公开(公告)号：CN1244121C

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN01139500.1

申请日：2001-11-27

Applicant: 惠普公司

Inventor： H·-P·顾 ,  H·比雷基 ,  S·-T·林 ,  S·L·纳伯惠斯

IPC: H01J1/30 ,  H01J3/02 ,  G11B9/10 ,  H01L27/10

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B9/10 ,  G11B9/1409 ,  H01J3/02 ,  H01J2201/308

Abstract: 电子源(102)包括：活性衬底(104)；在该衬底上的一层，这一层包括平面的多孔硅电子发射区(114)；在该层表面上的形成图案的掩膜，在该形成图案的掩膜中的开孔限定了该发射区；以及用于该发射区的聚焦结构(118，120)。

公开(公告)号：CN104795293A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201410024418.6

申请日：2014-01-20

Applicant: 清华大学 ,  鸿富锦精密工业(深圳)有限公司

Inventor： 柳鹏 ,  李德杰 ,  张春海 ,  周段亮 ,  杜秉初 ,  范守善

IPC: H01J1/308

CPC classification number: H01J29/04 ,  H01J31/12 ,  H01J2201/3125 ,  H01J1/308 ,  H01J2201/308

Abstract: 本发明涉及一种电子发射源，包括：依次层叠设置的第一电极、一半导体层、一绝缘层以及一第二电极，所述第一电极作为该电子发射源的电子发射端，其特征在于，所述半导体层具有多个孔洞间隔设置，所述第一电极为一碳纳米管层，该碳纳米管层在对应多个孔洞位置处悬空设置。

公开(公告)号：CN1372290A

公开(公告)日：2002-10-02

申请号：CN01139500.1

申请日：2001-11-27

Applicant: 惠普公司

Inventor： H·P·顾 ,  H·比雷基 ,  S·T·林 ,  S·L·纳伯惠斯

IPC: H01J1/30 ,  H01J3/02 ,  G11B9/10 ,  H01L27/10

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B9/10 ,  G11B9/1409 ,  H01J3/02 ,  H01J2201/308

Abstract: 电子源(102)包括用于进行电子发射的平面发射区(114),以及将电子发射聚焦成为电子束的聚焦结构(118,120)。

公开(公告)号：US06815875B2

公开(公告)日：2004-11-09

申请号：US09795240

申请日：2001-02-27

Applicant: Huei-Pei Kuo ,  Henryk Birecki ,  Si-Ty Lam ,  Steven Louis Naberhuis

Inventor： Huei-Pei Kuo ,  Henryk Birecki ,  Si-Ty Lam ,  Steven Louis Naberhuis

IPC: H01J102

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B9/10 ,  G11B9/1409 ,  H01J3/02 ,  H01J2201/308

Abstract: An electron source includes a planar emission region for generating an electron emission, and a focusing structure for focusing the electron emission into an electron beam.

公开(公告)号：US06617597B2

公开(公告)日：2003-09-09

申请号：US09997185

申请日：2001-11-30

Applicant: Richard Lee Hilton

Inventor： Richard Lee Hilton

IPC: A61N500

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B9/10 ,  G11B9/14 ,  G11B9/1409 ,  G11B9/1418 ,  H01J3/00 ,  H01J2201/308

Abstract: An electron-beam controller (EBC) capable of controlling the power in an electron-beam is disclosed. The EBC can be implemented with an emitter, an extractor, a current mirror, and an input current having a magnitude responsive to the desired electron beam current. An EBC suited for low-efficiency emitters is also disclosed. A method for controlling the power intensity of an electron-beam over time is also disclosed. The method includes the steps of: (1) providing an emitter at a first voltage, (2) providing a target at a second voltage, (3) introducing an extractor at a controllable third voltage, (4) estimating the actual electron beam energy by sensing the emitter current; and (5) adjusting the third voltage in response to the sensed emitter current.

Abstract translation: 公开了一种能够控制电子束功率的电子束控制器（EBC）。 EBC可以用发射器，提取器，电流镜和具有响应于期望的电子束电流的量级的输入电流来实现。 还披露了适用于低效率发射器的EBC。 还公开了一种用于随时间控制电子束的功率强度的方法。 该方法包括以下步骤：（1）提供第一电压的发射极，（2）以第二电压提供目标，（3）以可控的第三电压引入提取器，（4）估计实际的电子束能量 通过感测发射极电流; 和（5）响应感测的发射极电流来调节第三电压。

公开(公告)号：US06262527B1

公开(公告)日：2001-07-17

申请号：US09153776

申请日：1998-09-15

Applicant: Tom Van Zutphen ,  Frederik C. Gehring

Inventor： Tom Van Zutphen ,  Frederik C. Gehring

IPC: H01J3100

CPC classification number: H01J29/94 ,  H01J29/04 ,  H01J29/485 ,  H01J2201/308

Abstract: Cathode ray tube comprising an electron gun which is constructed in such a way that the gas pressure near the electron-emissive layer (30) of the cathode is lower than in the other parts of the tube. This can be achieved by reducing the aperture between the G1 (33) and G2 (36), by providing the G2 (36) with a skirt (43). The wall of the skirt, the G1 and the G2 may also be at least partly coated with a getter (41).

Abstract translation: 阴极射线管包括电子枪，其构造为使阴极的电子发射层（30）附近的气体压力低于管的其它部分中的气体压力。 这可以通过使G2（36）具有裙部（43）来减小G1（33）和G2（36）之间的孔径来实现。 裙部的壁，G1和G2也可以至少部分地涂覆有吸气剂（41）。

公开(公告)号：EP1801842A1

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：EP05077975.0

申请日：2005-12-23

Applicant: Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO

Inventor： Gubbels, Godefridus Hendricus Maria ,  Zijp, Johannes Petrus

IPC: H01J35/06

CPC classification number: H01J1/30 ,  B82Y10/00 ,  H01J1/312 ,  H01J35/065 ,  H01J2201/30446 ,  H01J2201/308

Abstract: Device for generating X-rays, comprising:
-a field emission cathode (10) configured to emit electrons when an electrical field is applied to the cathode (10); and
-an anode (20), the anode being configured to generate X-rays as a result of receiving electrons from the field emission cathode (10);

wherein the cathode (10) comprises an electron emission surface (S) extending opposite the anode (20), the cathode (10) being configured to emit electrons substantially from the electron emission surface (S) during use.

公开(公告)号：WO2007073172A2

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：PCT/NL2006/000655

申请日：2006-12-22

Applicant: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO ,  GUBBELS, Godefridus, Hendricus, Maria ,  ZIJP, Johannes, Petrus

Inventor： GUBBELS, Godefridus, Hendricus, Maria ,  ZIJP, Johannes, Petrus

IPC: H01J35/06 ,  H01J1/312 ,  H01J1/316

CPC classification number: H01J1/30 ,  B82Y10/00 ,  H01J1/312 ,  H01J35/065 ,  H01J2201/30446 ,  H01J2201/308

Abstract: Device for generating X-rays, comprising: -a field emission cathode (10) configured to emit electrons when an electrical field is applied to the cathode (10); and -an anode (20), the anode being configured to generate X-rays as a result of receiving electrons from the field emission cathode (10); wherein the cathode (10) comprises an electron emission surface (S) extending opposite the anode (20), the cathode (10) being configured to emit electrons substantially from the electron emission surface (S) during use.

Abstract translation: 一种用于产生X射线的装置，包括： - 场致发射阴极（10），其配置为当电场施加到阴极（10）时发射电子; 和 - 阳极（20），阳极被配置为由于从场致发射阴极（10）接收电子而产生X射线; 其中阴极（10）包括与阳极（20）相对延伸的电子发射表面（S），阴极（10）构造成在使用期间基本上从电子发射表面（S）发射电子。

公开(公告)号：US20190108966A1

公开(公告)日：2019-04-11

申请号：US16150675

申请日：2018-10-03

Applicant: KLA-TENCOR CORPORATION

Inventor： Gildardo R. Delgado ,  Rudy F. Garcia ,  Katerina Ioakeimidi ,  Frances Hill ,  Michael E. Romero

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/28 ,  H01J19/24

CPC classification number: H01J37/073 ,  G02B27/0927 ,  H01J1/3044 ,  H01J1/34 ,  H01J19/24 ,  H01J37/06 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J40/06 ,  H01J40/18 ,  H01J2201/30411 ,  H01J2201/30449 ,  H01J2201/3048 ,  H01J2201/308 ,  H01J2201/3423 ,  H01J2201/3425 ,  H01J2201/3426 ,  H01J2237/06333 ,  H01J2237/24521 ,  H01J2237/24592 ,  H01J2237/2817 ,  H01L21/67288

Abstract: A photocathode structure, which can include an alkali halide, has a protective film on an exterior surface of the photocathode structure. The protective film includes ruthenium. This protective film can be, for example, ruthenium or an alloy of ruthenium and platinum. The protective film can have a thickness from 1 nm to 20 nm. The photocathode structure can be used in an electron beam tool like a scanning electron microscope.

公开(公告)号：US20020117953A1

公开(公告)日：2002-08-29

申请号：US09795240

申请日：2001-02-27

Inventor： Huei-Pei Kuo ,  Henryk Birecki ,  Si-Ty Lam ,  Steven Louis Naberhuis

IPC: H01J001/02 ,  H01J001/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B9/10 ,  G11B9/1409 ,  H01J3/02 ,  H01J2201/308

Abstract: An electron source includes a planar emission region for generating an electron emission, and a focusing structure for focusing the electron emission into an electron beam.

Abstract translation: 电子源包括用于产生电子发射的平面发射区域和用于将电子发射聚焦成电子束的聚焦结构。