公开(公告)号：JP2006150179A

公开(公告)日：2006-06-15

申请号：JP2004341593

申请日：2004-11-26

Applicant: Seiko Epson Corp ,  セイコーエプソン株式会社

Inventor： KASUGA OSAMU

IPC: B05C9/10 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00 ,  B05D3/10

CPC classification number: B05B12/02 ,  B05D3/064 ,  B05D3/142

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film forming apparatus by which a material for forming a film is applied on the substrate within a prescribed time after the performance of treatment for improving the wettability of the surface in a substrate, so as to form the film with a uniform film thickness.
SOLUTION: A film formation line 2 is composed of: a surface reforming treatment device 4; a film forming solution applying device 6; a drier 8; a time management device 14; belt conveyers BC1, BC2; a drier 12; and a control device 10. In the surface reforming treatment device 4, a substrate carried by the belt conveyer BC1 is subjected to surface reforming treatment. In the time management device 14, whether a preset film formation treatable time has elapsed or not with respect to the substrate subjected to the surface reforming treatment is judged, and, in the case it is within the film formation treatable time, the substrate is conveyed to the film forming solution applying device 6 via the belt conveyer BC1, and, in the case film formation treatable time has elapsed, the substrate is conveyed to the surface reforming treatment device 4 via the belt conveyer BC2. In the film forming solution applying device 6, a film forming solution is applied on the substrate conveyed by the belt conveyer BC1.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种成膜装置，其中在执行用于提高基板中的表面的润湿性的处理之后的规定时间内，在基板上施加用于形成膜的材料的成膜装置，以便 形成具有均匀膜厚度的膜。 解决方案：成膜线2由以下部分组成：表面改性处理装置4; 成膜溶液施加装置6; 干燥8 时间管理装置14; 皮带输送机BC1，BC2; 干燥器12; 和控制装置10.在表面改性处理装置4中，对由带式输送机BC1承载的基板进行表面改性处理。 在时间管理装置14中，判断是否经过了表面改性处理的基板的预设成膜处理时间，并且在成膜处理时间内，传送基板 通过带式输送机BC1到成膜溶液施加装置6，并且在成膜处理时间过去的情况下，基板经由带式输送机BC2被输送到表面改性处理装置4。 在成膜溶液施加装置6中，将成膜溶液施加在由带式输送机BC1输送的基板上。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：KR1020060059187A

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：KR1020050112718

申请日：2005-11-24

Applicant: 세이코 엡슨 가부시키가이샤

Inventor： 가스가오사무

IPC: H01L21/203 ,  G02F1/13

CPC classification number: B05B12/02 ,  B05D3/064 ,  B05D3/142

Abstract: 본 발명은 기판 상의 습윤성을 향상시키는 처리가 행하여진 후, 소정 시간 내에 기판 상에 막을 형성하는 재료를 도포하여 균일한 막 두께를 갖는 막을 형성하는 성막 장치를 제공하는 것으로, 성막 라인(2)은 표면 개질 처리 장치(4), 성막 용액 도포 장치(6), 건조 장치(8), 시간 관리 장치(14), 벨트 컨베이어 BC1, BC2, 구동 장치(12) 및 제어 장치(10)에 의해 구성되어 있다. 표면 개질 처리 장치(4)에 있어서는, 벨트 컨베이어 BC1에 의해 반송된 기판 상에 표면 개질 처리를 실시한다. 시간 관리 장치(14)에 있어서는, 표면 개질 처리가 실시된 기판이 미리 설정된 성막 처리 가능 시간을 경과하고 있는지 여부를 판정하여, 성막 처리 가능 시간 내의 경우에는 벨트 컨베이어 BC1을 통해 성막 용액 도포 장치(6)로, 성막 처리 가능 시간을 경과하고 있는 경우에는 벨트 컨베이어 BC2를 통해 표면 개질 처리 장치(4)로 기판을 반송한다. 성막 용액 도포 장치(6)에 있어서는, 벨트 컨베이어 BC1에 의해 반송된 기판에 성막 용액을 도포한다. 그리고, 건조 장치(8)에 있어서는, 벨트 컨베이어 BC1에 의해 반송된 기판에 건조 처리를 실시하여 기판 상에 도포된 성막 용액을 건조시켜, 소정의 막을 형성한다.

公开(公告)号：KR100748794B1

公开(公告)日：2007-08-13

申请号：KR1020050112718

申请日：2005-11-24

Applicant: 세이코 엡슨 가부시키가이샤

Inventor： 가스가오사무

IPC: H01L21/203 ,  G02F1/13

CPC classification number: B05B12/02 ,  B05D3/064 ,  B05D3/142

Abstract: 본 발명은 기판 상의 습윤성을 향상시키는 처리가 행하여진 후, 소정 시간 내에 기판 상에 막을 형성하는 재료를 도포하여 균일한 막 두께를 갖는 막을 형성하는 성막 장치를 제공하는 것으로, 성막 라인(2)은 표면 개질 처리 장치(4), 성막 용액 도포 장치(6), 건조 장치(8), 시간 관리 장치(14), 벨트 컨베이어 BC1, BC2, 구동 장치(12) 및 제어 장치(10)에 의해 구성되어 있다. 표면 개질 처리 장치(4)에 있어서는, 벨트 컨베이어 BC1에 의해 반송된 기판 상에 표면 개질 처리를 실시한다. 시간 관리 장치(14)에 있어서는, 표면 개질 처리가 실시된 기판이 미리 설정된 성막 처리 가능 시간을 경과하고 있는지 여부를 판정하여, 성막 처리 가능 시간 내의 경우에는 벨트 컨베이어 BC1을 통해 성막 용액 도포 장치(6)로, 성막 처리 가능 시간을 경과하고 있는 경우에는 벨트 컨베이어 BC2를 통해 표면 개질 처리 장치(4)로 기판을 반송한다. 성막 용액 도포 장치(6)에 있어서는, 벨트 컨베이어 BC1에 의해 반송된 기판에 성막 용액을 도포한다. 그리고, 건조 장치(8)에 있어서는, 벨트 컨베이어 BC1에 의해 반송된 기판에 건조 처리를 실시하여 기판 상에 도포된 성막 용액을 건조시켜, 소정의 막을 형성한다.

公开(公告)号：KR1020140142659A

公开(公告)日：2014-12-12

申请号：KR1020140063701

申请日：2014-05-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후세타카시 ,  시부야세츠코

IPC: H01L51/00 ,  B05D3/06 ,  B05D7/02 ,  B05D1/00 ,  C23C16/455

CPC classification number: B05C9/12 ,  B05D1/60 ,  B05D3/063 ,  B05D3/064 ,  B05D3/067 ,  B05D7/02 ,  C23C16/45536 ,  H01L51/001

Abstract: 적용되는 피처리체, 또는 형성되는 막 표면의 형상의 자유도가 높은 유기 분자막의 형성 장치 및 형성 방법을 제공한다. 피처리체 상에 유기 분자막을 형성하는 유기 분자막의 형성 장치(100)는, 피처리체를 수용하는 처리 챔버(11)와, 처리 챔버(11) 내로 유기 재료 가스를 공급하는 유기 재료 가스 공급부(2)와, 피처리체, 피처리체로 공급되는 유기 재료 가스, 및 피처리체의 표면에 형성된 막 중 적어도 하나에 자외선을 조사하는 자외선 조사부(13)를 가지고, 자외선 조사부(13)에 의해, 피처리체, 피처리체로 공급되는 유기 재료 가스, 및 피처리체의 표면에 형성된 막 중 적어도 하나에 자외선을 조사하고, 피처리체 표면 및 형성되는 유기 분자막 중 적어도 하나를 활성화한다.

Abstract translation: 提供一种有机分子膜形成装置和有机分子膜形成方法，其允许对各种处理对象物进行各种选择和形成各种膜表面的形状。 在处理目标物体上形成有机分子膜的有机分子膜形成装置（100）包括：在其中容纳处理对象物体的处理室（11） 向所述处理室供给有机材料气体的有机材料气体供给单元; 以及紫外线照射单元，其将紫外线照射到处理目标物体，供给到处理对象物体的有机材料气体和形成在处理对象物体的表面上的膜中的至少一个。 通过从紫外线照射单元（13）向紫外线照射单元（13）照射紫外线，将处理对象物的表面和其中形成的有机分子膜中的至少一个激活到处理对象物中，提供给 处理目标对象和形成在处理目标对象上的胶片。

公开(公告)号：KR1020160040509A

公开(公告)日：2016-04-14

申请号：KR1020167000176

申请日：2014-06-11

Applicant: 유니버시티 오브 휴스턴

Inventor： 커랜시머스 ,  앨리니겔 ,  리아오강시양 ,  할다르암리타

IPC: C23C16/02 ,  C23C16/44 ,  C23C16/452 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/448 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/02 ,  B05D1/60 ,  B05D3/064 ,  B05D3/142 ,  B05D5/08 ,  C03C17/30 ,  C03C2218/31 ,  C23C14/12 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/448 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/458 ,  C23C16/482 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  C23C16/545 ,  D06B1/08 ,  D06M10/025 ,  D06M10/04

Abstract: 코팅을증착하는시스템및 방법은코팅화학물질반응로, 표면활성화컴포넌트및 증착컴포넌트를포함할수 있다. 타겟표면이표면활성화컴포넌트에의한증착을위해준비될수 있다. 코팅화학물질반응로는코팅화학물질분배기및 코팅화학물질검증기를포함하고증착용코팅화학물질을준비한다. 코팅화학물질검증기는광학여자원과적어도하나의광 검출기를사용할수 있고, 화학물질은이진코드로구성된독특한시그너처로식별된다. 코팅화학물질은타겟표면에코팅화학물질을증착하기위해증착컴포넌트에의해수용될수 있다.

Abstract translation: 用于沉积涂层的系统和方法可以包括涂层化学反应器，表面活化组分和沉积组分。 可以准备目标表面用于与表面活化组分沉积。 涂层化学反应器可以包括涂料化学分配器和涂覆化学验证器，其准备用于沉积的涂料化学品。 涂层化学验证者可以利用光学激发源和至少一个光学检测器，其中通过由二进制代码构成的唯一签名识别化学物质。 涂层化学品可以被沉积组分接收以将涂覆化学品沉积在靶表面上。

公开(公告)号：TWI278355B

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：TW094138845

申请日：2005-11-04

Applicant: 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION

Inventor： 春日治 KASUGA, OSAMU

IPC: B05C

CPC classification number: B05B12/02 ,  B05D3/064 ,  B05D3/142

Abstract: 本發明之課題係在於提供一種成膜裝置，其在施行提高基板上之濕潤性之處理後，在特定時間內在基板上塗敷形成膜之材料，以形成具有均勻膜厚之膜。成膜線2係由表面改性處理裝置4、成膜溶液塗敷裝置6、烘乾裝置8、時間管理裝置14、皮帶輸送機BC1、BC2、驅動裝置12及控制裝置10所構成。在表面改性處理裝置4中，在皮帶輸送機BC1所輸送之基板上施行表面改性處理。在時間管理裝置14中，判定被施行表面改性處理之基板是否經過預先設定之可成膜處理時間，在可成膜處理時間內之情形，經由皮帶輸送機BC1將基板輸送至成膜溶液塗敷裝置6，已經過預先設定之可成膜處理時間之情形，經由皮帶輸送機BC2將基板輸送至表面改性處理裝置4。在成膜溶液塗敷裝置6中，在皮帶輸送機BC1所輸送之基板，塗敷成膜溶液。而，在烘乾裝置8，在皮帶輸送機BC1所輸送之基板施行烘乾處理，以烘乾塗敷於基板上之成膜溶液，形成特定之膜。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题系在于提供一种成膜设备，其在施行提高基板上之湿润性之处理后，在特定时间内在基板上涂敷形成膜之材料，以形成具有均匀膜厚之膜。成膜线2系由表面改性处理设备4、成膜溶液涂敷设备6、烘干设备8、时间管理设备14、皮带输送机BC1、BC2、驱动设备12及控制设备10所构成。在表面改性处理设备4中，在皮带输送机BC1所输送之基板上施行表面改性处理。在时间管理设备14中，判定被施行表面改性处理之基板是否经过预先设置之可成膜处理时间，在可成膜处理时间内之情形，经由皮带输送机BC1将基板输送至成膜溶液涂敷设备6，已经过预先设置之可成膜处理时间之情形，经由皮带输送机BC2将基板输送至表面改性处理设备4。在成膜溶液涂敷设备6中，在皮带输送机BC1所输送之基板，涂敷成膜溶液。而，在烘干设备8，在皮带输送机BC1所输送之基板施行烘干处理，以烘干涂敷于基板上之成膜溶液，形成特定之膜。

公开(公告)号：TW200626248A

公开(公告)日：2006-08-01

申请号：TW094138845

申请日：2005-11-04

Applicant: 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION

Inventor： 春日治 KASUGA, OSAMU

IPC: B05C

CPC classification number: B05B12/02 ,  B05D3/064 ,  B05D3/142

Abstract: 本發明之課題係在於提供一種成膜裝置，其在施行提高基板上之濕潤性之處理後，在特定時間內在基板上塗敷形成膜之材料，以形成具有均勻膜厚之膜。成膜線2係由表面改性處理裝置4、成膜溶液塗敷裝置6、烘乾裝置8、時間管理裝置14、皮帶輸送機BC1、BC2、驅動裝置12及控制裝置10所構成。在表面改性處理裝置4中，在皮帶輸送機BC1所輸送之基板上施行表面改性處理。在時間管理裝置14中，判定被施行表面改性處理之基板是否經過預先設定之可成膜處理時間，在可成膜處理時間內之情形，經由皮帶輸送機BC1將基板輸送至成膜溶液塗敷裝置6，已經過預先設定之可成膜處理時間之情形，經由皮帶輸送機BC2將基板輸送至表面改性處理裝置4。在成膜溶液塗敷裝置6中，在皮帶輸送機BC1所輸送之基板，塗敷成膜溶液。而，在烘乾裝置8，在皮帶輸送機BC1所輸送之基板施行烘乾處理，以烘乾塗敷於基板上之成膜溶液，形成特定之膜。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题系在于提供一种成膜设备，其在施行提高基板上之湿润性之处理后，在特定时间内在基板上涂敷形成膜之材料，以形成具有均匀膜厚之膜。成膜线2系由表面改性处理设备4、成膜溶液涂敷设备6、烘干设备8、时间管理设备14、皮带输送机BC1、BC2、驱动设备12及控制设备10所构成。在表面改性处理设备4中，在皮带输送机BC1所输送之基板上施行表面改性处理。在时间管理设备14中，判定被施行表面改性处理之基板是否经过预先设置之可成膜处理时间，在可成膜处理时间内之情形，经由皮带输送机BC1将基板输送至成膜溶液涂敷设备6，已经过预先设置之可成膜处理时间之情形，经由皮带输送机BC2将基板输送至表面改性处理设备4。在成膜溶液涂敷设备6中，在皮带输送机BC1所输送之基板，涂敷成膜溶液。而，在烘干设备8，在皮带输送机BC1所输送之基板施行烘干处理，以烘干涂敷于基板上之成膜溶液，形成特定之膜。