Abstract:
Es werden ein Träger (10) und ein optoelektronisches Bauelement (100) mit dem Träger (10) angegeben, wobei der Träger (10) einen Formkörper (5), zumindest einen Durchkontakt (41, 42) und eine Mehrzahl von Verstärkungsfasern (52) aufweist, wobei der Formkörper (5) aus einem elektrisch isolierenden Formkörpermaterial (53) gebildet ist, der Durchkontakt (41, 42) aus einem elektrisch leitfähigen Material gebildet ist, und die Verstärkungsfasern (52) eine mechanische Verbindung zwischen dem Formkörper (5) und dem Durchkontakt (41, 42) vermitteln, indem die Verstärkungsfasern (52) jeweils bereichsweise in dem Formkörper (5) und bereichsweise in dem Durchkontakt (41, 42) angeordnet sind. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines Trägers oder eines Bauelements mit einem solchen Träger angegeben.
Abstract:
Es umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) einen Träger (5) sowie eine Vielzahl von einzeln ansteuerbaren, im Betrieb des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) Strahlung (R) emittierenden Bildpunkten (20). Dabei sind die Bildpunkte (20) aus einem Halbleitermaterial gebildet und auf dem Träger (5) angebracht. Das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) enthält eine Vielzahl von Transportkanälen (3), die zu einem Transport eines Gases und/oder einer Flüssigkeit durch das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) hindurch in Richtung quer zu und, innerhalb des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1), hin zu einer Strahlungsaustrittsseite (10) eingerichtet sind. Ferner sind die Bildpunkte (20) dazu bestimmt, Strahlung (R) mit einer Wellenlänge maximaler Intensität von 470 nm oder weniger zu emittieren.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (9) angegeben, umfassend - ein Leuchtdiodenbauteil (1) mit zumindest einem Leuchtdiodenchip (11) und einer Deckfläche (la), die dem Leuchtdiodenchip (11) in einer Abstrahlrichtung (Z) nachgeordnet ist, - ein Konversionselement (2), das dem Leuchtdiodenbauteil (1) in Abstrahlrichtung (Z) nachgeordnet ist, - einen Rahmenkörper (3) und - einen Deckkörper (4), der aus einem strahlungsdurchlässigen Material gebildet ist, wobei - der Rahmenkörper (3) alle Seitenflächen (2c) des Konversionselementes (2) rahmenartig umschließt, - der Deckkörper (4) dem Konversionselement (2) in Abstrahlrichtung (Z) nachgeordnet ist und das Konversionselement (2) an seiner dem Leuchtdiodenchip (11) abgewandten Deckfläche (2a) überdeckt.
Abstract:
Es wird eine Licht emittierende Vorrichtung angegeben, die ein Licht emittierendes Halbleiterbauelement (1), das im Betrieb erstes Licht in einem ersten Wellenlängenbereich emittiert, und im Strahlengang des ersten Lichts angeordnet ein Wellenlängenkonversionselement (2), das das erste Licht zumindest teilweise in zweites Licht in einem zweiten vom ersten Wellenlängenbereich verschiedenen Wellenlängenbereich umwandelt, aufweist, wobei das Wellenlängenkonversionselement (2) Nanopartikel (3) aufweist, die organische lumineszierende Moleküle (31) in einem Grundmaterial (30), das aus einem SiO 2 -basierten Material gebildet wird, enthalten. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Licht emittierenden Vorrichtung angegeben.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements (100) angegeben, umfassend ein Bereitstellen eines Trägers (1) mit zumindest einer Montagefläche (11), ein Erzeugen von zumindest zwei Durchkontaktierungen (4) in dem Träger (1) mit in den Durchkontaktierungen (4) verlaufenden elektrisch leitenden Kontakten (12, 13), ein Bereitstellen zumindest eines Licht emittierenden Halbleiterchips (2), wobei der Halbleiterchip (2) ein Aufwachssubstrat (10) und eine darauf epitaktisch gewachsene Schichtenfolge (7) umfasst, ein Montieren des zumindest einen Halbleiterchips (2) auf die zumindest eine Montagefläche (11) des Trägers (1), wobei der Halbleiterchip (2) beim Montieren auf die Montagefläche (11) im selben Verfahrensschritt elektrisch leitend mit den Kontakten (12, 13) verbunden wird, ein Vereinzeln des Trägers (1) entlang von Vereinzelungslinien (V), wobei eine Vereinzelungslinie (V) durch zumindest eine der Durchkontaktierungen (4) verläuft, so dass nach dem Vereinzeln die Kontakte (12, 13) Kontaktflächen (5) an zumindest einer Seitenfläche (la) des Trägers (1) bilden, wobei die Seitenfläche (la) senkrecht zur Montagefläche (11) des Trägers (1) ist, und eine Montage des Trägers (1) mit den Kontaktflächen (5) auf einer Anschlussplatte (8), wobei die Montagefläche (11) senkrecht zu der Anschlussplatte (8) steht.
Abstract:
Anzeigevorrichtung (1) mit zumindest einem Halbleiterkörper, der eine Halbleiterschichtenfolge (2), die einen zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweist und eine Mehrzahl von Bildpunkten (2a, 2b) bildet, aufweist und mit einer Ansteuerschaltung (54), wobei - die Ansteuerschaltung eine Mehrzahl von Schaltern (55) aufweist, die jeweils zur Steuerung von zumindest einem Bildpunkt (2a, 2b) vorgesehen sind; - zwischen der Ansteuerschaltung und dem Halbleiterkörper eine erste Metallisierungsschicht und eine von der ersten Metallisierungsschicht elektrisch isolierte zweite Metallisierungsschicht angeordnet sind; - die erste Metallisierungsschicht und/oder die zweite Metallisierungsschicht mit zumindest einem der Bildpunkte elektrisch leitend verbunden ist; und - die erste Metallisierungsschicht und die zweite Metallisierungsschicht so miteinander überlappend angeordnet sind, dass die Ansteuerschaltung in Aufsicht auf die Anzeigevorrichtung an jeder Stelle, die mit einem der Bildpunkte überlappt oder zwischen zwei benachbarten Bildpunkten angeordnet ist, mit zumindest einer der Metallisierungsschichten bedeckt ist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement mit einem optoelektronischen Halbleiterchip (1) und einem optischen Element (2) angegeben, wobei zwischen dem Halbleiterchip (1) und dem optischen Element (2) eine Verbindungsschicht (3) mit einem transparenten Oxid angeordnet ist, die an den Halbleiterchip (1) und das optische Element (2) jeweils unmittelbar angrenzt und das optische Element (2) auf dem Halbleiterchip (1) befestigt. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
A light-emitting semiconductor chip is provided, the semiconductor chip comprising a semiconductor body having a pixel region with at least two electrically isolated sub-regions, each sub-region comprising an active layer, which generates electromagnetic radiation of a first wavelength range during operation, a separately manufactured ceramic conversion die over a radiation emission area of at least one sub-region, said conversion die being configured to convert radiation of the first wavelength range into electromagnetic radiation of a second wavelength range, wherein a width of the conversion die does not exceed 100 pm. Further, a method for the production of a light-emitting semiconductor chip and method for the production of a conversion die are provided.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (100), angegeben, mit einem Träger (10) für eine optoelektronische Struktur, mit einem elektrisch isolierenden Trägerelement (1), das eine Montageseite (11) aufweist; zumindest einer elektrisch leitfähigen n-Verdrahtungsschicht (3); einer strukturierten, elektrisch leitfähigen Kontaktschicht (2), welchezumindest einen p-seitigen Kontaktbereich (21) und zumindest einem n-seitigen Kontaktbereich (22) aufweist; zumindest einem Isolationsbereich (4); zumindest einer elektrisch isolierenden Abstandsschicht (5), wobei der n-seitige Kontaktbereich (22) und die n-Verdrahtungsschicht (3) elektrisch leitend miteinander verbunden sind, und der p-seitige Kontaktbereich (21) und die Abstandschicht (5) den n-seitigen Kontaktbereich (22) in lateraler Richtung (L) vollständig umranden; zumindest einer optoelektronischen Struktur (7), die elektrisch leitend und mechanisch fest mit dem Träger (10) verbunden ist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (100) angegeben, der einen Halbleiterkörper (6) aus Halbleitermaterial, eine dem Halbleiterkörper in Abstrahlrichtung nachgeordnete Auskoppelfläche (9) und eine Spiegelschicht (1) aufweist. Der Abstand zwischen aktiver Schicht (2) und Spiegelschicht (1) ist derart eingestellt, dass eine von der aktiven Schicht (2) in Richtung der Auskoppelfläche (9) emittierte Strahlung mit einer an der Spiegelschicht (1) reflektierten Strahlung so interferiert, dass der Halbleiterchip (100) eine Abstrahlcharakteristik der emittierten Strahlung mit einer Vorzugsrichtung in Vorwärtsrichtung aufweist. Weiter wird ein Display (1000) mit einer Mehrzahl von derartigen Halbleiterchips (100) angegeben. Weiter werden Verfahren zu deren Herstellung angegeben.