 또는 특정주파수 이하의 신호만을 통과시키는 전송선소자이며 전자기파 대역용 전류변환 스윗치로서도 효과적이다.
또한 본 발명에 따라 제조된 전자기파용 고온초전도 7-극 저역통과 필터는 무손실, 무분산으로 대용량 정보처리가 가능하고 마이크로 스트립 형태의 전송선 소자이므로 제조하는 것이 간단하고. 종래의 3-극, 5-극 저역통과 필터보다 패턴의 크기(2㎝×1㎝)는 약간 크지만 시뮬레이션의 결과와 상당히 일치하며, 특히 차단주파수 이상에서 입력신호에 대한 저지대역의 가파름(steepness) 특성이 매우 우수하고, 통과대역은 0.5dB(77K) 이내의 삽입손실과 매우 평탄함(flatness)을 가지게 된다.