公开(公告)号：US3329849A

公开(公告)日：1967-07-04

申请号：US44290265

申请日：1965-03-26

Applicant: MINNESOTA MINING & MFG

Inventor： JONES DERRICK A

IPC: H01J3/02

CPC classification number: H01J3/028 ,  H01J3/026 ,  H01J3/027

公开(公告)号：US3292041A

公开(公告)日：1966-12-13

申请号：US29085163

申请日：1963-06-26

Applicant: HITACHI LTD

Inventor： SHINJIRO KATAGIRI ,  HIROKAZU KIMURA

IPC: H01J3/02

CPC classification number: H01J3/028

公开(公告)号：US3132275A

公开(公告)日：1964-05-05

申请号：US3275560

申请日：1960-05-31

Applicant: EITEL MCCULLOUGH INC

Inventor： MERDINIAN GEORGE K

IPC: H01J3/02 ,  H01J29/48

CPC classification number: H01J3/028 ,  H01J29/487

公开(公告)号：US3109953A

公开(公告)日：1963-11-05

申请号：US5907960

申请日：1960-09-28

Applicant: GEN ELECTRIC

Inventor： BURNETT KENNETH J

IPC: H01J3/02

CPC classification number: H01J3/028

公开(公告)号：US2932755A

公开(公告)日：1960-04-12

申请号：US56229156

申请日：1956-01-30

Applicant: APPLIED RADIATION CORP

Inventor： JEPPSON MORRIS R

IPC: H01J3/02

CPC classification number: H01J3/02 ,  H01J3/028

公开(公告)号：US2431137A

公开(公告)日：1947-11-18

申请号：US58823045

申请日：1945-04-13

Applicant: KREISLER MFG CORP JACQUES

Inventor： RUDOLPH O'LARTE ,  KURT SPECK

IPC: H01J3/02 ,  H01J29/48

CPC classification number: H01J3/028 ,  H01J29/485

公开(公告)号：JP2012238624A

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：JP2011104740

申请日：2011-05-09

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： ITO JUN

IPC: H01L21/027 ,  H01J37/067 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/028 ,  H01J37/067 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/022

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology which is advantageous for shortening the time required for replacing an electrode of an electron gun.SOLUTION: An electron beam lithography apparatus for drawing a pattern on a substrate by electron beams emitted from an electron gun includes: an adjustment chamber for adjusting a standby electrode constituting the electron gun as a standby of an electrode; and a drive mechanism in which the used electrode is detached from the electron gun and the standby electrode adjusted in the adjustment chamber is incorporated into the electron gun. The supply of electric power to the standby electrode is included in adjustment of the standby electrode.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种有利于缩短更换电子枪电极所需的时间的技术。 解决方案：一种用于通过从电子枪发射的电子束在衬底上绘制图案的电子束光刻设备包括：用于调节构成电子枪的备用电极作为电极的待机的调节室; 以及驱动机构，其中使用的电极与电子枪分离，并且在调节室中调节的待机电极被并入到电子枪中。 备用电极的电力供给包括在备用电极的调整中。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP3934836B2

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：JP30983599

申请日：1999-10-29

Applicant: 浜松ホトニクス株式会社

Inventor： 豊 落合

IPC: H05G1/08 ,  G01N23/04 ,  G21K5/02 ,  H01J3/02 ,  H01J35/02 ,  H01J35/06 ,  H01J35/14 ,  H05G1/00 ,  H05G1/02 ,  H05G1/06 ,  H05G1/10

CPC classification number: H05G1/10 ,  G01N23/04 ,  H01J3/028 ,  H01J35/025 ,  H01J35/06 ,  H01J35/14 ,  H01J2235/087 ,  H01J2235/186 ,  H05G1/06

公开(公告)号：JP2006512753A

公开(公告)日：2006-04-13

申请号：JP2004563030

申请日：2003-12-30

Applicant: シーイービーティー・カンパニー・リミティッドCebt Co., Ltd.

Inventor： アーン・セウンジョーン ,  キム・ダエウォーク ,  キム・ホセオブ

IPC: H01L21/027 ,  G03F9/00 ,  G21K1/00 ,  G21K5/04 ,  H01J3/02 ,  H01J3/10 ,  H01J37/04 ,  H01J37/06 ,  H01J37/067 ,  H01J37/15

CPC classification number: H01J3/028 ,  H01J3/10 ,  H01J37/067 ,  H01J37/15 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1501 ,  H01J2237/1502 ,  H01J2237/24465 ,  H01J2237/24507

Abstract: 【課題】 電子放出源から放出される電子（電子ビーム）の位置をエクストラクタで直接感知することによって、マイクロカラムのエクストラクタ孔及び電子放出源の整列をより容易に且つ簡便に行うことができ、しかも自動整列を可能にすることによって、長時間電子カラムを使用しても、正確な整列補正を容易に且つ自動に行うことができるエクストラクタ及びこれらを整列する方法を提供する。
【解決手段】 本発明によるマイクロカラムに用いられるエクストラクタは、電子放出源から放出された電子ビームの電子を電気的に導通させる複数の感知領域と、電子の流れを遮断する絶縁体又は電子の流れを減少させる低濃度ドープ半導体よりなり、前記各々の感知領域を分割する絶縁部と、を備える。

公开(公告)号：US20190147578A1

公开(公告)日：2019-05-16

申请号：US16154374

申请日：2018-10-08

Applicant: ARCAM AB

Inventor： Calle Hellestam ,  Mattias Fager

IPC: G06T7/00 ,  H01J37/22

CPC classification number: G06T7/001 ,  B22F3/1055 ,  B29C64/153 ,  B29C64/393 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00 ,  H01J3/028 ,  H01J37/222 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/065 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/3128

Abstract: A method for detecting electron beam filament wear in an electron beam source, the method comprising the steps of: enlarging a beam spot emanating from the electron beam source on a work table to a predetermined minimum size, capturing an image of the beam spot on the work table by a camera, comparing the captured image of the beam spot with a reference image, and detecting filament wear if the captured image is deviating more than a predetermined value from the reference image.