Abstract:
Dans l'application préférée pour la préionisation de lasers TE, en particulier les lasers excimers, le tube à rayons X plasmique (ER), que l'on peut également désigner sous le nom de tube à ions à chambre unique, comprend un boîtier longiligne en forme de caisse (G) à l'intérieur duquel est agencé une cathode évidée (K) également longiligne et de section transversale approximativement en U, dont le côté ouvert est tourné vers la cible de rayons X sous forme de feuille imperméable aux gaz. Entre la cible des rayons X (1) et la cathode évidée (K) se trouve une électrode d'amorçage longiligne en forme de fil de fer (11). En appliquant une tension ou impulsion de tension positive à l'électrode d'amorçage (11), on crée autour de cette dernière un champ électrique sous l'influence duquel les électrons présents à cause du rayonnement ambiant sont forcés de suivre des trajectoires longues et hélicoïdales et ionisent ainsi des atomes de gaz. Des avalanches d'électrons se forment et amorcent la décharge du fil. En appliquant à la cathode évidée (K) un tension d'accélération typique d'entre 60 kV et 120 kV au maximum, on extrait des ions (i+) du plasma à basse pression (3) et on les accélère contre la cathode évidée (K). Au moment de l'impact des ions de la cathode évidée (K), des électrons secondaires sont émis et accélérés dans le sens opposé, formant le faisceau d'électrons (E), qui, en venant heurter la cible de rayons X (1), produit le rayonnement de freinage de rayons X (X). Ledit tube de rayons X plasmique convient aussi comme base pour un canon électronique: il suffit pour cela que la feuille qui recouvre l'ouverture dans la paroi de support de la cible et qui sert de fenêtre à électrons soit conçue de manière à laisser passer les faisceaux d'électrons.
Abstract:
Die Plasma-Röntgenröhre mit hohen Elektronenstromdichten, insbesondere zur Vorionisierung von Gaslasern, arbeitet nach dem Prinzip der Elektronenerzeugung durch Sekundärelektronen-Emission bei Ionenbeschuß. In Längsachse der Röhre ist ein dünner Zünddraht (6) aufgespannt. Nach Anlegen eines positiven Spannungsimpulses an den Zünddraht (6) fliegen freie Elektronen in Spiralbahnen auf den dünnen Draht zu. Auf aufgerollten Flugbahnen legen die Elektronen größere Wege als die mittlere freie Weglänge unter Stoßionisation zurück und erzeugen so zusätzliche Ladungsträger. Ein Hochspannungsimpuls, der an eine seitlich in die Plasmakammer (1) ragende Hohlkathoden-Anode (3) angelegt wird, erhöht in Wechselwirkung mit den metallischen Wandungen (5b, 5c, 5d, 5e, 5f) die Ladungsträgerdichte. Ein negativer Hochspannungsimpuls auf die massive, ausgedehnte Beschleunigungskathode (7) saugt durch ein Gitter (9) positive Ionen aus der Hohlkathode (1′) ab, die bei ihrem Auftreffen auf die Beschleunigungskathode (7) Elektronen aus dem Metall herausschlagen. Diese werden von der Kathode (7) emittiert, zum Gitter (9) beschleunigt und durch den Drift- bzw. Plasmaraum (1) auf das Röntgentarget (12), eine ein Fenster abdeckende dünne Metallfolie oder Schicht, hin geschossen.
Abstract:
The object of the present invention is a device for increasing free electrons inciding in an electrical conductor body, which comprises a metal body with an inner surface and an outer surface, and an insulated support connected to the metal body to electrically insulate it from the ground, wherein the outer surface of the metal body is configured to receive a bombardment of external photons and convert them into free electrons; and the inner surface of the metal body is configured to receive the electrical conductor body without physically coming into contact with it and direct the free electrons towards the electrical conductor body to increase the incident free electrons thereof.
Abstract:
The invention concerns a source supplying an adjustable energy electron beam, comprising a plasma chamber (P) consisting of an enclosure (1) having an inner surface of a first value (S1) and an extraction gate (2) having a surface of a second value (S2), the gate potential being different from that of the enclosure and adjustable. The invention is characterized in that the plasma is excited and confined in multipolar or multidipolar magnetic structures, the ratio of the second value (S2) over the first value (S1) being close to: D = 1/β ∑2πme/mi exp (-1/2), wherein:β is the proportion of electrons of the plasma P, me the electron mass, and mi is the mass of positively charged ions.
Abstract:
Die Erfindung umfasst eine Hochfrequenz-Elektronenquelle (10), insbesondere als Neutralisator einer lonenquelle, insbesondere eines lonenantriebs umfassend einen Entladungsraum (11) mit mindestens einem Gaseinlass (14) für ein zu ionisierendes Gas und mindestens einer Extraktionsöffnung (16) für Elektronen, wobei der Entladungsraum (11) von mindestens einer Elektrode (12a) und einer Keeper-Elektrode (12b) zumindest teilweise umgeben ist und dass zwischen den Elektroden (12a, 12b) ein elektrisches Hochfrequenzfeld anliegt.
Abstract:
The invention is directed to a discharge device and a cathode for use in such a discharge device. By providing a dielectric layer between a first and a second electrode, e.g. between a cathode and an anode, said dielectric layer having an opening aligned with a micro hollow of the first electrode, the light efficiency of the discharge device can be improved.
Abstract:
A large-area electron source (22) which can operate continuously, stably, and indefinitely in a poor vacuum (20) environment. The source includes a glow discharge cathode, appropriately positioned with respect to a target anode (30) and a fine-mesh grid (26) spaced from the cathode (22) by a distance less than the mean free path length of electrons leaving the cathode (22), the grid (26) being electrically biased to control the electron beam current over a wide range with only small grid voltage changes. An accelerating voltage (29) applied to the cathode (22) can be varied continuously from as low as a few hundred volts to 30 KeV or greater and the source will continue to operate satisfactorily. Further, the grid (26) is made of a fine mesh wire of sufficiently small dimensions as to not be resolvable in the target plane (30). A further refinement of the device utilizes scanning coils (34) to achieve additional uniformity of the incident beam at the target plane (30). The basic apparatus of the invention can be combined with other features, for use in shadow mask lithography, resist sensitivity measurement, lift off processing, and resist curing.