Abstract:
본 발명은 웨이퍼를 손상시키지 않고 비아홀의 깊이를 정확하게 측정할 수 있는 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것으로, 광 투과 특성이 우수한 실리콘 웨이퍼에 광대역 적외선 광을 조사하여 웨이퍼의 각 경계면으로부터 반사되는 빛과 기준광의 간섭 신호로부터 비아홀의 깊이를 측정할 수 있게 한 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 비아홀 측정 장치는 광대역의 적외선 광을 생성하는 광원부와 상기 광원부로부터 생성된 광을 실리콘 웨이퍼에 조사하여 상기 실리콘 웨이퍼로부터 반사된 빛의 간섭 신호의 스펙트럼 주기로부터 웨이퍼에 형성된 비아홀의 깊이를 측정하는 간섭계를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 하나의 트랙으로 고분해능의 절대 각도를 측정할 수 있어 소형화가 가능하고 경제적인 광학식 엔코더 및 이를 이용한 변위 측정 방법에 관한 것으로, 광을 조사하는 발광부와, 발광부의 광을 반사시키는 반사 부재와, 발광부와 반사 부재의 사이에 광의 진행 방향을 가로지르는 방향으로 이동하도록 배치되며 이동 방향을 따라 일정한 피치로 배치되는 회절 격자를 구비하는 이동 부재와, 이동 부재에 대하여 발광부와 같은 방향에 배치되며 반사 부재에 의해 반사되어 회절 격자에 의해 회절된 광의 적어도 일부가 간섭하는 광을 수광하는 제1 수광부를 구비하는 광학식 엔코더 및 이를 이용한 변위 측정 방법을 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A visibility enhanced low coherence interferometer is provided to improve the visibility because reference light signal and reflected light signal individually reflected from a reference surface and measuring surface are formed to be the same or similar. CONSTITUTION: A visibility enhanced low coherence interferometer comprises a main optical source unit(20), a light splitting unit(30), a reference surface reflection unit, a measuring surface reflection unit(50), an optical detecting unit(60), an optical axis micro moving unit(70), and an auxiliary light source unit(80). The main optical source unit projects multi-wavelength light. The light splitting unit divides a light signal into two. The reference and measuring surface reflection units respectively reflect the light signals divided by the light splitting unit to each measuring surface of measuring objects. The light detecting unit observes the interference by gathering the reflected lights from the reference and measuring surface reflection units. The auxiliary light source unit amplifies weak reflected light so that the visibility is uniformly maintained. The optical axis micro moving unit minutely transfers the reference surface of a reference surface reflection unit or a measuring surface of the measuring surface reflection unit to an optical axial direction.
Abstract:
PURPOSE: A non-contact type three-dimensional coordinate measuring system is provided to ensure high resolution and precision as well as a compact structure and to enable position measurement from any distance within the range where the light of a light source can reach a light detecting part. CONSTITUTION: A non-contact type three-dimensional coordinate measuring system comprises a light source(1) which is installed in an object to be measured, a light detecting part(2) which is installed in a specified position and detects the light emitted from the light source, and a position calculating part(3) which measures the distance between the light source and the light detecting part using the light detected by the light detecting part and calculates the position of the light source form the measured distance.
Abstract:
본 발명은 카메라와 렌즈 사이에 초점흐림수단을 설치하여 초점이 흐려진 영상을 카메라에서 인식하고 이를 분석하여 피사체의 형상을 측정할 수 있게 한 입체형상측정장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 입체형상측정장치는 반도체 모듈 등의 피사체를 촬영하는 카메라를 포함하여 구성되는 입체형상측정장치에 있어서, 상기 카메라의 전면에 카메라로 입사된 피사체 영상의 초점을 흐리기 위한 초점흐림수단을 설치하여 구성됨을 특징으로 한다. 입체형상, 초점흐림수단, 굴절률, 초점거리
Abstract:
본 발명이 해결하려는 과제는 종래 공초점 현미경의 광축주사 과정을 제거하여 한번의 측정 데이터로 초점위치를 검출하고 3차원 형상을 복원하는 광축주사 과정을 제거한 공초점 현미경을 제공하는 것이다. 본 발명 광축주사 과정을 제거한 공초점 현미경은, 복수의 광검출기로 구성된 공초점 현미경과; 상기 공초점 현미경을 통해 검출된 복수의 광을 이용하여 초점위치를 검출하는 처리부로 구성된 것을 특징으로 한다. 상기 처리부에서 초점검출 방법은 복수의 광검출기의 광축위치를 설정하는 단계와; 상기 광축위치에서 복수의 광검출기를 이용하여 광량을 검출하는 단계와; 상기 광검출기의 설정된 광축위치와 광축위치에서 검출된 광량을 이용하여 측정시편의 초점위치를 검출하는 단계로 구성된 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 종래 공초점 현미경의 광축주사 과정을 제거하여 한번의 측정 데이터로 초점위치를 검출하므로 측정시편의 초점위치를 검출하는 시간이 감소하게 되고, 초점을 검출하는 시간이 감소함으로서 3차원 형상을 복원하는 시간이 감소하게 된다. 아울러, 광축주사 과정을 제거하여 광축주사 과정으로 인하여 공초점 현미경에 미치는 물리적 영향을 최소화하여 정확한 측정을 할 수 있다.