COMPOSICIONES HERBICIDAS CON BASE EN 3-FENILURACILOS Y 3-SULFONILISOXAZOLINAS.

    公开(公告)号:ES2313622T3

    公开(公告)日:2009-03-01

    申请号:ES06708784

    申请日:2006-03-16

    Applicant: BASF SE

    Abstract: Una composición herbicida que comprende a) al menos un 3-feniluracilo de fórmula I (Ver fórmula) en donde las variables R 1 hasta R 7 son como se define más abajo: R 1 es metilo o NH2; R 2 es haloalquilo C1-C2; R 3 es hidrógeno o halógeno; R 4 es halógeno o ciano; R 5 es hidrógeno o alquilo C1-C6; R 6 , R 7 independientemente uno del otro son hidrógeno, alquilo C1-C6, alcoxi C1-C6, alquenilo C3-C6, alquinilo C3-C6, cicloalquilo C3-C7, cicloalquenilo C3-C7, fenilo o bencilo; incluidas sus sales agrícolas aceptables; b) al menos una 3-sulfonilisoxazolina de fórmula II (Ver fórmula) en donde las variables R 8 y R 9 son como se define más abajo: R 8 es alquilo C1-C4 o haloalquilo C1-C4; R 9 es fenilo, naftilo, pirazolilo, isoxazolilo o piridilo, en donde cada uno de los 5 radicales anteriormente mencionados pueden estar sustituidos o no sustituidos por 1 a 6 átomos de halógeno y/o por 1, 2 ó 3 sustituyentes seleccionados del grupo que consiste de ciano, alquilo C1-C6, haloalquilo C1-C4, alquenilo C3-C6, alquinilo C3-C6, cicloalquilo C3-C7, cicloalquenilo C3-C7, alcoxi C1-C4, haloalcoxi C1-C4, alquiltio C1-C4, haloalquiltio C1-C4, alquilsulfonilo C1-C4, haloalquilsulfonilo C1-C4, alquilcarbonilo C1-C4, alcoxicarbonilo C1-C4, fenilo y bencilo; y c) opcionalmente al menos un protector de fórmula III seleccionado del grupo que consiste de benoxacor, cloquintocet, ciometrinil, diclormid, diciclonon, dietolato, fenclorazol, fenclorim, flurazol, fluxofenim, furilazol, isoxadifen, mefenpir, mefenato, anhídrido naftálico, 2,2,5-trimetil-3-(dicloroacetil)-1,3-oxazolidina, 4-(dicloroacetil)-1-oxa-4- azaspiro[4.5]decano y oxabetrinil, incluidas sus sales agrícolas aceptables y, con tal de que ellos tengan un grupo carboxilo, sus derivados agrícolas aceptables.

    METHOD OF MAKING POROUS MATERIALS AND POROUS MATERIALS PREPARED THEREOF

    公开(公告)号:MY177445A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:MYPI2010005095

    申请日:2009-05-20

    Applicant: BASF SE

    Abstract: The present invention concerns a method of making a porous material comprising the following steps in the order a-b-c-d: (a) reacting at least one organosilane (A} with water in the presence of a solvent (C) to form a polymeric material, (b) subjecting said polymeric material to a first heat treatment, (c) bringing said polymeric material into contact with at least one dehydroxylation (d) agent (D), (e) subjecting said polymeric material to electromagnetic radiation and/or to a further heat treatment. The present invention furthermore concerns the porous material obtainable by the inventive method, semiconductor devices and electronic components comprising said porous material, and the use of said material for electrical insulation and in microelectronic devices, membranes. displays and sensors.

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