公开(公告)号：TWI559099B

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：TW103143717

申请日：2014-12-15

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳 光青 ,  CHEN, GUANGQING ,  王禎祥 ,  WANG, JEN SHIANG ,  柏樹豐 ,  BAI, SHUFENG

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

公开(公告)号：TWI559097B

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：TW103133366

申请日：2011-03-11

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 添 凱特 尼可拉斯 ,  TEN KATE, NICOLAAS ,  歐頓 喬斯特 捷恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  卡拿倫 巴斯丁 安卓亞 威廉 休伯特 ,  KNARREN, BASTIAAN ANDREAS WILHELMUS HUBERTUS ,  夫哥德 羅伯特 真 ,  VOOGD, ROBBERT JAN ,  尼諾 佐凡尼 法蘭西斯坷 ,  NINO, GIOVANNI FRANCISCO ,  瑞米 瑪里努斯 珍 ,  REMIE, MARINUS JAN ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  勞倫 帝寶 賽門 馬修 ,  LAURENT, THIBAULT SIMON MATHIEU ,  庫尼 約翰 葛卓迪斯 寇尼里斯 ,  KUNNEN, JOHAN GERTRUDIS CORNELIS

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70875 ,  G03F7/7085

公开(公告)号：TWI559092B

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：TW101116395

申请日：2012-05-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 巴特勒 漢斯 ,  BUTLER, HANS ,  凡 伊克 珍 ,  VAN EIJK, JAN ,  侯 史文 安東尹 喬漢 ,  HOL, SVEN ANTOIN JOHAN ,  費爾莫默朗 約翰內斯 佩特魯斯 馬丁努斯 伯納德斯 ,  VERMEULEN, JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  黃仰山 ,  HUANG, YANG SHAN

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G03F7/70758

公开(公告)号：TW201640091A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：TW105103330

申请日：2016-02-02

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 帕迪 尼特許 ,  PANDEY, NITESH

IPC: G01N21/47 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01N21/4788 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70941

Abstract: 一光學系統(10)包括用於將一源光束分裂成一測量光束及一參考光束之一配置。該參考光束被反射離開安裝於一延遲線(44)上之一反射元件(42)。一目標(35)散射來自該測量光束之輻射。藉由校準該延遲線(44)來使該經散射輻射與該參考光束在一偵測器(40)上干涉。經偵測干涉圖案經傅立葉變換及過濾以在該經傅立葉變換干涉圖案之一旁頻帶周圍選擇一關注區，以便移除由射中該偵測器之雜散輻射造成之雜訊。

Abstract in simplified Chinese: 一光学系统(10)包括用于将一源光束分裂成一测量光束及一参考光束之一配置。该参考光束被反射离开安装于一延迟线(44)上之一反射组件(42)。一目标(35)散射来自该测量光束之辐射。借由校准该延迟线(44)来使该经散射辐射与该参考光束在一侦测器(40)上干涉。经侦测干涉图案经傅里叶变换及过滤以在该经傅里叶变换干涉图案之一旁频带周围选择一关注区，以便移除由射中该侦测器之杂散辐射造成之噪声。

公开(公告)号：TW201636741A

公开(公告)日：2016-10-16

申请号：TW105106808

申请日：2016-03-04

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 黃仰山 ,  HUANG, YANG SHAN ,  亞克曼司 喬漢那斯 安東尼司 傑瑞德思 ,  AKKERMANS, JOHANNES ANTONIUS GERARDUS ,  畢瑞恩斯 洛德 安東尼斯 凱薩琳娜 瑪利亞 ,  BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA ,  凡 伊克 珍 ,  VAN EIJK, JAN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70358 ,  G03F7/70425

Abstract: 在一掃描曝光期間，一支撐結構沿著一掃描路徑相對於由一照明器調節之一輻射光束可移動，且一基板台沿著一掃描路徑相對於該經圖案化輻射光束可移動。一影像變換光學件配置於該支撐結構與該基板台之間。該影像變換光學件可移動以便控制形成於基板上之影像之特性，使得可在一第一組態與一第二組態之間變換該影像，該第二組態在沿著該掃描路徑之一方向上相對於該第一組態反轉。

Abstract in simplified Chinese: 在一扫描曝光期间，一支撑结构沿着一扫描路径相对于由一照明器调节之一辐射光束可移动，且一基板台沿着一扫描路径相对于该经图案化辐射光束可移动。一影像变换光学件配置于该支撑结构与该基板台之间。该影像变换光学件可移动以便控制形成于基板上之影像之特性，使得可在一第一组态与一第二组态之间变换该影像，该第二组态在沿着该扫描路径之一方向上相对于该第一组态反转。

公开(公告)号：TWI553428B

公开(公告)日：2016-10-11

申请号：TW103105158

申请日：2010-05-11

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 丹 伯夫 艾瑞 傑佛瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 ,  CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH ,  希尼 保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN, PAUL CHRISTIAAN

IPC: G03F7/207 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70641

公开(公告)号：TWI553421B

公开(公告)日：2016-10-11

申请号：TW103116148

申请日：2014-05-06

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 歐普特 羅特 威黑墨斯 派翠克 伊麗莎白 瑪麗亞 ,  OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA ,  布莫 雅卓安斯 李奧納多 歌楚德斯 ,  BOMMER, ADRIANUS LEONARDUS GERTRUDUS ,  德 瓊 羅伯特 ,  DE JONG, ROBERT ,  雅佛資 法蘭克 ,  EVERTS, FRANK ,  高德福萊德 荷曼 菲力普 ,  GODFRIED, HERMAN PHILIP ,  史東克 羅南德 派特 ,  STOLK, ROLAND PIETER ,  凡 德 維恩 保羅 ,  VAN DER VEEN, PAUL

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70516 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/225

公开(公告)号：TWI551953B

公开(公告)日：2016-10-01

申请号：TW103104148

申请日：2014-02-07

Applicant: ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N.V. ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 狄 波多 珊蒂雅坷E ,  DEL PUERTO, SANTIAGO E. ,  里普森 馬修 ,  LIPSON, MATTHEW ,  韓德森 肯尼斯 ,  HENDERSON, KENNETH ,  拉法瑞 雷孟德 威黑墨斯 路易斯 ,  LAFARRE, RAYMOND WILHELMUS LOUIS ,  馬克亞 路易斯 約翰 ,  MARKOYA, LOUIS JOHN ,  優特迪克 塔莫 ,  UITTERDIJK, TAMMO ,  費爾莫默朗 約翰內斯 佩特魯斯 馬丁努斯 伯納德斯 ,  VERMEULEN, JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  德 葛路特 安東尼司 法蘭西斯科司 喬漢尼司 ,  DE GROOT, ANTONIUS FRANCISCUS JOHANNES ,  凡 德 威克 郎諾 ,  VAN DER WILK, RONALD

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70875 ,  G03F7/70708 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6875

公开(公告)号：TW201633190A

公开(公告)日：2016-09-16

申请号：TW104130190

申请日：2015-09-11

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳剛 ,  CHEN, GANG ,  迪 沃曲 喬瑟夫 韋納 ,  DE VOCHT, JOSEPH WERNER ,  杜岳林 ,  DU, YUELIN ,  李宛俞 ,  LI, WANYU ,  盧 彥文 ,  LU, YEN-WEN

IPC: G06F17/50 ,  G01N21/956

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70666

Abstract: 本文揭示一種用於判定用於一器件製造程序之一設計佈局之一部分上的一所關注區域之一重疊處理窗(OPW)之電腦實施方法，該器件製造程序用於使該部分成像至一基板上，該方法包含：獲得該所關注區域中之複數個特徵；獲得該器件製造程序之一或多個處理參數之複數個值；在藉由該器件製造程序使該複數個特徵成像時根據該複數個值中之每一者來判定缺陷之存在、缺陷之該存在的機率或此兩者；及自缺陷之該存在、缺陷之該存在之該機率或此兩者判定該所關注區域之該OPW。

Abstract in simplified Chinese: 本文揭示一种用于判定用于一器件制造进程之一设计布局之一部分上的一所关注区域之一重叠处理窗(OPW)之电脑实施方法，该器件制造进程用于使该部分成像至一基板上，该方法包含：获得该所关注区域中之复数个特征；获得该器件制造进程之一或多个处理参数之复数个值；在借由该器件制造进程使该复数个特征成像时根据该复数个值中之每一者来判定缺陷之存在、缺陷之该存在的概率或此两者；及自缺陷之该存在、缺陷之该存在之该概率或此两者判定该所关注区域之该OPW。

公开(公告)号：TW201633006A

公开(公告)日：2016-09-16

申请号：TW104142332

申请日：2015-12-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 陳 剛 ,  CHEN, GANG ,  王德勝 ,  WANG, LESTER

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/70558

Abstract: 本文中揭示一種用於改良使用一微影設備將一設計佈局之一部分成像至一基板上之一微影製程的電腦實施方法，該方法包含：獲得該部分中之一或多個特徵之一特性相對於劑量的一關係；獲得該特性之一值；及基於該特性之該值及該關係獲得一目標劑量。

Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种用于改良使用一微影设备将一设计布局之一部分成像至一基板上之一微影制程的电脑实施方法，该方法包含：获得该部分中之一或多个特征之一特性相对于剂量的一关系；获得该特性之一值；及基于该特性之该值及该关系获得一目标剂量。