公开(公告)号：CN103535119B

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201280012756.7

申请日：2012-03-09

Applicant: 伊利克塔股份有限公司

Inventor： T·A·拉奇

IPC: H05H9/00 ,  H01J25/34 ,  H01J1/46 ,  H01J23/075

CPC classification number: H01J25/34 ,  H01J3/02 ,  H01J23/075 ,  H05H9/048 ,  H05H2007/084

Abstract: 本发明提供了一种电子枪(12)，其包括用于生成电子的阴极(20)；阳极(22)；位于阴极和阳极之间的中间电极(24)；以及控制器(14)。所述控制器施加电势至所述中间电极，分析最终得到的电参数，以确定所述中间电极的完整性；并且控制电子枪发出电子脉冲。

公开(公告)号：CN103430275A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201280013818.6

申请日：2012-02-21

Applicant: 电气化学工业株式会社

Inventor： 森下利幸 ,  照井良典 ,  广川晋平

IPC: H01J37/06 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01R43/26 ,  H01J3/02 ,  H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/067 ,  H01J37/07 ,  H01J37/08 ,  Y10T29/49117

Abstract: 本发明是一种预先将阴极（1）和阳极（9）组入进行组装并且能够在将所述阴极和所述阳极组入了的状态下进行保管和输送的带电粒子枪（EG），其特征在于，在保管和输送所述带电粒子枪时，用导体（11）连接所述阴极和所述阳极。由此，能够防止由于在保管和输送过程中产生的静电所引起的放电导致带电粒子枪的电极前端受损。

公开(公告)号：CN101414534B

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN200810166457.4

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414536B

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200810166463.X

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414533A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166456.X

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414128A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166464.4

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414126A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166461.0

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414124A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166459.3

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN1372290A

公开(公告)日：2002-10-02

申请号：CN01139500.1

申请日：2001-11-27

Applicant: 惠普公司

Inventor： H·P·顾 ,  H·比雷基 ,  S·T·林 ,  S·L·纳伯惠斯

IPC: H01J1/30 ,  H01J3/02 ,  G11B9/10 ,  H01L27/10

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B9/10 ,  G11B9/1409 ,  H01J3/02 ,  H01J2201/308

Abstract: 电子源(102)包括用于进行电子发射的平面发射区(114),以及将电子发射聚焦成为电子束的聚焦结构(118,120)。

公开(公告)号：WO2004040614A3

公开(公告)日：2004-09-16

申请号：PCT/NL0300745

申请日：2003-10-30

Applicant: MAPPER LITHOGRAPHY IP BV ,  WIELAND MARCO JAN-JACO ,  KAMPHERBEEK BERT JAN ,  VAN VEEN ALEXANDER HENDRIK VIN ,  KRUIT PIETER

Inventor： WIELAND MARCO JAN-JACO ,  KAMPHERBEEK BERT JAN ,  VAN VEEN ALEXANDER HENDRIK VIN ,  KRUIT PIETER

IPC: A61N5/00 ,  G01Q30/02 ,  G01Q30/08 ,  G03B1/00 ,  H01J37/08 ,  H01J37/30 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317 ,  H01J37/302 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: The invention relates to an electron beam exposure apparatus for transferring a pattern onto the surface of a target (14), comprising: a beamlet generator for generating a plurality of electron beamlets (5a, 5b); a modulation array for receiving said plurality of electron beamlets, comprising a plurality of modulators for modulating the intensity of an electron beamlet; a controller, connected to the modulation array for individually controlling the modulators, an adjustor, operationally connected to each modulator, for individually adjusting the control signal of each modulator; a focusing electron optical system comprising an array of electrostatic lenses (7) wherein each lens focuses a corresponding individual beamlet, which is transmitted by said modulation array, to a cross section smaller than 300 nm, and a target holder for holding a target with its exposure surface onto which the pattern is to be transferred in the first focal plane of the focusing electron optical system.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标（14）的表面上的电子束曝光装置，包括：用于产生多个电子小射束（5a，5b）的小射束发生器; 用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，其包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器; 连接到调制阵列的控制器，用于单独控制调制器;调节器，可操作地连接到每个调制器，用于单独调节每个调制器的控制信号; 包括静电透镜阵列（7）的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列发射的相应的单个子束聚焦到小于300nm的横截面，以及用于保持靶 在聚焦电子光学系统的第一焦平面上图案将被转印到曝光表面上。