公开(公告)号：CN104599919A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201410782447.9

申请日：2014-12-16

Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

Inventor： 冯旭东 ,  孙强 ,  刘建卓 ,  隋龙 ,  李也凡 ,  曾奇峰 ,  谭向全 ,  唐艳秋

IPC: H01J3/08 ,  H01J3/00

CPC classification number: H01J3/08

Abstract: 本发明公开了一种电场电位梯度发生装置及其控制方法，装置包括电场电位梯度发生模块、离子发生系统以及信号处理系统；其中，电场电位梯度发生模块由多个电场环片和多个绝缘环体组成；电路控制系统可以控制电场强度；离子流进入电场电位梯度发生模块中可以获得一恒定的速度，从而可以得出离子流的飞行时间，经过信号处理系统处理后，就可以分析出离子的种类，达到对气体介质中的物质进行检测的目的。本发明可以作为分析器应用于精密分析仪器中。

公开(公告)号：CN1913091A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200610125781.2

申请日：2006-07-21

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 曹永锡 ,  裵宰佑 ,  林翼喆 ,  崔龙洙 ,  都义松 ,  姜东贤 ,  朱圭楠

IPC: H01J29/02 ,  H01J29/04 ,  H01J49/46 ,  H01J1/30 ,  H01J63/00 ,  H01J31/12

CPC classification number: H01J63/06 ,  H01J1/304 ,  H01J3/021 ,  H01J3/08 ,  H01J29/481 ,  H01J31/127 ,  H01J63/02

Abstract: 一种具有改善了电子发射效率的电子发射器和具有使用该电子发射器的新结构的电子发射型背光单元，其中有效地阻止了阳极和阴极之间的电场，并且通过低栅极电压连续和稳定地发射电子，由此改善了发光均匀性和发光效率。还提供了一种应用具有电子发射器的电子发射型背光单元的平板显示装置。电子发射器包括底部基板；设置在底部基板上并且具有高度大于宽度的横截面的阴极；形成在底部基板上并且和阴极交替隔开的栅极，该栅极具有高度大于宽度的横截面；以及朝着栅极设置在阴极的表面上的电子发射层。

公开(公告)号：CN1913089A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200610110814.6

申请日：2006-07-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 曹永锡 ,  裵宰佑 ,  林翼喆 ,  崔龙洙

IPC: H01J29/02 ,  H01J29/04 ,  H01J29/46 ,  H01J1/30 ,  H01J63/00 ,  H01J31/12

CPC classification number: H01J63/02 ,  H01J3/021 ,  H01J3/08 ,  H01J29/481 ,  H01J31/127 ,  H01J63/06

Abstract: 一种具有提高了电子发射效率的电子发射器和使用电子发射器具有新结构的电子发射型背光单元，其中有效地阻止了阳极和阴极之间的电场，并且通过低栅极电压连续和稳定地发射电子，由此改善了发光的均匀性和发光效率。还提供了一种应用具有电子发射器的电子发射型背光单元的平板显示装置。电子发射器包括底部基板；形成在底部基板上的阴极；形成在底部基板上并且当存在多于一个的阴极时和阴极交替隔开的栅极；设置在阴极的表面上的电子发射层；和形成在阴极或者栅极上并高于相应的电极的辅助电极。

公开(公告)号：US08822965B2

公开(公告)日：2014-09-02

申请号：US13939914

申请日：2013-07-11

Applicant: Sumitomo Heavy Industries, Ltd.

Inventor： Toru Asaba

IPC: H01J3/08 ,  H05H7/12 ,  H05H7/00

CPC classification number: H01J3/08 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095 ,  G21K5/04 ,  H05H7/00 ,  H05H7/12 ,  H05H2007/004 ,  H05H2007/007

Abstract: A charged particle beam irradiation apparatus includes: a scanning electromagnet that scans a charged particle beam; and a degrader that is provided on a downstream side of the scanning electromagnet in a scanning direction of the charged particle beam and adjusts a range of the charged particle beam by reducing energy of the charged particle beam. The degrader is configured to be closer to an upstream side in the scanning direction of the charged particle beam, outward in the scanning direction.

Abstract translation: 带电粒子束照射装置包括：扫描带电粒子束的扫描电磁体; 以及降解器，其被设置在扫描电磁体的沿着带电粒子束的扫描方向的下游侧，并且通过降低带电粒子束的能量来调节带电粒子束的范围。 降解器被配置为在扫描方向上向外靠近带电​​粒子束的扫描方向的上游侧。

公开(公告)号：US20140014851A1

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：US13939914

申请日：2013-07-11

Applicant: Sumitomo Heavy Industries, Ltd.

Inventor： Toru Asaba

IPC: H01J3/08

CPC classification number: H01J3/08 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095 ,  G21K5/04 ,  H05H7/00 ,  H05H7/12 ,  H05H2007/004 ,  H05H2007/007

Abstract: A charged particle beam irradiation apparatus includes: a scanning electromagnet that scans a charged particle beam; and a degrader that is provided on a downstream side of the scanning electromagnet in a scanning direction of the charged particle beam and adjusts a range of the charged particle beam by reducing energy of the charged particle beam. The degrader is configured to be closer to an upstream side in the scanning direction of the charged particle beam, outward in the scanning direction.

Abstract translation: 带电粒子束照射装置包括：扫描带电粒子束的扫描电磁体; 以及降解器，其被设置在扫描电磁体的沿着带电粒子束的扫描方向的下游侧，并且通过降低带电粒子束的能量来调节带电粒子束的范围。 降解器被配置为在扫描方向上向外靠近带电​​粒子束的扫描方向的上游侧。

公开(公告)号：US08859982B2

公开(公告)日：2014-10-14

申请号：US13618760

申请日：2012-09-14

Applicant: Xinrong Jiang ,  Liqun Han

Inventor： Xinrong Jiang ,  Liqun Han

IPC: H01J37/14

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029 ,  H01J3/08 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/30472

Abstract: One embodiment relates to an electron beam apparatus which includes a dual-lens electron gun for emitting an electron beam. The electron beam is a high beam-current electron beam in a first operating mode and a low beam-current electron beam in a second operating mode. The apparatus further includes a column aperture which is out of the path of the high beam-current electron beam in the first operating mode and is centered about an optical axis of the electron beam apparatus in the second operating mode. Another embodiment relates to an electron gun which includes a first gun lens, a beam limiting aperture, and a second gun lens. The first gun lens focuses the electrons before they pass through the beam-limiting aperture while the second gun lens focuses the electrons after they pass through the beam-limiting aperture. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.

Abstract translation: 一个实施例涉及一种电子束装置，其包括用于发射电子束的双透镜电子枪。 电子束是第一操作模式中的高束流电子束和处于第二操作模式的低束流电子束。 该装置还包括在第一操作模式中超出远光束电子束的路径的列孔径，并且在第二操作模式中围绕电子束装置的光轴居中。 另一个实施例涉及一种电子枪，其包括第一枪形透镜，光束限制孔和第二枪形透镜。 第一个枪形透镜在电子穿过光束限制孔径之前聚焦电子，而第二个枪形透镜在电子通过光束限制孔径后聚焦电子。 还公开了其它实施例，方面和特征。

公开(公告)号：US20110198513A1

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：US13122914

申请日：2009-09-25

Applicant: Kurt Holm

Inventor： Kurt Holm

IPC: G21K5/04

CPC classification number: G21K5/04 ,  A61L2/087 ,  A61L2/24 ,  A61L2202/181 ,  H01J3/027 ,  H01J3/08 ,  H01J33/00

Abstract: An electron beam sterilizing device, comprises: an electron-generating filament; a beam-shaper; an output window; a high-voltage supply, capable of creating a high-voltage potential between the electron-generating filament and the output window, for acceleration of electrons; a high-voltage supply for driving current through the electron-generating filament; a control unit for controlling the operation of the electron beam sterilizing device. The electron beam sterilizing device has at least three operational states which include: an OFF-state, where there is no drive current through the electron-generating filament; an ON-state, where the electron-generating filament is kept at a temperature above the emission temperature so as to generate electrons for sterilization; and a standby state, between the OFF-state and ON-state, where the electron-generating filament is kept at a predetermined temperature just below the emission temperature. The control unit controls the device to assume the standby state.

Abstract translation: 一种电子束消毒装置，包括：电子发生丝; 光束整形器 输出窗口 能够在电子发生丝与输出窗之间产生高压电位的高压电源，用于加速电子; 用于驱动通过电子发生丝的电流的高压电源; 用于控制电子束消毒装置的操作的控制单元。 电子束灭菌装置具有至少三种操作状态，包括：通过电子发生丝不存在驱动电流的关闭状态; 导通状态，其中电子发生丝保持在高于发射温度的温度以产生用于灭菌的电子; 以及在OFF状态和ON状态之间的待机状态，其中电子发生灯丝保持在正好低于发射温度的预定温度。 控制单元控制设备处于待机状态。

公开(公告)号：EP3065161A4

公开(公告)日：2017-08-02

申请号：EP15778595

申请日：2015-01-09

Applicant: FUTURE ADDITIVE MFG TECH RES ASS

Inventor： SATO TAKASHI

IPC: H01J37/06 ,  B29C67/00 ,  H01J1/13 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J37/065 ,  B22F3/1055 ,  B22F2003/1056 ,  B22F2003/1057 ,  B22F2999/00 ,  B33Y30/00 ,  H01J3/08 ,  H01J3/12 ,  H01J37/06 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/0653 ,  B22F2203/03 ,  B22F2202/06 ,  B22F2202/11

Abstract: When an emission current is changed, a decrease in brightness of an electron beam is prevented. An electron gun includes a cathode that emits thermoelectrons, a Wehnelt electrode that focuses the thermoelectrons, a control electrode that extracts the thermoelectrons from a distal end of said cathode, an anode that accelerates the thermoelectrons and irradiates a powder with the thermoelectrons as an electron beam, and an optimum condition collection controller that changes at least one of a bias voltage to be applied to the Wehnelt electrode and a control electrode voltage to be applied to the control electrode, and decides a combination of the bias voltage and the control electrode voltage at which the brightness of the electron beam reaches a peak.

Abstract translation: 当发射电流改变时，防止电子束的亮度降低。 电子枪包括发射热电子的阴极，聚焦热电子的Wehnelt电极，从所述阴极的远端提取热电子的控制电极，加速热电子并用热电子作为电子束照射粉末的阳极 以及最佳条件收集控制器，其改变要施加到韦纳特电极的偏置电压和要施加到控制电极的控制电极电压中的至少一个，并且将偏置电压和控制电极电压的组合确定为 其中电子束的亮度达到峰值。

公开(公告)号：US20140077077A1

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：US13618760

申请日：2012-09-14

Applicant: Xinrong JIANG ,  Liqun HAN

Inventor： Xinrong JIANG ,  Liqun HAN

IPC: G21K5/04 ,  H01J27/02 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029 ,  H01J3/08 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/30472

Abstract: One embodiment relates to an electron beam apparatus which includes a dual-lens electron gun for emitting an electron beam. The electron beam is a high beam-current electron beam in a first operating mode and a low beam-current electron beam in a second operating mode. The apparatus further includes a column aperture which is out of the path of the high beam-current electron beam in the first operating mode and is centered about an optical axis of the electron beam apparatus in the second operating mode. Another embodiment relates to an electron gun which includes a first gun lens, a beam limiting aperture, and a second gun lens. The first gun lens focuses the electrons before they pass through the beam-limiting aperture while the second gun lens focuses the electrons after they pass through the beam-limiting aperture. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.

Abstract translation: 一个实施例涉及一种电子束装置，其包括用于发射电子束的双透镜电子枪。 电子束是第一操作模式中的高束流电子束和处于第二操作模式的低束流电子束。 该装置还包括在第一操作模式中超出远光束电子束的路径的列孔径，并且在第二操作模式中围绕电子束装置的光轴居中。 另一个实施例涉及一种电子枪，其包括第一枪形透镜，光束限制孔和第二枪形透镜。 第一个枪形透镜在电子穿过光束限制孔径之前聚焦电子，而第二个枪形透镜在电子通过光束限制孔径后聚焦电子。 还公开了其它实施例，方面和特征。

公开(公告)号：US20120299681A1

公开(公告)日：2012-11-29

申请号：US13524154

申请日：2012-06-15

Applicant: Franc Zajc

Inventor： Franc Zajc

IPC: H01F27/32

CPC classification number: H01F7/06 ,  G11B5/17 ,  H01F7/127 ,  H01F27/245 ,  H01F27/25 ,  H01F27/26 ,  H01F27/263 ,  H01F27/2828 ,  H01F27/2847 ,  H01F2027/2861 ,  H01J3/08 ,  H01J3/14 ,  H02K15/024 ,  H02K15/03 ,  Y10T29/4902 ,  Y10T29/49075 ,  Y10T29/49078 ,  Y10T29/49126

Abstract: The invention provides a flat band winding for an inductor core comprising at least one insulated conductive flat band having a first linear region, a second linear region, and a third linear region, wherein the third linear region is substantially orthogonally connected to said first linear region and to said second linear region such that said first linear region and said second linear region are displaced by a distance and run in parallel or anti-parallel, and wherein said first linear region and said second linear region are wound in opposite directions around the inductor core and around said third region.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于电感器芯的扁平带绕组，包括至少一个具有第一线性区域，第二线性区域和第三线性区域的绝缘导电扁平带，其中第三线性区域基本上正交地连接到所述第一线性区域 以及所述第二线性区域，使得所述第一线性区域和所述第二线性区域偏移一段距离并且平行或反向平行，并且其中所述第一线性区域和所述第二线性区域围绕电感器绕相反方向缠绕 核心和周围的第三个地区。