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公开(公告)号:CN101952931B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN200980101927.1
申请日:2009-01-08
Applicant: 埃克西可集团公司
CPC classification number: H01J27/08
Abstract: 一种丝极放电离子源(1),包括:电离室(3),其设置有内壁,并且配置为容纳待电离的气体;丝极(13),其放置在所述电离室(3)中;以及电源(19),其用于向丝极供电,其中,丝极(13)放置为彼此基本上平行,并穿过内壁连接至所述电源(19),至少一个第一丝极穿过第一内壁连接至所述电源,至少一个第二丝极穿过与第一内壁相对的第二内壁连接至所述电源。
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公开(公告)号:CN101960554A
公开(公告)日:2011-01-26
申请号:CN200980106354.1
申请日:2009-03-23
Applicant: 三井造船株式会社
Inventor: 辻康之
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/08 , H01J37/3171 , H01J2237/082
Abstract: 本发明的一种离子源(1),包括设置用于引出离子束(B)的开口部(20)的第一壁面(30)、沿磁铁(26、28)的配置方向延伸的第二壁面(32)以及细丝(12)。该细丝(12)从第二壁面(32)沿与磁铁(26、28)的配置方向不同的方向竖直设置,并在其中心部折回以形成不相接触的X状交叉的环状(40)。由此,能够不扩大磁铁间的距离而增大离子束电流,同时能够低成本地制造细丝且提供鲁棒性高的离子源。
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公开(公告)号:CN101952931A
公开(公告)日:2011-01-19
申请号:CN200980101927.1
申请日:2009-01-08
Applicant: 埃克西可集团公司
CPC classification number: H01J27/08
Abstract: 一种丝极放电离子源(1),包括:电离室(3),其设置有内壁,并且配置为容纳待电离的气体;丝极(13),其放置在所述电离室(3)中;以及电源(19),其用于向丝极供电,其中,丝极(13)放置为彼此基本上平行,并穿过内壁连接至所述电源(19),至少一个第一丝极穿过第一内壁连接至所述电源,至少一个第二丝极穿过与第一内壁相对的第二内壁连接至所述电源。
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公开(公告)号:CN101147227A
公开(公告)日:2008-03-19
申请号:CN200680009501.X
申请日:2006-03-22
Applicant: 应用材料有限公司
IPC: H01J37/08
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J2237/082
Abstract: 本发明涉及适合于离子注入机(10)的离子源(14),其包括阴极(20)和反阴极(44)。典型的,离子源保持在真空下并使用弧室(16)中产生的等离子体制造离子。从弧室提取等离子体离子,之后将其注入到半导体晶片(12)中。根据本发明的离子源进一步包括发射电子到弧室中的阴极(40);安置在弧室使得由此阴极发射的电子是入射在其上的电极(44);用于给该电极加偏压的一个或一个以上的电压电位源(76);和电压电位调节器(82),其可操作用于在正向偏压电极从而作为阳极的电压电位源和负向偏压电极从而作为反阴极的电压电位源之间转换。
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公开(公告)号:CN1983504A
公开(公告)日:2007-06-20
申请号:CN200510120697.7
申请日:2005-12-14
Applicant: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 , 鸿海精密工业股份有限公司
Inventor: 陈杰良
CPC classification number: H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/3053 , H01J2237/0455 , H01J2237/061 , H01J2237/0835 , H01J2237/30477 , H01J2237/3151
Abstract: 本发明涉及一种离子源及使用所述离子源的模具抛光装置。所述模具抛光装置包括一离子源,所述离子源用于发射进行抛光的离子束,所述离子源包括一腔体及设置于所述腔体中的一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极,所述阴极靠近所述阴极灯丝设置,所述屏极、加速极及可调屏极依次远离所述阴极设置,所述可调屏极包括一通孔,所述通孔大小及形状可调,从而可利用所述通孔调节射出的离子束截面大小及形状。利用本明的模具抛光装置,可获得中心线平均表面粗糙度处于0.2~1纳米的平滑表面。
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公开(公告)号:CN1922709A
公开(公告)日:2007-02-28
申请号:CN200580005916.5
申请日:2005-03-23
Applicant: 应用材料有限公司
Inventor: P·班克斯
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J27/08 , H01J37/08 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明涉及一种控制可电离的源气体的离子的影响的方法,通过将置换气体的离子引入电弧室,该源气体能够与电弧室的内表面反应,在所述电弧室中,该置换气体离子与内表面的物质比与源气体的离子更易进行化学反应。在内表面含钨的情况下,所述源气体离子一般可以是氧离子,那么置换气体离子一般是氟离子。举例而言,氟离子可以选自氟、四氟化硅或者三氟化氮。
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公开(公告)号:CN1222007C
公开(公告)日:2005-10-05
申请号:CN01808943.7
申请日:2001-05-15
Applicant: 瓦里安半导体设备联合公司
CPC classification number: H01J27/022 , H01J27/08
Abstract: 一非直接加热阴极式离子源,包括一个用于感测从弧光腔室抽出离子电流的抽出电流传感器和一个用于控制丝极电源、偏置电源和/或弧光电源的离子源控制器。离子源控制器可以比较感应抽出电流和参考抽出电流并计算出感应抽出电流和参考抽出电流之间的差值。控制非直接加热阴极式离子源的各个电源以使差值最小,这样就能使抽出电流基本上保持在一个恒定值。离子源控制器用一种控制算法,如一个闭合反馈回路,根据差值来控制各个电源。在第一种算法中,由偏置电源提供的偏置电流IB不断变化,以此来控制抽出电流IB。更进一步根据第一种控制算法,丝极电流IF和弧光电压VA保持恒定值。根据第二种控制算法,丝极电流IF不断变化,以此来控制抽出电流IE。更进一步根据第二种控制算法,偏置电流IB和弧光电压VA保持恒定值。
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公开(公告)号:CN1173608C
公开(公告)日:2004-10-27
申请号:CN97129706.1
申请日:1997-12-31
Applicant: 艾克塞利斯技术公司
IPC: H05H1/34 , H01J37/08 , H01J37/317
CPC classification number: H01J27/08 , H01J2237/08 , H01J2237/31701
Abstract: 离子注入机用的离子源,包括限定气体电离区的导电室壁的气封室,其出口允许离子射出。基板使气封室对着将射出的离子形成离子束的结构配置。阴极一部分伸入气封室的开口中。阴极包括置有灯丝的内部区域的阴极体。阴极体包括内管件、同轴的外管件和端帽。端帽具有带径向延伸凸缘的横截面减小的主体部分。端帽压入内管件。给灯丝供电以加热该端帽,使其发射电子至电离区。该灯丝受阴极体保护,可免受气体电离区中激发等离子体的影响。
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公开(公告)号:CN1451169A
公开(公告)日:2003-10-22
申请号:CN01809075.3
申请日:2001-04-25
Applicant: 瓦里安半导体设备联合公司
Inventor: 约瑟夫·C·奥利桑 , 利奥·克劳斯 , 安东尼·丽奥 , 尼古拉斯·A·维尤托
IPC: H01J27/02
CPC classification number: H01J27/022 , H01J27/08
Abstract: 非直接加热阴极式离子源的阴极被至少一个杆或钉支撑。阴极优选为盘状,支撑杆的直径小于阴极盘的直径以减少热传导和热辐射。在一个实施例中,阴极被单个杆在盘中心或中心附近支撑。为简单和稳定地夹紧和分离,支撑杆被一个弹簧夹夹持。阴极盘和支撑杆可制造成一块。一发射热电子化电子的丝极在靠近阴极处安装在支撑杆周围。
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公开(公告)号:CN1366706A
公开(公告)日:2002-08-28
申请号:CN01800923.9
申请日:2001-03-13
Applicant: 爱发科股份有限公司
Inventor: 沈国华
CPC classification number: H01J41/18 , H01J27/08 , H01J2237/1825
Abstract: 本发明提供一种泵构造简单且重量轻、中心轴附近的磁在径向及轴向上都为零、泵的到达压高的离子溅射泵。本离子溅射泵,其真空容器壁筒状部分的横截面形状作成凹凸形状,在该凹凸横截面形状筒状部分的外侧各凹部中朝着同一个磁极方向地分别设置具有同一形状、同一特性的永久磁铁,在该凹凸横截面形状筒状部分的内侧各凹部与真空容器壁离开地分别设置筒状的阳极,将真空容器壁的筒状部分作为阴极,在真空容器内,使周围上开有排气孔的筒状磁屏蔽部件与上述多个永久磁铁及多个阳极同心状地配置,并且分别轴对称、等间距地排列上述这些多个永久磁铁及多个阳极。
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