마그네트론
    51.
    发明公开
    마그네트론 失效
    通过使用石墨纳米纤维或碳纤维将阴极部分降低阴极的操作温度的MAGNETRON

    公开(公告)号:KR1020050016209A

    公开(公告)日:2005-02-21

    申请号:KR1020040062163

    申请日:2004-08-06

    Abstract: PURPOSE: A magnetron is provided to lower the operating temperature of a cathode and form the peripheral part of the cathode from inexpensive metal including a stainless steel, by using graphite nano fibers or carbon fibers for a cathode unit. CONSTITUTION: A magnetron comprises an anode unit; a cathode unit(13) disposed in an axial direction together with the anode unit, wherein the cathode unit has an electron emission surface; and graphite nano fibers(11) disposed on the electron emission surface of the cathode unit. The magnetron further includes a cathode substrate(10) which is heated to 400 to 600 Deg.C in an atmosphere of hydrocarbon gas such as methane. The gas reacts with a surface of the cathode substrate through a thermal CVD method. An electron emitter for growing the graphite nano fibers in a gas phase on the surface of the cathode substrate is fixed between upper and lower hats(12) so as to form the cathode unit.

    Abstract translation: 目的:通过使用石墨纳米纤维或碳纤维作为阴极单元,提供磁控管以降低阴极的工作温度并由廉价金属(包括不锈钢)形成阴极的周边部分。 构成:磁控管包括阳极单元; 阴极单元(13),其与所述阳极单元一起沿轴向设置,其中所述阴极单元具有电子发射表面; 以及设置在阴极单元的电子发射表面上的石墨纳米纤维(11)。 磁控管还包括阴极基板(10),其在诸如甲烷的烃气体的气氛中被加热至400-600℃。 气体通过热CVD方法与阴极基板的表面反应。 用于在阴极基板的表面上以气相形成石墨纳米纤维的电子发射体被固定在上下帽(12)之间以形成阴极单元。

    複合式場發射源及其製作方法 COMPOSITE FIELD EMISSION SOURCE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
    58.
    发明专利
    複合式場發射源及其製作方法 COMPOSITE FIELD EMISSION SOURCE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME 有权
    复合式场发射源及其制作方法 COMPOSITE FIELD EMISSION SOURCE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

    公开(公告)号:TWI363367B

    公开(公告)日:2012-05-01

    申请号:TW096150312

    申请日:2007-12-26

    IPC: H01J

    Abstract: 一種複合式場發射源的製作方法,包括先使用射頻磁控濺鍍法(RF magnetron sputtering)進行第一階段成膜製程,以於基板上形成一層奈米結構膜,且此奈米結構膜是由多個奈米石墨壁構成的花瓣狀結構。之後,進行第二階段成膜製程,以增加在奈米結構膜上的碳沉積量。如此可得到強度高且具奈米珊瑚狀結構的複合式場發射源,並藉此改善電子場發射效果與壽命。

    Abstract in simplified Chinese: 一种复合式场发射源的制作方法,包括先使用射频磁控溅镀法(RF magnetron sputtering)进行第一阶段成膜制程,以于基板上形成一层奈米结构膜,且此奈米结构膜是由多个奈米石墨壁构成的花瓣状结构。之后,进行第二阶段成膜制程,以增加在奈米结构膜上的碳沉积量。如此可得到强度高且具奈米珊瑚状结构的复合式场发射源,并借此改善电子场发射效果与寿命。

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