옵셋 인쇄장치
    51.
    发明授权
    옵셋 인쇄장치 有权
    胶印机和打印方法相同

    公开(公告)号:KR101419573B1

    公开(公告)日:2014-07-15

    申请号:KR1020100116325

    申请日:2010-11-22

    CPC classification number: B41F3/36 B41F3/46 B41F3/52

    Abstract: 본 발명은 생산성 및 생산수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 옵셋 인쇄장치 및 그의 인쇄방법을 개시한다. 그의 장치는, 인쇄 롤과, 상기 인쇄 롤에 인쇄 물질을 도포하는 코팅부와, 상기 코팅부에서 상기 인쇄 롤에 도포된 상기 인쇄 물질을 패터닝하는 패터닝부와, 상기 인쇄 물질을 피 인쇄물에 인쇄하는 인쇄부와, 상기 인쇄 롤에 잔존하는 상기 인쇄 물질을 건식으로 세정하는 세정부를 포함한다.

    박막 트랜지스터 및 그 제조 방법
    53.
    发明公开
    박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 审中-实审
    薄膜晶体管和形成它

    公开(公告)号:KR1020140043554A

    公开(公告)日:2014-04-10

    申请号:KR1020120105889

    申请日:2012-09-24

    Abstract: A thin film transistor and a manufacturing method thereof are provided. A method for manufacturing a thin film transistor includes forming a gate electrode on a substrate; forming an active layer which is adjacent to the gate electrode and includes an oxide semiconductor; forming an oxygen providing layer on the active layer; forming a gate insulating layer between the gate electrode and the active layer; forming source/drain electrodes which are combined with the active layer; forming a planarization layer which covers the gate electrode and the gate insulating layer; forming a hole which exposes the active layer; and performing a thermal process on the planarization layer in an oxygen atmosphere. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S10) Forming source/drain electrodes on a substrate; (S20) Forming an active layer and an oxygen providing layer; (S30) Forming a gate insulating layer; (S40) Forming a gate electrode; (S50) Forming a planarization layer and a hole; (S60) Performing a thermal process in an oxygen atmosphere

    Abstract translation: 提供薄膜晶体管及其制造方法。 薄膜晶体管的制造方法包括在基板上形成栅极电极; 形成与所述栅电极相邻并且包括氧化物半导体的有源层; 在活性层上形成氧提供层; 在栅电极和有源层之间形成栅极绝缘层; 形成与有源层组合的源/漏电极; 形成覆盖所述栅极电极和所述栅极绝缘层的平坦化层; 形成露出活性层的孔; 在氧气氛中对平坦化层进行热处理。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S10)在基板上形成源极/漏极; (S20)形成活性层和氧供给层; (S30)形成栅极绝缘层; (S40)形成栅电极; (S50)形成平坦化层和孔; (S60)在氧气氛中进行热处理

    듀얼 모드 디스플레이 장치 및 그의 제조방법
    54.
    发明公开
    듀얼 모드 디스플레이 장치 및 그의 제조방법 审中-实审
    双模显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020140009727A

    公开(公告)日:2014-01-23

    申请号:KR1020120076275

    申请日:2012-07-12

    Abstract: In the present invention, a dual mode display apparatus and a manufacturing method of the same are disclosed. The apparatus comprises: a first substrate; a first electrode on the first substrate; a second substrate which opposes to the first electrode and the first substrate; a second electrode in between the second substrate and the first electrode; a third electrode in between the first electrode and the second electrode; an optical switching layer in between the first electrode and the third electrode; and an organic luminescent layer in between the second electrode and the third electrode.

    Abstract translation: 在本发明中,公开了一种双模显示装置及其制造方法。 该装置包括:第一基板; 第一基板上的第一电极; 与第一电极和第一基板相对的第二基板; 第二电极,位于第二基板和第一电极之间; 第一电极和第二电极之间的第三电极; 在所述第一电极和所述第三电极之间的光学切换层; 和在第二电极和第三电极之间的有机发光层。

    유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법
    55.
    发明授权
    유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법 有权
    有机薄膜晶体管及其形成方法

    公开(公告)号:KR101309263B1

    公开(公告)日:2013-09-17

    申请号:KR1020100015052

    申请日:2010-02-19

    CPC classification number: H01L51/0545 H01L51/105

    Abstract: 유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법이 제공된다. 유기 박막 트랜지스터의 형성방법은 기판 상에 게이트 전극을 형성하는 것, 기판 상에 게이트 전극을 덮으며 그 상부에 리세스 영역를 가지는 게이트 절연막을 형성하는 것, 리세스 영역 내에 소오스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 것, 그리고 소오스 전극 및 드레인 전극 사이의 리세스 영역 내에 유기 반도체층을 형성하는 것을 포함하고, 상기 소오스 전극, 상기 드레인 전극, 상기 유기 반도체층 및 상기 게이트 전극을 형성하는 것은 상기 소오스 전극이 상기 유기 반도체층과 접하는 일 측면은 상기 게이트 전극의 일 측면과 정렬되고, 상기 드레인 전극이 상기 유기 반도체층과 접하는 일 측면은 상기 게이트 전극의 타 측면에 정렬되는 것을 포함한다.

    유기 절연막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 유기 절연막을 갖는 유기 박막 트랜지스터
    56.
    发明授权
    유기 절연막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 유기 절연막을 갖는 유기 박막 트랜지스터 有权
    有机电介质层及其使用有机薄膜晶体管的组合物

    公开(公告)号:KR101301204B1

    公开(公告)日:2013-08-29

    申请号:KR1020090113221

    申请日:2009-11-23

    Abstract: 유기 절연막 형성용 조성물 및 이에 의해 형성된 유기 절연막을 포함하는 유기 박막 트랜지스터를 제공한다. 상기 유기 절연막 형성용 조성물은 하기의 화학식으로 표현되는 화합물을 포함하며, 상기 화학식에서, R
    1 은 수소 원자, 히드록시기, 에스테르기, 아마이드기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 알콕시기 중 어느 하나이고, R
    2 는 전해질 작용기들 중 선택된 적어도 하나를 포함하며, a와 b는 양의 정수이고 a에 대한 b의 비율(b/a)은 0보다 크고 99보다 작다.
    (화학식)
    유기 절연막, 가교 결합, 박막 트랜지스터

    유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법
    57.
    发明授权
    유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법 失效
    有机薄膜传输器及其方法

    公开(公告)号:KR101291320B1

    公开(公告)日:2013-07-30

    申请号:KR1020090024624

    申请日:2009-03-23

    CPC classification number: H01L51/0537 H01L51/0541 H01L51/0545

    Abstract: 유기 박막 트랜지스터 및 그 형성방법이 제공된다. 이 유기 박막 트랜지스터는 기판, 기판 상의 소오스 전극과 드레인 전극, 상기 소오스 전극 및 드레인 전극 사이의 상기 기판 상의 활성층, 활성층 상의 게이트 전극, 및 활성층과 게이트 전극 사이의 유기 절연층을 포함한다. 이 유기 절연층은 나노 입자, 나노 입자를 둘러싸는 친수성 중합체들, 및 소수성 중합체들을 포함할 수 있다.
    박막 트랜지스터(TFT), 이중 블록 공중합체, 자기 조립(self assembly)

    옵셋 인쇄장치
    59.
    发明公开
    옵셋 인쇄장치 有权
    胶印机和打印方法相同

    公开(公告)号:KR1020120055755A

    公开(公告)日:2012-06-01

    申请号:KR1020100116325

    申请日:2010-11-22

    CPC classification number: B41F3/36 B41F3/46 B41F3/52

    Abstract: PURPOSE: An offset printing device is provided to increase a service time of a printing roll and to maximize productivity and production yield. Productivity and production yield can be increased and be maximized. CONSTITUTION: An offset printing device comprises a printing roll(30), a coating part(20), a patterning part(40), a printing part(60), and a cleaning part. The coating part spreads printing materials on a printing roll. The patterning part patterns the printing materials spread on the printing roll by the coating part. The cleaning unit cleans the printing materials remaining on the printing roll using a dry method.

    Abstract translation: 目的:提供胶版印刷装置,以增加印刷卷的使用时间,并最大限度地提高生产率和产量。 可以提高生产力和产量,并最大化生产率。 构成:胶版印刷装置包括印刷辊(30),涂布部分(20),图形部分(40),印刷部分(60)和清洁部分。 涂布部分将印刷材料铺展在印刷辊上。 图案形成部分通过涂覆部分图案印刷在印刷辊上的印刷材料。 清洁单元使用干法清洁印刷辊上剩余的印刷材料。

    박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 기판
    60.
    发明授权
    박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 기판 失效
    薄膜晶体管和薄膜晶体管基板的制造方法

    公开(公告)号:KR101140135B1

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:KR1020090026256

    申请日:2009-03-27

    Abstract: 자기 정렬이 개선되는 박막 트랜지스터의 제조 방법은 다음과 같다. 우선, 제1 기판 상의 희생층 상에 제1 도핑 영역, 제2 도핑 영역 및 채널 영역을 구비하는 반도체층을 형성한다. 다음, 반도체층을 제1 기판에서 분리하고, 제2 기판에 결합한다. 다음, 제2 기판과 반도체층 상에 절연층을 형성하고, 절연층 상에 제1 포토레지스트층을 형성한다. 이후, 제2 기판의 배면으로부터 제1 도핑 영역과 제2 도핑 영역을 마스크로 제1 포토레지스트층을 노광하고 현상하여 제1 마스크 패턴을 형성한다. 다음, 제1 마스크 패턴을 마스크로 절연층 상에 채널 영역과 중첩하는 게이트 전극을 형성하고, 제1 도핑 영역과 제2 도핑 영역 각각에 연결되는 소스 전극과 드레인 전극을 형성하여 박막 트랜지스터를 제조한다.
    셀프 얼라인, 자기 정렬, 박막 트랜지스터, 제조 방법

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