公开(公告)号：JP6310920B2

公开(公告)日：2018-04-11

申请号：JP2015532101

申请日：2013-09-13

Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション

Inventor： ジャン シンロン ,  ハン リクン

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/06 ,  H01J37/09 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029 ,  H01J3/08 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/30472

公开(公告)号：JP2015531984A

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：JP2015532101

申请日：2013-09-13

Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション ,  ケーエルエー−テンカー コーポレイション

Inventor： シンロン ジャン ,  シンロン ジャン ,  リクン ハン ,  リクン ハン

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/04 ,  H01J37/06 ,  H01J37/09

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029 ,  H01J3/08 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/30472

Abstract: 一実施形態は、電子ビームを放出するための二重レンズ電子銃を備える電子ビーム装置に関する。電子ビームは、第一の動作モードにおいては高ビーム電流電子ビームであり、第二の動作モードにおいては低ビーム電流電子ビームである。装置は、第一の動作モードにおいては高ビーム電流電子ビームの経路から外れ、第二の動作モードにおいては電子ビーム装置の光軸の中心に位置するコラムアパーチャをさらに備える。別の実施形態は、第一の銃レンズ、ビーム制限アパーチャ、および第二の銃レンズを備える電子銃に関する。第一の銃レンズは、ビーム制限アパーチャを通る前の電子を集束するが、第二の銃レンズは、ビーム制限アパーチャを通った後の電子を集束する。他の実施形態、態様および特徴もまた開示される。

Abstract translation: 一个实施例涉及的电子束装置包括：用于发射电子束一个双透镜电子枪。 的电子束，在高电子束电流的电子束的第一操作模式，在第二操作模式是低电子束电流的电子束。 装置中，在第一操作模式从高电子束电流的电子束的路径的，在第二操作模式中，还包括在所述电子束装置的光轴的中心的柱孔。 另一个实施例中，第一透镜枪，光束限制孔，以及一个电子枪包括第二枪透镜。 第一枪透镜是通过光束限制孔前聚焦的电子，所述第二枪透镜通过光束限制孔后聚焦电子。 其它实施例，方面和特征也被公开。

公开(公告)号：JP2012504981A

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：JP2011530392

申请日：2009-09-25

Applicant: テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニムTetra Laval Holdings & Finance S.A.

Inventor： クルト・ホルム

IPC: A61L2/08 ,  A61L2/24 ,  B65B55/04 ,  B65B55/08

CPC classification number: G21K5/04 ,  A61L2/087 ,  A61L2/24 ,  A61L2202/181 ,  H01J3/027 ,  H01J3/08 ,  H01J33/00

Abstract: An electron beam sterilizing device, comprises: an electron-generating filament; a beam-shaper; an output window; a high-voltage supply, capable of creating a high-voltage potential between the electron-generating filament and the output window, for acceleration of electrons; a high-voltage supply for driving current through the electron-generating filament; a control unit for controlling the operation of the electron beam sterilizing device. The electron beam sterilizing device has at least three operational states which include: an OFF-state, where there is no drive current through the electron-generating filament; an ON-state, where the electron-generating filament is kept at a temperature above the emission temperature so as to generate electrons for sterilization; and a standby state, between the OFF-state and ON-state, where the electron-generating filament is kept at a predetermined temperature just below the emission temperature. The control unit controls the device to assume the standby state.

公开(公告)号：TWI620224B

公开(公告)日：2018-04-01

申请号：TW102132489

申请日：2013-09-09

Applicant: 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

Inventor： 姜辛容 ,  JIANG, XINRONG ,  韓立群 ,  HAN, LIQUN

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/26

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029 ,  H01J3/08 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/30472

公开(公告)号：TW201419360A

公开(公告)日：2014-05-16

申请号：TW102132489

申请日：2013-09-09

Applicant: 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

Inventor： 姜辛容 ,  JIANG, XINRONG ,  韓立群 ,  HAN, LIQUN

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/26

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029 ,  H01J3/08 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/30472

Abstract: 一實施例係關於一種電子束裝置，其包含用於發射一電子束之一雙鏡片電子槍。該電子束係一第一操作模式中之一高束流電子束及一第二操作模式中之一低束流電子束。該裝置進一步包含一柱形孔徑，其在該第一操作模式中攔截該高束流電子束之路徑及在該第二操作模式中以該電子束裝置之一光學軸為中心。另一實施例係關於一種電子槍，其包含一第一槍鏡片、一限束孔徑及一第二槍鏡片。該第一槍鏡片聚焦穿過該限束孔徑之前之電子，而該第二槍鏡片聚焦穿過該限束孔徑之後之電子。本發明亦揭示其他實施例、態樣及特徵。

Abstract in simplified Chinese: 一实施例系关于一种电子束设备，其包含用于发射一电子束之一双镜片电子枪。该电子束系一第一操作模式中之一高束流电子束及一第二操作模式中之一低束流电子束。该设备进一步包含一柱形孔径，其在该第一操作模式中拦截该高束流电子束之路径及在该第二操作模式中以该电子束设备之一光学轴为中心。另一实施例系关于一种电子枪，其包含一第一枪镜片、一限束孔径及一第二枪镜片。该第一枪镜片聚焦穿过该限束孔径之前之电子，而该第二枪镜片聚焦穿过该限束孔径之后之电子。本发明亦揭示其他实施例、态样及特征。