KLEBEVERFAHREN ZUM VERBINDEN ZWEIER WAFER MITTELS EINER STRUKTURIERTEN DOPPELKLEBESCHICHT
    69.
    发明公开
    KLEBEVERFAHREN ZUM VERBINDEN ZWEIER WAFER MITTELS EINER STRUKTURIERTEN DOPPELKLEBESCHICHT 审中-公开
    用双层粘合砖结构连接两个晶片的粘合方法

    公开(公告)号:EP3214644A3

    公开(公告)日:2017-11-01

    申请号:EP17155432.2

    申请日:2017-02-09

    Abstract: Die vorliegende Anmeldung umfasst ein Klebeverfahren zum Verbinden eines ersten Wafers (101) und eines zweiten Wafers (401, 501), wobei zunächst eine erste Klebeschicht (102) auf eine Oberfläche des ersten Wafers (101) aufgetragen wird. Weiterhin wird eine zweite Klebeschicht (201) auf die erste Klebeschicht (102) aufgetragen und die beiden Klebeschichten (102, 201) werden durch selektives Entfernen beider Klebeschichten (102, 201) in mindestens einem vorgegeben Bereich des ersten Wafers (101) strukturiert. Weiterhin wird der erste Wafer (101) mit dem zweiten Wafer (401, 501) durch Drücken einer Oberfläche des zweiten Wafers (401, 501) auf die (strukturierte) zweite Klebeschicht (302, 402, 502) verbunden, wobei die zweite Klebeschicht (402, 502) beim Verbinden des ersten Wafers (101) mit dem zweiten Wafer (401, 501) fließfähiger als die erste Klebeschicht (301) ist. Das Verfahren kann weiterhin ein zumindest teilweises Aushärten der ersten Klebeschicht (102) vor dem Auftragen der zweiten Klebeschicht (201) umfassen. Die erste und zweite Klebeschicht (102, 201) können aus demselben Material in unterschiedlichen Aushärtungsstufen oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen. Die erste und/oder zweite Klebeschicht (102, 201) können auf der dem ersten Wafer (101) abgewandten Seite planar sein. Auf der Oberfläche des zweiten Wafers (501) ist optional eine Oberflächentopographie vorhanden, wobei die zweite Klebeschicht (201, 502) mindestens so dick wie der höchste Punkt (503) der Oberflächentopographie aufgetragen wird.

    Abstract translation: 本申请包括用于接合第一晶片(101)和第二晶片(401,501),其特征在于,首先将第一粘合剂层(102)施加到所述第一晶片(101)的表面的接合方法。 此外,第二粘合剂层(201)被施加到第一粘合层(102)和两个粘合层(102,201)通过选择性地去除在所述第一晶片(101)的至少一个预定区域构造两个粘合层(102,201)的制备。 此外,通过按压第二晶片(401,501)到(结构化的)第二粘合层(302,402,502)的一个表面上的第一晶片(101)到所述第二晶片(401,501),所述第二粘合剂层( 当将所述第一晶片(101)结合到所述第二晶片(401,501)时,所述第一粘合剂层(402,502)比所述第一粘合剂层(301)更流动。 该方法可以进一步包括在施加第二粘合剂层(201)之前至少部分地固化第一粘合剂层(102)。 第一和第二粘合剂层(102,201)可以由不同的固化步骤或不同材料中的相同材料制成。 第一和/或第二粘合剂层(102,201)在背离第一晶片(101)的一侧可以是平面的。 在第二晶片(501)的表面具有的表面形貌是任选存在的,所述的第二粘合剂层(201,502)被施加至少与表面形貌的最高点(503)厚。

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