公开(公告)号：AU9322001A

公开(公告)日：2002-03-04

申请号：AU9322001

申请日：2001-08-23

Applicant: REFLECTIVITY INC

Inventor： REID JASON S

IPC: B81B3/00 ,  B44C1/22 ,  H01L21/00

公开(公告)号：AU8101901A

公开(公告)日：2002-02-18

申请号：AU8101901

申请日：2001-08-03

Applicant: REFLECTIVITY INC

Inventor： HUIBERS ANDREW G ,  ILKOV FEDOR ,  PATEL SATYADEV ,  RICHARDS PETER W ,  STOCKTON JOHN

IPC: B81B3/00 ,  B81B7/02 ,  B81B7/04 ,  B81C1/00 ,  G02B26/08 ,  G02B27/18 ,  G03B21/00 ,  G03B21/10 ,  H04N3/08 ,  H04N5/74

Abstract: A micro-mirror (24) is connected to a substrate (10) via a post (21), a hinge (18c), a post (16c) and metal areas (12a) and an array of the micro-mirrors is disposed in a rectangular shape with a capability of rotation around a switching axis between on and off states corresponding to pixels in a viewed image. Light is directed from a source to the mirrors non-perpendicularly to at least two sides of each mirror, while reflected light is received from collection optics. Independent claims are included for an array of movable micro-mirrors, for a method of positioning an image on a target, for a method of spatially modulating light beams, for an optical micro-mirror element, for a packaged micro-electromechanical device and for a method of making a micro-mirror.

公开(公告)号：TW200615601A

公开(公告)日：2006-05-16

申请号：TW094131664

申请日：2005-09-14

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 帕戴爾沙帝愛德福 PATEL, SATYADEV

IPC: G02B ,  B81B

CPC classification number: G02B26/0841

Abstract: 本發明之微鏡元件包含一反射式可偏轉鏡面以及一提供來偏轉該鏡面之定址電極，其中該定址電極沿著垂直於該鉸鏈長度之方向位移，以使該定址電極之一部分延伸超出該鏡面。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之微镜组件包含一反射式可偏转镜面以及一提供来偏转该镜面之寻址电极，其中该寻址电极沿着垂直于该铰链长度之方向位移，以使该寻址电极之一部分延伸超出该镜面。

公开(公告)号：TW200515007A

公开(公告)日：2005-05-01

申请号：TW093130243

申请日：2004-10-06

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 許伯斯安卓G HUIBERS, ANDREW G ,  帕戴爾沙帝愛德福R PATEL, SATYADEV R.

IPC: G02B ,  B81B

CPC classification number: G02B26/0841

Abstract: 一種顯示系統用之空間光調變器微鏡陣列之微鏡，其包含一鏡板附著至一鉸鏈，該鉸鏈係為兩個形成在一基材上之支撐柱所支撐。同時，該鏡板也可操作以沿著一旋轉軸旋轉，該軸係平行鏡板的對角線，但當由頂部看時偏移開該鏡板的對角線。一連接至兩支撐柱之鏡像線並不平行於鏡板之任一對角線。

Abstract in simplified Chinese: 一种显示系统用之空间光调制器微镜数组之微镜，其包含一镜板附着至一铰链，该铰链系为两个形成在一基材上之支撑柱所支撑。同时，该镜板也可操作以沿着一旋转轴旋转，该轴系平行镜板的对角线，但当由顶部看时偏移开该镜板的对角线。一连接至两支撑柱之镜像线并不平行于镜板之任一对角线。

公开(公告)号：TW200500783A

公开(公告)日：2005-01-01

申请号：TW093110418

申请日：2004-04-14

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 帕戴爾沙帝愛德福 PATEL, SATYADEV ,  許伯斯安卓 HUIBERS, ANDREW ,  史賓德特克里斯多夫 SPINDT, CHRISTOPHER ,  休利可絲彼得 HEUREUX, PETER

IPC: G03B

CPC classification number: B81B3/0051 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/058 ,  C10L1/026 ,  G02B26/0841

Abstract: 一種空間光調制器以及製造此調製器的方法被揭示，該調製器包含一陣列的鏡子元件，每一鏡子元件都具有至少一第一電極及一第二電極。該第一電極被指定來將該微鏡元件的鏡板驅使至一對正(ON)狀態，及該第二電極被指定來將該微鏡元件的鏡板驅使至一偏斜(OFF)狀態。這兩個電極可被設置在該鏡板的同一例上，但在該鏡板的轉動軸的相反側上用以驅使該鏡板轉動於相反方向上。或者，這兩個電極可被設置在該鏡板的相反側上，但在在該鏡板的轉動軸的同一側上用以驅使該鏡板轉動於相反方向上。該鏡板的ON狀態及OFF狀態可為止動部所界定。止動部可被形成在基材上，在用來支承該微鏡元件的鏡板的鉸鏈結構上及／或該微鏡元件用的一所想要的位置上。或者，用於ON狀態及OFF狀態的電極可單獨地，相組合地或與其它構件，如微鏡元件的基材，相結合地被用作為止動部。OFF狀態角與ON狀態角最好是不相同。

Abstract in simplified Chinese: 一种空间光调制器以及制造此调制器的方法被揭示，该调制器包含一数组的镜子组件，每一镜子组件都具有至少一第一电极及一第二电极。该第一电极被指定来将该微镜组件的镜板驱使至一对正(ON)状态，及该第二电极被指定来将该微镜组件的镜板驱使至一偏斜(OFF)状态。这两个电极可被设置在该镜板的同一例上，但在该镜板的转动轴的相反侧上用以驱使该镜板转动于相反方向上。或者，这两个电极可被设置在该镜板的相反侧上，但在在该镜板的转动轴的同一侧上用以驱使该镜板转动于相反方向上。该镜板的ON状态及OFF状态可为止动部所界定。止动部可被形成在基材上，在用来支承该微镜组件的镜板的铰链结构上及／或该微镜组件用的一所想要的位置上。或者，用于ON状态及OFF状态的电极可单独地，相组合地或与其它构件，如微镜组件的基材，相结合地被用作为止动部。OFF状态角与ON状态角最好是不相同。

公开(公告)号：TW200500206A

公开(公告)日：2005-01-01

申请号：TW093110419

申请日：2004-04-14

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 湯泰瑞 TARN, TERRY

IPC: B32B ,  H01L ,  B81C ,  B81B

Abstract: 一種具有整合一加熱器的微機電元件封裝及一種用來封裝此微機電元件的方法被揭示於本發明中。該微機電元件封裝包含一第一封裝基材及一第二封裝基材，一微機電元件，如一微鏡陣列元件，位在它們之間。為了要將該第一及第二封裝基材接合在一起來將該微機電元件封裝於其內，一密封介質層被沉積上被該加熱器所加熱用以將該第一及第二封裝基材接合在一起。

Abstract in simplified Chinese: 一种具有集成一加热器的微机电组件封装及一种用来封装此微机电组件的方法被揭示于本发明中。该微机电组件封装包含一第一封装基材及一第二封装基材，一微机电组件，如一微镜数组组件，位在它们之间。为了要将该第一及第二封装基材接合在一起来将该微机电组件封装于其内，一密封介质层被沉积上被该加热器所加热用以将该第一及第二封装基材接合在一起。

公开(公告)号：TWI428653B

公开(公告)日：2014-03-01

申请号：TW094131664

申请日：2005-09-14

Applicant: 雷弗萊提維提公司 ,  REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 帕戴爾沙帝愛德福 ,  PATEL, SATYADEV

IPC: G02B7/182 ,  B81B3/00

CPC classification number: G02B26/0841

公开(公告)号：TW200631402A

公开(公告)日：2006-09-01

申请号：TW094104541

申请日：2005-02-16

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 李察彼得 RICHARDS, PETER ,  許伯斯安卓 HUIBERS, ANDREW ,  康比斯麥克 COMBES, MICHEL

IPC: H04N

CPC classification number: H04N9/315 ,  G02B26/008 ,  G09G3/3413 ,  G09G2310/0235 ,  G09G2310/024 ,  H04N9/3114

Abstract: 本發明提供一種利用光調節器而用於提供連續色彩光束於顯示系統的照明系統。該照明系統包含一光源、一光導管與一色彩濾光片，其中該色彩濾光片是位於照明光線傳播路徑上而在光導管之後，使得在光調節器上發光之主要色彩光束定義了色彩轉變期間中之邊界

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种利用光调节器而用于提供连续色彩光束于显示系统的照明系统。该照明系统包含一光源、一光导管与一色彩滤光片，其中该色彩滤光片是位于照明光线传播路径上而在光导管之后，使得在光调节器上发光之主要色彩光束定义了色彩转变期间中之边界

公开(公告)号：TW200613766A

公开(公告)日：2006-05-01

申请号：TW094121044

申请日：2005-06-23

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 西蒙尼安迪米崔 SIMONIAN, DMITRI ,  芬斯汀凱西 FEINSTEIN, CASEY

IPC: G02B

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N21/9501

Abstract: 本發明提供一種用共振(resonation)技術來評量具有可變形的及可偏轉的構件之微機電元件的品質的方法及設備。詳言之，藉由可變形的及可偏轉的元件的一致性為特徵之產品品質以在一晶圓程級上(wafer–level)的一光學共振圖映(mapping)機構來加以檢查。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用共振(resonation)技术来评量具有可变形的及可偏转的构件之微机电组件的品质的方法及设备。详言之，借由可变形的及可偏转的组件的一致性为特征之产品品质以在一晶圆程级上(wafer–level)的一光学共振图映(mapping)机构来加以检查。

公开(公告)号：TW200512824A

公开(公告)日：2005-04-01

申请号：TW093127548

申请日：2004-09-10

Applicant: 雷弗萊提維提公司 REFLECTIVITY, INC.

Inventor： 撒迪特葛利格瑞P SCHAADT, GREGORY P. ,  釋弘勤 SHI, HONGQIN

IPC: H01L

CPC classification number: B81C1/00595 ,  B81C2201/0132

Abstract: 本發明教示使用一或多種所選擇自發式氣相蝕刻劑以移除在製造微結構中犧牲材料之一種方法與設備。所選擇蝕刻劑在一連串注入循環之每一注入循環期間中被注入至一包含有該微結構之蝕刻室中，直到該微結構之犧牲材料藉由該蝕刻劑與該犧牲材料之間的化學反應被消耗盡為止。更詳細地說，在一第一注入循環期間中，一所選擇自發式氣相蝕刻劑之第一量係被注入至該蝕刻室中。在一第二注入循環期間中，一蝕刻劑之第二量係被注入至該蝕刻室中。所選擇蝕刻劑之第一量與第二量可以相同或不同。該些注入循環之持續時間是可以個別調整的。

Abstract in simplified Chinese: 本发明教示使用一或多种所选择自发式气相蚀刻剂以移除在制造微结构中牺牲材料之一种方法与设备。所选择蚀刻剂在一连串注入循环之每一注入循环期间中被注入至一包含有该微结构之蚀刻室中，直到该微结构之牺牲材料借由该蚀刻剂与该牺牲材料之间的化学反应被消耗尽为止。更详细地说，在一第一注入循环期间中，一所选择自发式气相蚀刻剂之第一量系被注入至该蚀刻室中。在一第二注入循环期间中，一蚀刻剂之第二量系被注入至该蚀刻室中。所选择蚀刻剂之第一量与第二量可以相同或不同。该些注入循环之持续时间是可以个别调整的。