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公开(公告)号：CN100336184C
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN02829190.5
申请日：2002-06-21
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
IPC: H01L21/312
CPC classification number: B05D5/083 , B05D1/60 , B05D7/14 , H01L21/0212 , H01L21/02271 , H01L21/3127
Abstract: 公开了在薄膜器件上形成含氟聚合物层的方法，包含使所述薄膜器件与气相含氟单体接触并用自由基聚合引发剂引发所述含氟单体的聚合，由此，所述含氟单体在所述薄膜器件上聚合成所述含氟聚合物层。
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公开(公告)号：CN1319116C
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN02154229.5
申请日：2002-12-12
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
CPC classification number: C23C14/5806 , B05D1/60 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/56 , C23C14/564 , C23C14/568 , C23C16/45514 , H01L51/001 , H01L51/5008 , H01L51/56 , Y10S438/905
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够形成高密度和高纯度EL层的膜形成装置和清洁方法。本发明为通过加热衬底的加热装置加热衬底10、借助连接到膜形成室的减压装置(如涡轮分子泵、干泵、低温抽气泵等的真空泵)将膜形成室的压力减小到5×10-3乇(0.665Pa)或以下，优选减小到1×10-3乇(0.133Pa)或以下并通过从淀积源淀积有机化合物材料进行膜形成，形成高密度EL层。在膜形成室中，通过等离子体进行淀积掩模的清洁。
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公开(公告)号：CN1878888A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200580000427.0
申请日：2005-05-24
Applicant: 应用微型构造公司
IPC: C23C16/40 , H01L21/316
CPC classification number: C23C16/0227 , B05D1/185 , B05D1/60 , B05D3/142 , B05D3/145 , B05D7/52 , B05D7/56 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/42 , C03C23/006 , C23C16/0245 , C23C16/0272 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/448 , C23C16/4485 , C23C16/455 , C23C16/45557 , C23C16/56 , Y10T428/12618 , Y10T428/12632 , Y10T428/24 , Y10T428/24355 , Y10T428/24967 , Y10T428/24975 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明描述了用于在衬底上施加多层膜/涂层的改进的气相沉积方法和装置。该方法用来沉积多层涂层，其中作为衬底的化学组成的函数来控制与衬底直接接触的基于氧化物的层的厚度，从而使随后沉积的层更好的键合到基于氧化物的层。该改进的方法用来沉积这样的多层涂层，在该多层涂层中，基于氧化物的层直接沉积在衬底上，而基于有机物的层直接沉积在基于氧化物的层上。一般来说，施加一连串基于氧化物的层和基于有机物的层的交错层。
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公开(公告)号：CN1191888C
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN99816506.9
申请日：1999-06-15
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: B05D7/24
CPC classification number: B05D1/60 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D3/147 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/2438 , Y10T428/24479 , Y10T428/24521 , Y10T428/24529 , Y10T428/25 , Y10T428/252
Abstract: 一种在微结构化基材上形成聚合物涂层的方法。所述方法可以是将液态的单体或前体预聚物组合物气化并将气化材料凝结至一微结构化基材上，然后固化。所获得的制品可以具有一种可保持下面微结构特征物轮廓的涂层。这样一种轮廓保持聚合物涂层可以用来改变或提高所述微结构化基材的表面性能，同时还可以保持所述结构的功能。
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公开(公告)号：CN1166810C
公开(公告)日：2004-09-15
申请号：CN97117185.8
申请日：1997-05-21
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: B05D1/60 , B05B17/04 , C23C14/246 , C23C14/562 , G11B5/85
Abstract: 一种形成膜层的方法，包括下列步骤：蒸发液态的沉积材料；该蒸发后的沉积材料加到一可旋转的加热表面上从而使该蒸发后的沉积材料沉积到该加热表面上；加热和蒸发位于，旋转的加热表面上的该已沉积的沉积材料，同时将该已沉积的沉积材料移动；以及将在旋转的加热表面上被蒸发的沉积材料沉积在沉积表面上，将该沉积材料加到加热表面上的使在蒸发步骤中蒸发的沉积材料不能线性地到达沉积表面的位置处。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1369573A
公开(公告)日：2002-09-18
申请号：CN02103325.0
申请日：2002-01-31
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
CPC classification number: H01L51/5203 , B05D1/60 , C23C14/12 , C23C14/564 , C23C14/568 , H01L33/08 , H01L33/36 , H01L51/001 , H01L51/5008 , H01L51/5012 , H01L51/5036 , H01L51/5068 , H01L2924/0002 , H05B33/02 , H05B33/12 , H01L2924/00
Abstract: 提供用于制造具有多个功能区的有机化合物层的一种沉积装置。该沉积装置包括沉积室内的多个蒸发源,能连续形成包括有机化合物的相应的功能区,并且,进一步在功能区的相邻区之间的界面形成混合区。用具有这种制造室的沉积装置,可以防止功能区之间的杂质污染,并且进一步可以在界面形成缩短能隙的有机化合物层。
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公开(公告)号：CN1367721A
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN99816892.0
申请日：1999-09-07
Applicant: 宝洁公司
Inventor： 萨斯瓦蒂·达塔 , 保罗·阿马特·雷蒙德·杰勒德·弗朗斯 , 阿尔谢尼·瓦莱雷维赫·拉多梅谢利斯基
CPC classification number: B05D1/60 , A61L15/24 , B05D3/068 , B05D3/142 , D06M14/18 , D06M15/256 , D06M15/277 , D06M15/353 , D06M15/53 , D06M23/00 , D06M2200/12 , D21H19/16 , C08L25/18 , C08L27/12 , C08L33/16
Abstract: 本发明涉及一种基材的涂布方法,优选一种连续的涂布方法,其是在可渗透水蒸气和优选渗透空气的基材上涂布疏水涂层的方法。该方法优选采用薄膜真空冷凝步骤产生单体涂层,涂布后该单体涂层可就地固化。该方法的优点在于可进行连续作业,并且替代现有的涂布疏水涂层的方法。经涂布后的基材,涂层并未阻塞水蒸气的渗透点,使其仍保持所需的透气性。在这种基材上静态水的接触角大于95°。这种基材优选用于吸附制品上,如尿布、失禁产品、腋下汗垫、卫生巾、妇女经期用品、内裤、胸垫、鞋垫或绷带,或手套、雨衣等防护服装的替代品,在这些制品中非常需要水蒸气特别地从内部渗透到外部。
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公开(公告)号：CN1367205A
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN02102345.X
申请日：2002-01-17
Applicant: 气体产品与化学公司
CPC classification number: C09D183/06 , B05D1/60 , C23C16/401 , H01L21/02126 , H01L21/02131 , H01L21/02216 , H01L21/02274 , H01L21/3121 , H01L21/31629 , H01L21/31633
Abstract: 一种在基片形成低介电常数层间介质薄膜的方法,该方法是通过在足以在基片上沉积薄膜的化学气相沉积条件下,使包括甲硅烷基醚、甲硅烷基醚低聚物或含一个或多个活性基团的有机硅化合物的有机硅前体发生反应,以形成介电常数为3.5或更低的层间介质薄膜。由上述方法形成的薄膜。
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公开(公告)号：CN1083301C
公开(公告)日：2002-04-24
申请号：CN96197266.1
申请日：1996-07-25
Applicant: 巴特勒记忆研究所
CPC classification number: B05D1/60 , H05K3/0091
Abstract: 公开了一种在真空下制备聚合物复合层的方法。具体地说，公开的方法包括把盐类溶于一种单体溶液中，溶液真空闪蒸蒸发，闪蒸蒸发后的溶液冷凝成液膜并将冷凝的液膜在底材上形成聚合物复合层。
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公开(公告)号：CN1344185A
公开(公告)日：2002-04-10
申请号：CN99816506.9
申请日：1999-06-15
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: B05D7/24
CPC classification number: B05D1/60 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D3/147 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/2438 , Y10T428/24479 , Y10T428/24521 , Y10T428/24529 , Y10T428/25 , Y10T428/252
Abstract: 一种在微结构化基材上形成聚合物涂层的方法。所述方法可以是将液态的单体或前体预聚物组合物气化并将气化材料凝结至一微结构化基材上,然后固化。所获得的制品可以具有一种可保持下面微结构特征物轮廓的涂层。这样一种轮廓保持聚合物涂层可以用来改变或提高所述微结构化基材的表面性能,同时还可以保持所述结构的功能。
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