-
公开(公告)号：CN117121152A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280025831.7
申请日：2022-03-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/09
Abstract: 公开了通过减少多射束装置中的次级带电粒子检测器的检测元件之间的串扰来增强成像分辨率的系统和方法。多射束装置可以包括电光系统，该电光系统包括射束限制孔径板，该射束限制孔径板具有基本垂直于光轴的表面，该射束限制孔径板包括相对于射束限制孔径板的表面处于第一距离处的第一孔径以及相对于射束限制孔径板的表面处于第二距离处的第二孔径，第二距离与第一距离不同。第一孔径可以是射束限制孔径板的在第一距离处的第一孔径集合的一部分，并且第二孔径可以是射束限制孔径板的在第二距离处的第二孔径集合的部分。
-
公开(公告)号：CN111681939B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202010663424.1
申请日：2016-07-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/06 , H01J37/12 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/28
Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。
-
公开(公告)号：CN111164725B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN201880063509.7
申请日：2018-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文公开了一种设备，该设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；开孔；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于开孔处于上游。
-
公开(公告)号：CN116569303A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202180083435.5
申请日：2021-11-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28
Abstract: 一种带电粒子装置，包括带电粒子源(401)和第一偏转器(421)，该第一偏转器(421)被配置为使带电粒子束偏转而以射束倾斜角度着陆在样品表面上，其中第一偏转器基本上位于物镜(411)的主平面处。在其他实施例中，该装置可以包括第一偏转器、第二偏转器和第三偏转器，该第一偏转器位于带电粒子源与物镜之间，并且被配置为使带电粒子束偏转远离主光轴；该第二偏转器基本上位于物镜的焦平面处，并且被配置为使带电粒子束偏转回主光轴；并且该第三偏转器基本上位于物镜的主平面处，其中第三偏转器被配置为使物镜的摆动中心移位到离轴摆动位置，并且其中第一偏转器和第二偏转器被配置为使带电粒子束偏转以使其穿过离轴摆动位置，在第一着陆位置处着陆在样品的表面上并且具有射束倾斜角度。
-
公开(公告)号：CN110383415B
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN201880010544.2
申请日：2018-02-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 提供了用于带电粒子检测的系统和方法。检测系统包括信号处理电路(502)，该信号处理电路(502)被配置为基于从多个电子感测元件(244)接收的电子强度数据来生成一组强度梯度。检测系统进一步包括束斑处理模块(506)，该束斑处理模块(506)被配置为：基于一组强度梯度来确定束斑的至少一个边界；以及基于所述至少一个边界来确定多个电子感测元件中的第一组电子感测元件在束斑内。束斑处理模块可以进一步被配置为：基于从第一组电子感测元件接收的电子强度数据来确定束斑的强度值，并且还基于强度值来生成晶片的图像。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114830287A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080088481.X
申请日：2020-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/141 , H01J37/153 , H01J37/244 , H01J37/29
Abstract: 公开了使用多束设备形成样本的图像的系统和方法。该方法可以包括在与多个初级电子束相互作用时从样本上的多个探测斑生成多个次级电子束。该方法还可以包括：调整与样本相互作用的多个初级电子束的取向，将多个次级电子束引导离开多个初级电子束，补偿多个被引导的次级电子束的像散像差，将多个被引导的次级电子束聚焦到焦平面上，通过带电粒子检测器检测多个被聚焦的次级电子束，以及将带电粒子检测器的检测平面定位在焦平面处或靠近焦平面。
-
公开(公告)号：CN110574139B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201880027803.2
申请日：2018-04-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/147 , H01J37/12
Abstract: 本文中公开了一种设备，其包括：第一导电层；第二导电层；多个光学元件，在第一导电层和第二导电层之间，其中多个光学元件被配置为影响多个带电粒子束；第三导电层，在第一导电层和第二导电层之间；以及电绝缘层，物理连接到光学元件，其中电绝缘层被配置为使光学元件与第一导电层和第二导电层电绝缘。
-
公开(公告)号：CN108738343B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN201680069949.4
申请日：2016-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01N23/2251 , H01J37/10 , H01J37/153
Abstract: 提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
-
公开(公告)号：CN113614873A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN201980087246.8
申请日：2019-11-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147
Abstract: 公开了微结构偏转器阵列(622)，微结构偏转器阵列(622)包括多个多极结构(622‑1至622‑47)。微偏转器的偏转器阵列包括具有距阵列中心轴线第一径向偏移的第一多极结构(622‑26、……622‑47)以及具有距阵列中心轴线第二径向偏移的第二多极结构(622‑1)。第一径向偏移大于第二径向偏移，并且第一多极结构包括比第二多极结构更多数量的极电极，以在多个多极结构将多个带电粒子束偏转时减少偏转像差。微结构偏转器阵列可以被包含在多束检查装置的改进的源转换单元中。
-
公开(公告)号：CN110352469A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201780081259.5
申请日：2017-12-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/317
Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
70
records
(took 0.04 seconds)
