Abstract:
본 발명은 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터에 관한 것으로, 본 발명에 따른 유전체 자기 조성물은 SrTiO 3 로 표시되는 제1 주성분 및 BiMO 3 로 표시되는 제2 주성분을 포함하는 xSrTiO 3 -(1-x)BiMO 3 로 표시되는 모재 분말(단, M은 Mg과 Ti로 구성됨)을 포함하며, 상기 x는 0.5≤x≤0.9을 만족하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본원은 염화물을 포함한 실리케이트계 형광체를 알칼리성 물질로 처리하는 것을 포함하는, 염화물계 또는 산화물계 형광체 분말의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 염화물계 또는 산화물계 형광체 분말에 관한 것으로서, 염화물을 이용한 강력한 산화 또는 환원시키는 것을 통해 희토류 금속이 첨가된 형광체의 발광강도를 증가시키고 상대적으로 낮은 온도에서 보다 안정하게 환원된 형광체 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
Abstract:
본원은 염화물을 포함한 실리케이트계 형광체를 알칼리성 물질로 처리하는 것을 포함하는, 염화물계 또는 산화물계 형광체 분말의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 염화물계 또는 산화물계 형광체 분말에 관한 것으로서, 염화물을 이용한 강력한 산화 또는 환원시키는 것을 통해 희토류 금속이 첨가된 형광체의 발광강도를 증가시키고 상대적으로 낮은 온도에서 보다 안정하게 환원된 형광체 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
Abstract:
The present invention relates to a nitride-based phosphor which is synthesized at a relatively low temperature by reacting chloride-based phosphor and Si_3N_4 or Si_2ON_2, and an oxynitride-based phosphor or a nitride-based phosphor powder synthesized through a carbothermal reduction and nitration (CRN) method, and a method for manufacturing the same.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따른 태양전지의 전면전극을 제조하는 제조장치는, 상기 태양전지에 사용되는 기판을 고정시키는 베이스; 및 유동성이 있는 금속 페이스트(paste)를 이용하는 직접 인쇄 방식(Direct Printing Process)을 통해, 상기 기판에 대한 수직 단면이 삼각형인 전면전극을 상기 기판 상에 형성시키는 전극 형성 유닛을 포함하여 구성됨으로써, 기존 스크린 인쇄 방식에 의해 제작된 전면전극보다 종횡비가 뛰어난 전면전극을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 전면전극에 의해 반사되는 태양 빛을 흡수하는 면적을 증가시킬 수 있어 결과적으로 태양전지의 효율을 증대시킬 수 있다는 장점이 있다.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of YVO based phosphor powder is provided to manufacture YVO based phosphor powder with uniform particle distribution and small particle size in short time, thereby having excellent productivity and profitability. CONSTITUTION: A manufacturing method of YVO based phosphor powder comprises: a step of impregnating metal salt solution including yttrium(Y) and vanadium(V) into polymer material; a step of calcinations by putting the impregnated material into a furnace heated to the temperature of 500-1000 °C; a step of sintering the product by heating the temperature of 1000-1300 °C; and a step of solution-treating the product by basic solution.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a silica antireflection layer and a silicon solar cell using the same are provided to improve a short current density by decreasing a surface reflectivity of the solar cell. CONSTITUTION: Aqueous coating solutions including a silica precursor and a dopant precursor are coated on a semiconductor substrate(100). A dopant containing silica layer(200) is formed by a sol-gel method. The dopant containing silica layer is thermally processed under an air or oxygen containing gas atmosphere. An emitter layer(110) is formed by a p-n junction through the diffusion of a dopant. A spherical silica particle layer is formed on the semiconductor substrate.