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公开(公告)号：TW201723668A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105129731
申请日：2016-09-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 丹 尼歐為拉 紐伯圖司 裘賽夫斯 馬汀尼司 , VAN DEN NIEUWELAAR, NORBERTUS JOSEPHUS MARTINUS , 布蘭科 卡巴羅 維特 馬努兒 , BLANCO CARBALLO, VICTOR MANUEL , 馬他爾 湯瑪斯 奧古特斯 , MATTAAR, THOMAS AUGUSTUS , 麥爾曼 喬漢斯 康納歷斯 波勒斯 , MELMAN, JOHANNES CORNELIS PAULUS , 派特司 葛本 , PIETERSE, GERBEN , 凡 丹 文 喬和納斯 山德斯 古林默 馬利亞 , VAN DE VEN, JOHANNES THEODORUS GUILLIELMUS MARIA , 凡 丹 文 簡-派特 , VAN DE VEN, JAN-PIET , 凡 吉斯 比卓斯 法新克司 , VAN GILS, PETRUS FRANCISCUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70725
Abstract: 計算用於支撐一浸潤微影裝置中之一基板的一基板支撐件之一路線以滿足以下約束： 在該基板之邊緣首先接觸浸潤空間之後，該基板保持與該浸潤空間接觸直至曝光所有目標部分為止； 在該基板在一掃描方向上移動的同時執行目標部分之曝光；及 在曝光之間的該基板之所有移動在平行於其上部表面之一平面中彎曲或僅在該等掃描方向或橫向方向中之一者中進行。
Abstract in simplified Chinese: 计算用于支撑一浸润微影设备中之一基板的一基板支撑件之一路线以满足以下约束： 在该基板之边缘首先接触浸润空间之后，该基板保持与该浸润空间接触直至曝光所有目标部分为止； 在该基板在一扫描方向上移动的同时运行目标部分之曝光；及 在曝光之间的该基板之所有移动在平行于其上部表面之一平面中弯曲或仅在该等扫描方向或横向方向中之一者中进行。
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公开(公告)号：TWI588594B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW105110661
申请日：2016-04-01
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 爵森 法蘭克 阿諾迪斯 佑翰納斯 馬麗亞 , DRIESSEN, FRANK ARNOLDUS JOHANNES MARIA , 徐 端孚 , HSU, DUAN-FU STEPHEN
CPC classification number: G03F1/24 , G03F1/34 , G03F7/70033 , G03F7/70433
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公开(公告)号：TWI588442B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW104128216
申请日：2015-08-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH
CPC classification number: G01B11/14 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7007 , G03F9/703
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公开(公告)号：TW201721307A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105129094
申请日：2016-09-08
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 奎恩斯 瑞尼 馬利奈斯 吉拉杜斯 喬翰 , QUEENS, RENE MARINUS GERARDUS JOHAN , 東克波爾克 艾倫德 喬漢思 , DONKERBROEK, AREND JOHANNES , 安德利希歐拉 彼多 , ANDRICCIOLA, PIETRO , 凡 威斯特 艾伍德 法蘭克 , VAN WEST, EWOUD FRANK
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F9/7034 , G03F9/7026 , G03F9/7092
Abstract: 一微影設備使用一高度感測器(LS)以獲得表示橫越一基板(718)之一構形變化之高度感測器資料(722)。使用(730)該高度感測器資料以控制一器件圖案在橫越該基板之多個部位處之聚焦。一控制器識別高度感測器資料被判斷為可靠的一或多個第一區域(A)及該高度感測器資料被判斷為較不可靠的一或多個第二區域(B、C)。使用用於該等第一區域之高度感測器資料連同預期器件特定構形之先前知識(712)來計算(724)用於該等第二區域之替代高度資料。使用來自該感測器之該高度資料及該替代高度資料之一組合來控制該微影設備之該聚焦。
Abstract in simplified Chinese: 一微影设备使用一高度传感器(LS)以获得表示横越一基板(718)之一构形变化之高度传感器数据(722)。使用(730)该高度传感器数据以控制一器件图案在横越该基板之多个部位处之聚焦。一控制器识别高度传感器数据被判断为可靠的一或多个第一区域(A)及该高度传感器数据被判断为较不可靠的一或多个第二区域(B、C)。使用用于该等第一区域之高度传感器数据连同预期器件特定构形之先前知识(712)来计算(724)用于该等第二区域之替代高度数据。使用来自该传感器之该高度数据及该替代高度数据之一组合来控制该微影设备之该聚焦。
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公开(公告)号：TWI587073B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW103129598
申请日：2014-08-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 雷那司 巴特 , LAENENS, BART , 威斯特 珊德 弗瑞德瑞克 , WUISTER, SANDER FREDERIK
CPC classification number: G06F17/5081 , G03F1/36 , G03F7/0002 , G06F17/5009
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI585545B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104118650
申请日：2015-06-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 貝瑟康 雅特 艾瑞納 , VAN BEUZEKOM, AART ADRIANUS , 艾伯堤 喬賽夫 安格斯堤娜斯 瑪莉亞 , ALBERTI, JOZEF AUGUSTINUS MARIA , 希格斯 赫伯 馬里 , SEGERS, HUBERT MARIE , 凡 德 翰 羅納德 , VAN DER HAM, RONALD , 法尼 法蘭西斯 , FAHRNI, FRANCIS , 歐利史萊吉斯 羅德 , OLIESLAGERS, RUUD , 派特司 葛本 , PIETERSE, GERBEN , 羅伯茲 康納利 馬利亞 , ROPS, CORNELIUS MARIA , 凡 登 艾吉登 佩吉 , VAN DEN EIJNDEN, PEPIJN , 凡東京 保羅 , VAN DONGEN, PAUL , 威廉森 巴斯 , WILLEMS, BAS
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7075 , G03F7/70341 , G03F7/70991
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公开(公告)号：TWI585543B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW102111949
申请日：2013-04-02
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 威克 郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 史密茲 羅傑 威哈幕斯 安東尼斯 亨利克斯 , SCHMITZ, ROGER WILHELMUS ANTONIUS HENRICUS , 諾登布 雅努 威稜 , NOTENBOOM, ARNOUD WILLEM , 威爾 曼諾 愛麗斯 , WILL, MANON ELISE
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70708 , G03F7/70875 , H01L21/6831
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公开(公告)号：TW201719846A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105127029
申请日：2016-08-24
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
IPC: H01L23/544 , H01L21/66 , G06F17/10 , G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7019 , G03F7/70633 , G03F9/7023 , G03F9/7046
Abstract: 本發明描述一種用於一感測器之初始化方法，該感測器經組態以使用各別複數個不同量測參數來執行一物件之一屬性之複數個量測，該複數個量測中之不同量測使用不同量測參數，該方法包含： - 基於該複數個量測估計該屬性之一特性，該特性包含藉由一各別加權係數而加權的該複數個量測之各別量測之各別後果之一組合； - 使用該物件之複數個模型，該等模型中之每一各別模型經組態以實現該執行該複數個量測之一各別模擬； - 針對該複數個模型中之各別模型中的每一者執行一各別模擬，該各別模擬包括在各別複數個不同模擬參數之控制下模擬該複數個量測以獲得該屬性之各別複數個經模擬特性，該複數個不同模擬參數指示該複數個不同量測參數； - 針對該複數個模型中之每一各別模型判定一各別偏誤，該各別偏誤表示根據該各別模型之該屬性之一各別理論特性與該各別模型中之該屬性之該等經模擬特性的一各別另外組合之間的一各別差；該等經模擬特性之該各別另外組合包含該複數個權重係數，該複數個權重係數中之每一特定權重係數與該複數個不同模擬參數中之一特定模擬參數相關聯； - 使用經組態以最佳化該屬性之該經模擬特性與該屬性之該理論特性之間的一對應性之一成本函數；該成本函數為該複數個模型之該等各別偏誤之一函數； - 最佳化該成本函數，藉此自該成本函數導出該複數個權重係數； - 於與該感測器相關聯之一控制器中使用該等權重係數及該等關聯模擬參數。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种用于一传感器之初始化方法，该传感器经组态以使用各别复数个不同量测参数来运行一对象之一属性之复数个量测，该复数个量测中之不同量测使用不同量测参数，该方法包含： - 基于该复数个量测估计该属性之一特性，该特性包含借由一各别加权系数而加权的该复数个量测之各别量测之各别后果之一组合； - 使用该对象之复数个模型，该等模型中之每一各别模型经组态以实现该运行该复数个量测之一各别仿真； - 针对该复数个模型中之各别模型中的每一者运行一各别仿真，该各别仿真包括在各别复数个不同仿真参数之控制下仿真该复数个量测以获得该属性之各别复数个经仿真特性，该复数个不同仿真参数指示该复数个不同量测参数； - 针对该复数个模型中之每一各别模型判定一各别偏误，该各别偏误表示根据该各别模型之该属性之一各别理论特性与该各别模型中之该属性之该等经仿真特性的一各别另外组合之间的一各别差；该等经仿真特性之该各别另外组合包含该复数个权重系数，该复数个权重系数中之每一特定权重系数与该复数个不同仿真参数中之一特定仿真参数相关联； - 使用经组态以最优化该属性之该经仿真特性与该属性之该理论特性之间的一对应性之一成本函数；该成本函数为该复数个模型之该等各别偏误之一函数； - 最优化该成本函数，借此自该成本函数导出该复数个权重系数； - 于与该传感器相关联之一控制器中使用该等权重系数及该等关联仿真参数。
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公开(公告)号：TW201717256A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105131427
申请日：2016-09-29
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS
IPC: H01L21/027 , H01L21/66
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/70641
Abstract: 本發明揭示一種方法，該方法涉及：量測針對一製程參數之值的一第一範圍設計之一第一度量衡目標；量測針對同一製程參數之值的一第二範圍設計之一第二度量衡目標，該第二範圍不同於該第一範圍且該第二度量衡目標具有與該第一度量衡目標不同的一實體設計；及自根據該量測該第一度量衡目標判定之該第一範圍中的該製程參數之一值及自根據該量測該第二度量衡目標判定之該第二範圍中的該製程參數之一值來導出製程窗資料。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种方法，该方法涉及：量测针对一制程参数之值的一第一范围设计之一第一度量衡目标；量测针对同一制程参数之值的一第二范围设计之一第二度量衡目标，该第二范围不同于该第一范围且该第二度量衡目标具有与该第一度量衡目标不同的一实体设计；及自根据该量测该第一度量衡目标判定之该第一范围中的该制程参数之一值及自根据该量测该第二度量衡目标判定之该第二范围中的该制程参数之一值来导出制程窗数据。
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公开(公告)号：TW201716879A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105121930
申请日：2016-07-12
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 薩意德 史文 , SAEED, SEERWAN , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 于淼 , YU, MIAO , 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARIN , 麥克齊伯林克 佛迪 , MIGCHELBRINK, FERDY , 凡 尚默任 丹 丹尼爾 喬納斯 安東尼斯 , VAN SOMMEREN, DAAN DANIEL JOHANNES ANTONIUS , 凡 迪 溫可 吉米 馬特斯 威哈幕斯 , VAN DE WINKEL, JIMMY MATHEUS WILHELMUS , 雷梅克斯 傑羅伊恩 阿諾多斯 李奧納多斯 裘漢那斯 , RAAYMAKERS, JEROEN ARNOLDUS LEONARDUS JOHA , 雷思 阿努德斯 喬納斯 馬丁諾斯 喬瑟夫 , RAS, ARNOLDUS JOHANNES MARTINUS JOZ , 阿茲 彼卓司 馬度那斯 葛瑞德斯 裘漢那斯 , ARTS, PETRUS MARTINUS GERARDUS JOHAN , 布登貝格 哈洛德 賽巴斯汀 , BUDDENBERG, HAROLD SEBASTIAAN , 庫肯斯 弗羅爾 羅德維克 , KEUKENS, FLOOR LODEWIJK , 坦納撒 喬爾發 , TANASA, GHEORGHE , 瓦特斯 馬瑞吉 , WOUTERS, MARIJN
CPC classification number: G03F7/7085 , G01N21/9515 , G03F7/70341 , G03F7/7065 , G03F7/70916 , H01L22/12 , H01L27/14627 , H01L27/14678 , H01L27/14862
Abstract: 本發明揭示一種用於檢測用於處理生產基板之一裝置(例如，一微影裝置)之一組件(例如，一液體限制系統)的檢測基板，該檢測基板包含：一本體，其具有相似於一生產基板之尺寸，使得該檢測基板與該裝置相容；一感測器，例如，一成像器件或一壓力感測器，其用於產生與緊接於該檢測基板的該裝置之一組件之一參數相關的檢測資訊，該感測器嵌入於該本體中；及一儲存器件，其嵌入於該本體中，該儲存器件經組態以儲存該檢測資訊。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于检测用于处理生产基板之一设备(例如，一微影设备)之一组件(例如，一液体限制系统)的检测基板，该检测基板包含：一本体，其具有相似于一生产基板之尺寸，使得该检测基板与该设备兼容；一传感器，例如，一成像器件或一压力传感器，其用于产生与紧接于该检测基板的该设备之一组件之一参数相关的检测信息，该传感器嵌入于该本体中；及一存储器件，其嵌入于该本体中，该存储器件经组态以存储该检测信息。
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