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公开(公告)号：KR1019990033158A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970054427
申请日：1997-10-23
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 GaAs의 햄트(HEMTs) 소자 개발에 필요한 티형 및 감마형 게이트와 같은 특수 게이트(special gate) 제작에 사용되는 X-선 마스크 및 그 제조방법에 관한 것이다. 종래에는 X-선 마스크를 사용하여 티형 게이트를 제작할 때, 티형 게이트의 풋프린터(footprint)를 X-선 리소그래피를 통해 먼저 형성시킨 후, 다시 광 리소그래피로 헤드(Head)부분을 형성하는 방법으로 리소그래피를 다시 수행하는 등 공정상의 절차가 쉽지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 풋프린터 부분에 해당되는 X-선 흡수체와 헤드 부분에 해당되는 X-선 흡수체의 두께를 달리하여 X-선 투과도를 조절하고, 이들 X-선 흡수체가 마스크 기판에 동시에 존재하도록 X-선 마스크를 제작하므로써, 한번의 X-선 리소그래피로 티형 및 감마형 게이트와 같은 특수 게이트를 웨이퍼상에 창출할 수 있도록 한다.
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公开(公告)号：KR1019990030944A
公开(公告)日：1999-05-06
申请号：KR1019970051435
申请日：1997-10-07
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B5/30
Abstract: 본 발명은 ArF 엑시머레이저를 광원으로 사용하여 원본인 마스크 상의 패턴을 웨이퍼 위에 전사시켜 미세한 선폭 구현을 하는 반사경과 렌즈로 구성된 리소그래피용 반사굴절 결상광학계에 관한 것으로서, 굴절능을 갖는 주반사경과 수차보정을 위한 보정용 렌즈들을 결합시키고, 광학계의 마지막 렌즈를 CaF
2 로 대체한 광학계를 제공함으로써, 파장이 짧으면서도 넓은 대역폭을 가지는 광원을 사용할 수 있고, 광학계의 수명을 향상시키고, 확대된 원본인 마스크 상의 패턴을 웨이퍼면 위에 전사시켜 미세 선폭을 구현할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100170501B1
公开(公告)日：1999-05-01
申请号：KR1019950042071
申请日：1995-11-17
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: F21V5/04
Abstract: 본 발명은 파리 눈 렌즈를 이용한 조명계 인터그레이터에 관한 것이다.
본 발명은, 다수의 파리 눈 렌즈로 구성되는 인터그레이터에서 파리 눈 렌즈의 각각을 지나온 부분 광속들의 중심이 조명하고자 하는 영역의 중심과 일치하도록 각 파리 눈 렌즈의 광축을 인터그레이터의 광축에 대해 소정의 각도로 기울어지게 하거나 일정한 각도로 절단함으로써 구성되며, 종래의 인터그레이터 장치보다 광의 균일도를 향상시키고 광량의 손실을 줄여 효율을 높일 수 있을 뿐만 아니라 조명계 시스템의 크기를 줄여 경량화시킬 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019980036299A
公开(公告)日：1998-08-05
申请号：KR1019960054857
申请日：1996-11-18
Inventor： 최상수 , 전영진 , 정해빈 , 유형준 , 엔조디파브리지오 , 마씨모젠틸리 , 루카그렐라 , 마르코바시오치 , 루이지마스트노지아코모 , 다니엘라페스치아롤리 , 로마노마기오라 , 프란세스코세리나
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 얼라인먼트 윈도우(alignment window)와 메인 칩 윈도우(main chip window)로 구성된 X-선 마스크에서, X-선 마스크와 웨이퍼를 정렬하기 위한 얼라인먼트 윈도우 부분에 형성되는 얼라인먼트 마크 패턴(alignment mark pattern)을 마스크 앞면 뿐만 아니라 마스크 뒷면에도 형성시켜 정렬 신호를 최적화하는 X-선 마스크 및 그 제조 방법이 기술된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019980019927A
公开(公告)日：1998-06-25
申请号：KR1019960038191
申请日：1996-09-04
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 굴절능을 반사경에 집중시켜 넓은 대역폭의 광원을 사용할 수 있도록 구성한 광학계(optical system)에 관한 것이다.
광학계를 구성하는 렌즈의 수와 전체 렌즈들의 두께를 줄일수 있는 본 발명은 광원후단에 위치하며, 4장의 렌즈로 이루어진 제1렌즈군과, 제1렌즈군의 후단에 위치하며 4장의 렌즈로 이루어진 제2렌즈군과, 제2렌즈군 후단에 위치하며, 2개의 프리즘으로 이루어진 편광선속분할기와, 편광선속분할기 후단에 위치하는 파장평판 및 주 반사경과, 파장평판 하단에 위치되어 광이 조사되는 물체면과 대응하는 5장의 렌즈로 이루어진 제3렌즈군으로 구성된다.-
公开(公告)号：KR100138865B1
公开(公告)日：1998-06-01
申请号：KR1019940034382
申请日：1994-12-15
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/324
Abstract: 본 발명은 반도체 제조장치 중에서 특히 선택적으로 열처리 공정을 수행할 수 있도록 한 열처리 장치에 관한 것이다.
종래의 열처리 장치는 시료의 부분적인 열처리가 불가능하여 전체를 열처리 함으로써 열처리가 필요치 않은 부분이 후속 열처리 단계에서 전기적, 물리적, 기하학적 변형이 발생하는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 열처리시 시료의 특정 영역의 선택은 물론 주입되는 불순물 중 특성 특성불순물의 선택과, 시료의 증착 박막중 특정 박막만을 선택적으로 열처리 할 수 있도록 열원에서 발산되는 빛을 집속하여 필터를 통과 시킨후 소정의 마스크를 거쳐 시료에 조사 되도록 한 것이다.-
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公开(公告)号：KR1019970028051A
公开(公告)日：1997-06-24
申请号：KR1019950042071
申请日：1995-11-17
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: F21V5/04
Abstract: 본 발명은 파리 눈 렌즈를 이용한 조명계 인터그레이터에 관한 것이다. 본 발명은, 다수의 파리 눈 렌즈로 구성되는 인터그레이터에서 파리 눈 렌즈의 각각을 지나온 부분 광속들의 중심이 조명하고자 하는 영역의 중심과 일치하도록 각 파리 눈 렌즈의 광축을 인터그레이터의 광축에 대해 소정의 각도로 기울어지게 하거나 일정한 각도로 절단 함으로써 구성되며, 종래의 인터그레이터 장치보다 광의 균일도를 향상시키고 광량의 손실을 줄여 효율을 높일 수 있을 뿐만 아니라 조명계 시스템의 크기를 줄여 경량화시킬 수 있는 효과가 있다.
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公开(公告)号：KR1019960024680A
公开(公告)日：1996-07-20
申请号：KR1019940034388
申请日：1994-12-15
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 제작에 사용되는 노광장비에 관한 것으로 특히 원본 마스크상의 패턴을 상면인 웨이퍼위에 전사시켜 미세한 선폭구현을 가능하게 한 광학계에 대한 것이다.
종래의 광학계는 렌즈만으로 구성된 굴절광학계로 색수차 발생 억제를 위한 협대역 광원 사용과, 광학재료의 두께에 따른투과율 저하를 해결해야 하는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 굴절능의 대부분을 차지하는 반사겅과 굴절률이 없는 보정렌즈만을사용하여 광학계를 구성하므로써 광학재료의 두께를 줄여 투과율과 사용광원의 효율을 높여 미세화패턴의 노광을 실현할수 있도록 하였다.
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