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公开(公告)号：KR1020150100113A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：KR1020140021485
申请日：2014-02-24
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F17/30262 , G06F17/30589 , G06K9/00697 , G06T5/00 , G06T7/11 , G06T2207/30201
Abstract: 영상 처리 장치 및 이의 영상 처리 방법이 제공된다. 본 영상 처리 장치의 영상 처리 방법은 오브젝트의 텍스쳐(texture) 특성에 따라 입력된 영상으로부터 적어도 하나의 텍스쳐 영역을 추출하고, 적어도 하나의 텍스쳐 영역 각각을 상기 텍스쳐 영역에 대응되는 영상 설정값으로 처리하며, 영상 설정값으로 처리된 텍스쳐 영역을 병합하여 하나의 영상으로 출력한다.
Abstract translation: 提供了一种图像处理装置及其图像处理方法。 根据本发明，图像处理方法包括以下步骤：从根据对象的纹理特征输入的图像中提取至少一个纹理区域; 用对应于纹理区域的图像设置值处理每个纹理区域; 并且将处理的纹理区域与图像设置值合并以将其作为一个图像输出。
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公开(公告)号：KR1020150047934A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020130128026
申请日：2013-10-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/335
CPC classification number: H04N5/3575 , H04N5/365 , H04N5/378
Abstract: 큰배경(background) 신호, 혹은긴 센싱타임(sensing time) 동안배경신호가축적되는환경에서도원하는신호를감지할수 있도록, 픽셀어레이의임의의픽셀에서소정의시간마다감지된두 신호의차이신호를디지털신호로변환하여축적하는배경신호를제거하는센서및 배경신호를제거하는방법을개시한다.
Abstract translation: 本发明提供了一种用于抑制背景信号的传感器和方法，该背景信号将在像素阵列的任何像素处的每个固定小时感测到的两个信号之间的信号差转换为数字信号，并将其积累用于感测大背景 信号或期望的信号在长的感测时间期间累积的背景信号的环境中。
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公开(公告)号：KR1020140050936A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：KR1020120117361
申请日：2012-10-22
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: The present invention provides a photomask and a manufacturing method of the same. The photomask can minimize the change of CD on a light shielding pattern by not damaging the light shielding pattern in a washing process using ammonia water using an etching prevention film covering a side wall of the light shielding pattern. The photomask comprises: a transparent substrate; the light shielding pattern located on the transparent substrate, and at least containing molybdenum and silicon; and the etching prevention film covering at least the side surface of the light shielding pattern.
Abstract translation: 本发明提供一种光掩模及其制造方法。 光掩模可以通过使用覆盖遮光图案的侧壁的防蚀膜在使用氨水的洗涤过程中不损害遮光图案来最小化遮光图案上的CD的变化。 光掩模包括：透明基板; 所述遮光图案位于所述透明基板上，并且至少含有钼和硅; 以及至少覆盖遮光图案的侧面的防蚀膜。
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公开(公告)号：KR100834827B1
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：KR1020060113152
申请日：2006-11-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: B08B3/04 , G03F1/82 , H01L21/67051
Abstract: 본 발명은 생산수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 포토 마스크 세정장치 및 그의 세정방법을 개시한다. 그의 장치는, 포토 마스크를 지지하는 스테이지; 상기 포토 마스크 상에 유발되는 오염물질을 제거하기 위한 세정 유체를 소정의 압력으로 공급하는 세정 유체 공급부; 상기 세정 유체 공급부에서 공급되는 상기 세정 유체를 소정의 압력으로 흡입하는 세정 유체 흡입부; 및 상기 세정 유체 공급부에서 상기 스테이지 상부의 상기 포토 마스크 표면을 거쳐 상기 세정 유체 흡입부까지 상기 세정 유체가 유동되는 통로를 제공하며, 상기 포토 마스크표면에 인접하는 부분이 개구되는 개방구를 통해 상기 세정 유체를 상기 포토 마스크의 표면에 노출시키면서 상기 오염물질을 세정하도록 형성된 오염물질 제거 튜브를 포함함에 의해 포토 마스크를 국부적으로 세정토록 하여 생산수율을 향상시킬 수 있다.
세정(cleaning), 공급, 흡입, 오염물질, 튜브(tube)-
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102246875B1
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：KR1020140158190
申请日：2014-11-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , G03F1/62 , G03F1/64
Abstract: 기판을준비하고, 상기기판상에 CVD 공정을수행하여멤브레인을형성하고, 제1 용매내에서상기기판상으로부터상기멤브레인을분리하고, 제2 용매내에서상기분리된멤브레인을린스하고, 및제3 용매내에서상기분리된멤브레인을프레임상으로전사하는것을포함하는펠리클제조방법이설명된다.
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公开(公告)号：KR1020170042953A
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：KR1020150142192
申请日：2015-10-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F3/14 , G06F3/0488
CPC classification number: G06F3/1431 , G06F3/0416 , G06F3/0488 , G06F3/04883 , G06F3/1446 , G09G2340/045 , G09G2356/00
Abstract: 디스플레이장치및 이의제어방법이제공된다. 본디스플레이장치의제어방법은, 제1 사용자터치를감지하고, 제1 사용자터치가감지되면, 적어도하나의주변디스플레이장치로제1 사용자터치에대응되는제1 신호를송신하며, 적어도하나의주변디스플레이장치중 제1 사용자터치에대응되는제2 사용자터치가감지된주변디스플레이장치로부터제2 사용자터치에대응되는제2 신호를수신하고, 제1 신호및 제2 신호를이용하여제2 사용자터치가감지된주변디스플레이장치와통신연결을수행한다.
Abstract translation: 提供了一种显示装置及其控制方法。 显示装置的控制方法检测第一用户触摸，并且当检测到第一用户触摸时将与第一用户触摸对应的第一信号发送到至少一个外围显示装置， 的被检测接近对应于第一用户触摸显示装置，并且所述第一信号，并使用第二信号对应于来自所述第二用户触摸的第二用户的触摸接收到的第二信号中检测的第二用户触摸 并执行与外围显示设备的通信连接。
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公开(公告)号：KR101639635B1
公开(公告)日：2016-07-25
申请号：KR1020100052109
申请日：2010-06-03
Applicant: 삼성전자주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B3/12 , G03F1/82 , H01L21/02057 , H01L21/67057
Abstract: 메가소닉세정하는방법으로, 세정대상체와구분되는공간에서, 메가소닉에의해세정액을기전시켜마이크로공동들을생성시킨다. 생성된마이크로공동들중에서, 안정적인진동의마이크로공동들만을세정대상체가로딩된공간으로이동시킨다. 또한, 상기안정적인진동의마이크로공동들을이용하여상기세정대상체의표면을세정한다. 상기방법에의하면, 세정대상체내의패턴의손상을방지하면서세정대상체표면의파티클을효과적으로제거할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020160058306A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：KR1020140158824
申请日：2014-11-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , G03F1/62
CPC classification number: G03F1/62 , H01L21/0274
Abstract: 본발명은마스크를개시한다. 마스크는마스크기판과, 상기마스크기판상의마스크패턴들과, 상기마스크패턴들외곽의상기마스크기판가장자리상에배치된프레임들과, 상기마스크패턴들로부터이격하여상기프레임들상에배치된펠리클을포함한다. 상기펠리클은나노미터의두께를갖는보호층들을포함할수 있다.
Abstract translation: 本发明公开了一种掩模。 掩模包括掩模基板，掩模基板上的掩模图案，布置在掩模图案的周边的掩模基板的边缘上的框架，以及与掩模图案分离并布置在框架上的防护薄膜组件。 防护薄膜组件可以包括具有几纳米厚度的保护层。
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