Abstract:
An object of the invention is to provide a method for producing a conductive member having low electrical resistance, and the conductive member is obtained using a low-cost stable conductive material composition that does not contain an adhesive. Disclosed is a method for producing a semiconductor device in which silver oxide (520, 620, 720) provided on a surface of a base (500, 600, 700) and silver or silver oxide (140, 240, 340) provided on a surface of a semiconductor element (100, 200, 300) are bonded, the method including the steps of arranging a semiconductor element (100, 200, 300) on a base (500, 600, 700) such that silver or silver oxide (140, 240, 340) provided on a surface of the semiconductor element (100, 200, 300) is in contact with silver oxide (520, 620, 720) provided on a surface of the base (500, 600, 700), temporarily bonding the semiconductor element (100, 200, 300) and the base (500, 600, 700) by applying a pressure or an ultrasonic vibration to the semiconductor element (100, 200, 300) or the base (500, 600, 700), and permanently bonding the semiconductor element (100, 200, 300) and the base (500, 600, 700) by applying heat having a temperature of 150 to 900°C to the semiconductor element (100, 200, 300) and the base (500, 600, 700). The step of temporarily bonding and the step of permanently bonding may be performed simultaneously. The step of permanently bonding may be performed in air or in an oxygen environment, or in a nitrogen environment. The semiconductor element (100, 200, 300) and the base (500, 600, 700) may be heated in advance at 150 to 900°C before the step of temporarily bonding. A pressure of 5 to 50 MPa may be applied in the step of temporarily bonding. The semiconductor element (100, 200, 300) may be a light emitting semiconductor element.
Abstract:
According to an embodiment, a semiconductor component includes a circuit board; a semiconductor chip; and a bond part formed by sintering a paste containing metal particles between the circuit board and the semiconductor chip to bond the circuit board and the semiconductor chip. The bond part includes a first area immediately under the semiconductor chip and a second area adjacent to the first area. The second area has a porosity equal to or lower than that of the first area.
Abstract:
Die Erfindung beschreibt eine Schaltungsanordnung mit einem Substrat, auf einer Hauptfläche dieses Substrats angeordneten Leiterbahnen, mindestens einem mit seiner ersten Hauptfläche auf einer ersten Leiterbahn angeordnetem Halbleiterbauelement, einer elektrisch leitfähigen Verbindungseinrichtung zu mindestens einer Kontaktfläche der zweiten Hauptfläche des Halbleiterbauelement. Hierbei ist die Verbindung des Halbleiterbauelements mit der ersten Leiterbahn und / oder der Verbindungseinrichtung als Drucksinterverbindung ausgebildet und zwischen der Verbindungseinrichtung und einem zugeordneten Rand des Halbleiterbauelements ein Isolierstoff angeordnet.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Substratanordnung (10, 10') zur Verbindung mit einem Elektronikbauteil (50; 51), umfassend die Schritte: - Bereitstellen eines Substrates (20), insbesondere eines DCB-Substrats, eines PCB-Substrats oder eines Leadframes, mit einer ersten Seite (22) und einer zweiten Seite (23), - abschnittsweises Aufbringen eines Vorfixiermittels (30) auf die erste Seite (22) des Substrates (20), wobei das Vorfixiermittel (30) ein Klebemittel ist, das 20 - 45 Gew.-% thermoplastisches Polymer, 40 - 70 Gew.-% organisches Lösemittel, 10 - 25 Gew.-% anorganische Füllstoffpartikel und 0 - 0,5 Gew.-% weitere Additive aufweist. Die Erfindung betrifft auch eine entsprechende Substratanordnung (10, 10') sowie ein entsprechendes Verfahren zum Verbinden (Versintern, Verlöten, Verpressen) eines Elektronikbauteils (50, 51) mit der Substratanordnung (10, 10'). Durch die erfindungsgemäßen Maßnahmen wird beim Transport vom Ort des Bestückens der Substratanordnung (10, 10') mit dem Elektronikbauteil (50, 51') zum Ort des Verbindens eine ausreichende Transportfestigkeit erzeugt. Das Vorfixiermittel (30) kann auch alternativ oder zusätzlich auf die erste Seite (52) des Elektronikbauteils (50, 51) abschnittsweise aufgebracht werden. Auf die Substratanordnung (10, 10') und/oder auf das Elektronikbauteil (50, 51) kann vor dem Aufbringen des Vorfixiermittels (30) ein Kontaktierungsmaterial (25) aufgebracht werden. Das Vorfixiermittel (30) kann zumindest abschnittsweise seitlich des Kontaktierungsmaterials (25) aufgebracht werden, derart, dass das Vorfixiermittel (30) dicker als das Kontaktierungsmaterial (25) ist. Das Vorfixiermittel (30) wird während des Verbindens oder nach dem Verbinden zumindest teilweise entfernt, insbesondere abgebrannt und/oder abgeschmolzen. Nach dem Verbinden ist auf der ersten Seite (22) des Substrates (20) und/oder auf der dem Substrat (20) zugewandten ersten Seite (52) des Elektronikbauteils (50, 51) abschnittsweise ein Rest (31) des Vorfixiermittels (30), insbesondere die anorganischen Füllstoffpartikel, ausgebildet.
Abstract:
The invention relates to a method for connecting components, in which an assembly of at least two components, which each have a metal contact surface, and of metal sintering element, which is arranged between the components and is in the form of a metal solid having metal oxide surfaces, is provided and the assembly is pressure sintered, wherein metal oxide surfaces of the metal sintering agent each form a common contact surface with the metal contact surfaces of the components, and wherein (I) the pressure sintering is carried out in an atmosphere containing at least one oxidizable compound and/or (II) the metal oxide surfaces are provided with at least one oxidizable organic compound before the formation of the respective common contact surfaces.
Abstract:
A method for bonding an electronics chip (10) to a substrate (12), the method comprising the steps of: coating a bonding area (14) of the chip (10) with a first metal layer (18); providing a bonding area (24) of the substrate (12) and/or the bonding area (14) of the chip (10) with a low melting point metal layer (30), wherein the bonding area (24) of the substrate (12) comprises a second metal layer (28); attaching a spacer (20) to the chip (10) and/or the substrate (12); positioning and fixing the chip (10) on the substrate (12); and transient liquid phase bonding the chip (10) to the substrate (12) by melting the low melting point layer (30), wherein the spacer (20) provides a specific distance between the first metal layer (18) and the second metal layer (28).
Abstract:
Die Erfindung beschreibt zwei Verfahren zur Befestigung von elektronischen Bauelementen, insbesondere von Leistungshalbleiterbauelementen wie Dioden, Transistoren oder Thyristoren, und von Anschlusselementen mittels Drucksintern mit den Verfahrensschritten des ersten Verfahrens: Aufbringen einer aus einem Metallpulver und einem Lösungsmittel bestehenden pastösen Schicht (20) auf eine Trägerfolie (10); Trocknen der pastösen Schicht; Aufbringen von mindestens einem Bauelement (40) auf die getrocknete Schicht; Druckbeaufschlagung des Verbunds aus dem mindestens einen Bauelement und der Trägerfolie mit der getrockneten Schicht, wodurch die Haftkraft zwischen der Schicht (20) und dem Bauelement (40) größer wird als zwischen der Schicht (20) und der Trägerfolie (10); Abheben des mindestens einen Bauelements (40) mit daran haftender Schicht (20") von der Trägerfolie (10); Positionierung des Bauelements (40) mit der daran haftenden Schicht (20") auf dem Substrat (50); Druckbeaufschlagung der Anordnung des Substrats (50) und des Bauelements (40) zu deren Sinterverbindung.
Abstract:
The present invention is characterized by comprising a two-pack adhesive of an A agent selected from components, an acrylic monomer, a peroxide, a reducing agent, an epoxy resin precursor and a curing agent and containing at least one or two of the acrylic monomer, the peroxide and the reducing agent, and a B agent containing all of the remaining components which are not selected in the A agent. The use of this adhesive makes it possible to stably obtain the bonding free from a thermal stress with the excellent heat resistance and the good reliability.
Abstract:
Die vorliegende Anmeldung umfasst ein Klebeverfahren zum Verbinden eines ersten Wafers (101) und eines zweiten Wafers (401, 501), wobei zunächst eine erste Klebeschicht (102) auf eine Oberfläche des ersten Wafers (101) aufgetragen wird. Weiterhin wird eine zweite Klebeschicht (201) auf die erste Klebeschicht (102) aufgetragen und die beiden Klebeschichten (102, 201) werden durch selektives Entfernen beider Klebeschichten (102, 201) in mindestens einem vorgegeben Bereich des ersten Wafers (101) strukturiert. Weiterhin wird der erste Wafer (101) mit dem zweiten Wafer (401, 501) durch Drücken einer Oberfläche des zweiten Wafers (401, 501) auf die (strukturierte) zweite Klebeschicht (302, 402, 502) verbunden, wobei die zweite Klebeschicht (402, 502) beim Verbinden des ersten Wafers (101) mit dem zweiten Wafer (401, 501) fließfähiger als die erste Klebeschicht (301) ist. Das Verfahren kann weiterhin ein zumindest teilweises Aushärten der ersten Klebeschicht (102) vor dem Auftragen der zweiten Klebeschicht (201) umfassen. Die erste und zweite Klebeschicht (102, 201) können aus demselben Material in unterschiedlichen Aushärtungsstufen oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen. Die erste und/oder zweite Klebeschicht (102, 201) können auf der dem ersten Wafer (101) abgewandten Seite planar sein. Auf der Oberfläche des zweiten Wafers (501) ist optional eine Oberflächentopographie vorhanden, wobei die zweite Klebeschicht (201, 502) mindestens so dick wie der höchste Punkt (503) der Oberflächentopographie aufgetragen wird.
Abstract:
Verfahren zum Herstellen einer Substratanordnung (10, 10') zur Verbindung mit einem Elektronikbauteil (50; 51), umfassend die Schritte: - Bereitstellen eines Substrates (20), insbesondere eines DCB-Substrats, eines PCB-Substrats oder eines Leadframes, mit einer ersten Seite (22) und einer zweiten Seite (23), - abschnittsweises Aufbringen eines Vorfixiermittels (30) auf die erste Seite (22) des Substrates (20). Die Erfindung betrifft auch eine entsprechende Substratanordnung (10, 10') sowie ein entsprechendes Verfahren zum Verbinden eines Elektronikbauteils (50, 51) mit der Substratanordnung (10, 10'). Durch die erfindungsgemäßen Maßnahmen wird beim Transport vom Ort des Bestückens der Substratanordnung (10, 10') mit dem Elektronikbauteil (50, 51') zum Ort des Verbindens eine ausreichende Transportfestigkeit erzeugt. Das Vorfixiermittel (30) kann auch alternativ oder zusätzlich auf die erste Seite (52) des Elektronikbauteils (50, 51) abschnittsweise aufgebracht werden. Auf die Substratanordnung (10, 10') und/oder auf das Elektronikbauteil (50, 51) kann vor dem Aufbringen des Vorfixiermittels (30) ein Kontaktierungsmaterial (25) aufgebracht werden. Das Vorfixiermittel (30) kann zumindest abschnittsweise seitlich des Kontaktierungsmaterials (25) aufgebracht werden, derart, dass das Vorfixiermittel (30) dicker als das Kontaktierungsmaterial (25) ist. Nach dem Verbinden kann auf der ersten Seite (22) des Substrates (20) und/oder auf der dem Substrat (20) zugewandten ersten Seite (52) des Elektronikbauteils (50, 51) abschnittsweise ein Rest (31) des Vorfixiermittels (30) ausgebildet sein.