公开(公告)号：KR100930924B1

公开(公告)日：2009-12-10

申请号：KR1020080002594

申请日：2008-01-09

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  홍성훈 ,  황재연

IPC: B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿 제조방법, 나노임프린트 기술을 이용한 단일층 나노스피어 고분자 패턴 형성 방법 및 상기 단일층 나노스피어 고분자 패턴을 이용한 응용방법이 제공되며, 본 발명에 따른 나노스피어 형틀 형태의 나노임프린트용 템플릿은 기판상에 나노스피어를 적층하는 단계; 상기 나노스피어의 외곽층을 템플릿용 고분자 층에 전사하는 단계; 상기 템플릿용 고분자층으로부터 상기 나노스피어를 제거하여 나노스피어 형상의 템플릿을 완성하는 단계를 포함하며, 넓은 면적에서 균일한 모폴로지를 갖는 단일층 나노스피어 고분자 패턴 구조를 기판상에 형성시킬 수 있다.

Abstract translation: 提供了用于制造用于纳米压印的纳米球型模板的方法和使用该方法的单层纳米球图案，以使得能够在基底上形成单层纳米球。 一种用于纳米压印的纳米球型模板的制造方法，包括以下步骤：将纳米球层（210）层压在基板（200）上; 将纳米球层的外层转移到用于模板的聚合物层（220）; 并从模板的聚合物层中去除纳米球以形成纳米球型（230）模板。 用于模板的聚合物层代表选自聚氯乙烯（PVC），聚碳酸酯（PC）和聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或多种化合物。

公开(公告)号：KR100927481B1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：KR1020070057577

申请日：2007-06-13

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  홍성훈 ,  양기연

IPC: B82B3/00 ,  B82Y40/00

Abstract: A method for preparing a micro-nano metal structure is provided to reproduce the complex or fine surface pattern structure on the semi-permanent metal structure precisely and cheaply. A method for preparing a micro-nano metal structure comprises the steps of preparing a master(102) where a nano-sized or micro-sized micropattern structure on surface and a PVC film(101) where the pattern of the master is transferred; pressurizing the PVC film with the master at the temperature above the glass transition temperature of the PVC film so as to transfer the pattern of the master to the PVC film; separating or removing the master from the PVC film at the temperature below the glass transition temperature of the PVC film; forming a metal seed layer for the electroplating of a thin film on the surface of the PVC film according to the pattern; carrying out the electroplating on the metal seed layer to form an electroplated material layer for charging the pattern of the PVC film; and separating or removing the PVC film from the electroplated material layer.

Abstract translation: 提供了用于制备微纳米金属结构的方法，以精确且便宜地再现半永久性金属结构上的复杂或精细表面图案结构。 一种用于制备微纳米金属结构的方法包括以下步骤：准备其中表面上具有纳米尺寸或微米尺寸的微图案结构的主模块（102）和其中转移模板的PVC膜（101） 在高于PVC膜的玻璃化转变温度的温度下用母模加压PVC膜，以将母模的图案转印到PVC膜上; 在PVC薄膜的玻璃化转变温度以下的温度下将所述母料与所述PVC薄膜分离或除去; 根据图案形成用于在PVC膜的表面上电镀薄膜的金属种子层; 对金属种子层进行电镀以形成用于对PVC膜的图案进行充电的电镀材料层; 并从电镀材料层分离或除去PVC膜。

公开(公告)号：KR100918850B1

公开(公告)日：2009-09-28

申请号：KR1020080008104

申请日：2008-01-25

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  양기연 ,  변경재 ,  한강수 ,  황선용

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00

Abstract: 본 발명의 일 측면은, 기판 상에 폴리비닐알콜(PVA)층을 형성하는 단계; 상기 폴리비닐알콜층 상에 임프린트용 수지층을 형성하는 단계; 표면에 나노 구조를 갖는 몰드를 이용하여 상기 임프린트용 수지층에 임프린팅함으로써, 상기 임프린트용 수지층에 나노 구조를 전사하는 단계; 상기 몰드를 제거한 후 건식 식각을 통해 상기 임프린트용 수지층 및 폴리비닐알콜층을 선택적으로 제거하여 상기 기판 상면을 선택적으로 노출시키는 다층 고분자 패턴을 형성하는 단계; 상기 다층 고분자 패턴 및 상기 노출된 기판 상에 금속 또는 절연 물질을 증착하는 단계; 및 상기 다층 고분자 패턴을 리프트 오프하는 단계;를 포함하는, 나노 패턴 형성 방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR100869311B1

公开(公告)日：2008-11-18

申请号：KR1020070061521

申请日：2007-06-22

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  양기연

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00

CPC classification number: H01L21/0274 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2012

Abstract: The imprint temperature can be drastically lowered by using the imprint resist as the thermoplastic polymer which has a very low glass transition temperature. A step is for coating the PBMA resist layer on the substrate(11) by spin-coating the PBMA resist liquid having the PBMA. A step is for forming the PBMA pattern on the substrate by imprinting the pattern on the PBMA resist layer using the stamp having the predetermined pattern. In the nano imprint process, the imprint resist is the thermoplastic polymer whose the glass transition temperature is 5~60 deg C. The nano imprint process can reduce the existing imprint temperature of 200 deg C to 100 deg C or less.

Abstract translation: 通过使用压印抗蚀剂作为具有非常低的玻璃化转变温度的热塑性聚合物，可以显着降低压印温度。 步骤是通过旋涂具有PBMA的PBMA抗蚀剂液体将PBMA抗蚀剂层涂覆在基材（11）上。 步骤是通过使用具有预定图案的印模将图案压印在PBMA抗蚀剂层上来在基板上形成PBMA图案。 在纳米压印工艺中，印刷抗蚀剂是玻璃化转变温度为5〜60℃的热塑性聚合物。纳米压印法可以将现有的压印温度降低到200摄氏度到100摄氏度以下。

公开(公告)号：KR1020080063203A

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：KR1020070140855

申请日：2007-12-28

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B41K3/02 ,  B81C1/0046 ,  B82Y40/00 ,  Y10S977/887

Abstract: A hybrid imprinting stamp and a method of manufacturing the same are provided to minimize the shrinkage and expansion of stamp plate by utilizing rigid material having the same thermal expansion coefficient as a substrate. A hybrid imprinting stamp includes a stamp plate(110), a stamp protrude member(120), and an exposing surface of the stamp plate(130). The stamp plate is formed by rigid material having the same thermal expansion coefficient as a substrate for supporting imprinting objects. The stamp protrude member is made of high polymer resin which is formed on a surface of the stamp plate. The exposing surface of the stamp plate is formed on the surface of the stamp plate having the stamp protruding member. The stamp plate is made of ultraviolet transmission materials.

Abstract translation: 提供混合印记印模及其制造方法，以通过利用具有与基底相同的热膨胀系数的刚性材料来最小化印模板的收缩和膨胀。 混合印记印模包括印版（110），印模突出部件（120）和印版（130）的曝光表面。 印版由具有与用于支撑印记对象的基板相同的热膨胀系数的刚性材料形成。 印模突出部件由形成在印模板的表面上的高分子树脂制成。 印模板的曝光表面形成在具有印模突出构件的印模板的表面上。 印章板由紫外线透射材料制成。

公开(公告)号：KR102240477B1

公开(公告)日：2021-04-15

申请号：KR1020190160635

申请日：2019-12-05

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  김관

IPC: G03H1/02 ,  G03B21/20

Abstract: 본발명은홀로그램필름을이용한이미지투사장치및 방법에관한것으로서, 홀로그램필름을이용하여광원부로부터조사되는빔(beam)을복수의빔(beam)으로변화시키고, 변화된복수의빔(beam)을선택적으로반사하도록상기복수의미러를제어하고, 선택적으로반사된복수의빔(beam)에기반하여이미지를생성하여자동차의외부로투사하도록제어하는기술에관한것이다.

公开(公告)号：KR102230347B1

公开(公告)日：2021-03-22

申请号：KR1020200044216

申请日：2020-04-10

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  손수민 ,  채동우

IPC: F28F13/18 ,  F24F5/00 ,  F24D5/00 ,  F24S70/12 ,  C09D7/61 ,  C09D5/02 ,  C09D5/00

Abstract: 본발명은한 소자내에서복사냉각부와복사가열부가모두존재하는구조를갖는스마트복사냉각/가열소자및 장치에관한것으로, 스마트복사냉각/가열장치의한 면은복사냉각층으로복사냉각특성을가지며, 다른한 면은태양광흡수층으로, 태양광흡수로인해복사가열특성을가질때, 기준층을회전하거나반구형, 사각형및 실린더형의다양한모양에서복사냉각부와복사가열부가복사가열냉각패턴에따라배치됨에따라복사가열/냉각이모두가능하도록하는기술에관한것이다.

公开(公告)号：KR102225804B1

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：KR1020200097386

申请日：2020-08-04

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  손수민 ,  채동우

IPC: F25B23/00 ,  F28F13/18 ,  F24F5/00 ,  C04B35/01

Abstract: 본발명은기판의광특성을활용하여태양광스펙트럼의빛을흡수를최소화하면서동시에복사냉각소자아래의열을외부로방사하여물질표면혹은물질아래의온도를냉각하는기술적사상에관한것으로서, 태양광영역에서높은투과율을가지며대기의창(sky window) 구간에장파장적외선에대하여부분적으로높은방사율을갖는다양한종류의기판을활용하여복사냉각소자를구성하되, 세라믹무기물/유기물로형성된적외선방사층을추가로포함하여적외선방사율을증가시켜에너지소모없이주변온도이하로물질표면혹은물질아래의온도를냉각시키는기술에관한것이다.

公开(公告)号：KR102225794B1

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：KR1020200100751

申请日：2020-08-11

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 이헌 ,  손수민 ,  채동우

IPC: F25B23/00 ,  F28F13/18 ,  F24F5/00 ,  C08K3/08 ,  C08K3/013 ,  C09D5/00 ,  C09D201/00 ,  C09D1/00

Abstract: 본발명은태양광스펙트럼의빛의흡수를최소화하면서, 대기의창의파장범위에해당하는장파장적외선을흡수및 방사하여소자아래의열을외부로방사함에따라물질표면혹은물질아래의온도를냉각하는기술적사상에관한것으로, 폴리머및 무기물의다층구조를갖는복사냉각소자를이용하여대기의창의파장범위에대하여선택적방사를수행하면서형성물질의굴절율차이를통해태양광반사를높일수 있는다층구조로이루어진복사냉각소자를제공하기위한기술이다.

公开(公告)号：KR1020200127392A

公开(公告)日：2020-11-11

申请号：KR1020190051425

申请日：2019-05-02

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 정연식 ,  이정혜 ,  이헌 ,  최학종 ,  허대홍

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/324 ,  G03F7/00 ,  H01L21/67

Abstract: 본발명은유무기하이브리드물질을이용한용액공정으로마이크로미터이하의필름패터닝을실현하는저온스핀코팅공정방법및 장치에관한것으로, 친수성막기판을제작하는단계, 상기친수성막기판을패터닝하는단계, 상기패터닝된친수성막의부분영역에소수성막을코팅하여가이드기판을제작하는단계및 상기가이드기판상에유무기하이브리드물질을저온스핀코팅하는단계를포함한다.