公开(公告)号：EP0525286A1

公开(公告)日：1993-02-03

申请号：EP92103251.2

申请日：1992-02-26

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： Malin, Cosmas, Dipl. El. Ing./ETH ,  Steigmeier, Edgar F., Dr. Ing./ETH ,  Nesensohn, Thomas ,  Sawatzki, Harry L. ,  Auderset, Heinrich ,  Schmid, Gert

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/47

CPC classification number: G01M11/0278 ,  G01N21/93 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/9503 ,  G01N2021/8822 ,  G01N2021/8867 ,  G01N2021/8907 ,  G01N2201/1045

Abstract: Mit dieser Einrichtung lassen sich Oberflächen zerstörungsfrei und ganzflächig auf Defekte und Kontaminationen untersuchen, wobei sowohl mikroskopisch kleine punkt- oder linienförmige Defekte als auch feinste makroskopische Inhomogenitäten erfasst werden. Zu diesem Zweck ist im Strahlengang zwischen Lichtquelle (2) und Objektiv (9) ein in verschiedene Stellungen steuerbares Linsensystem (5) angeordnet, das verschiedene Zwischenbilder (31) erzeugt. Bei einer ersten Abtastung der gesamten Oberfläche (10) mit relativ grossem Vorschub, wird ein erstes, zigarrenförmiges Zwischenbild, und bei einer zweiten, ausschnittsweisen Abtastung mit kleinem Vorschub ein zweites, punktförmiges Zwischenbild angewendet.
Eine im Strahlengang zwischen Linsensystem (5) und Objektiv (9) angeordnete Dunkelfeldstop-Baugruppe (18) mit einer einstellbaren Dunkelfeldumlenkung (8), richtet den Beleuchtungsstrahl (1) nach der Umlenkung exakt zentrisch im rechten Winkel durch das Objektiv (9) auf die Oberfläche (10). Das von der Oberfläche (10) abgestrahlte, im Objektiv (9) gesammelte Licht ist auf einen Photodetektor (19) gerichtet. Eine Auswerteelektronik (21) zerlegt die verstärkten Ausgangssignale des Photodetektors (19) in Messwerte, die von punktförmigen, linienförmigen und flächenförmigen Defekten herrühren. Die Auswerteelektronik (21) ist über eine Recheneinheit (22) mit Peripheriegeräten (23, 24, 25) verbunden, mittels welchen die Gesamtheit aller Messwerte einer Messung dargestellt werden kann.

Abstract translation: 利用这种布置，表面可以是非破坏性的，检查缺陷和污染的整个区域，并且两者都检测到微观的点或线的缺陷以及最好的宏观的不均匀性。 为了这个目的，可控制到各种位置的透镜系统（5），不同的中间图像（31）被布置在所述光源（2）和（9），产生了透镜之间的光路。 在整个表面（10）的具有相对大的进料速率，第一，雪茄形中间图像，并施加到第二扫描与第二进料，点状的中间图像的小细节的第一扫描。 甲在透镜系统（5）和透镜之间的光路（9），其设置具有可调暗场偏转（8）的照明光束（1）的偏转后以直角穿过透镜（9）到所述引导恰好集中暗场止动组件（18） 表面（10）。 从表面（10）辐射，（9）中收集的光被引导到光检测器（19）的透镜。 发射机（21）把在从点状的，直链的和平面的缺陷产生的测量值光检测器（19）的放大的输出信号。 发射机（21）通过计算单元（22）与外围设备（23，24，25），借助该测量的所有测量值的总和可表示连接。

公开(公告)号：EP0447848A3

公开(公告)日：1992-07-01

申请号：EP91102967.6

申请日：1991-02-27

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： Malin, Cosmas ,  Hoyle, Philip

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/47

CPC classification number: G01N21/93 ,  G01N21/4785

Abstract: Die dargestellte Vorrichtung beinhaltet ein Verfahren zum Kalibrieren von Licht-Scannern und enthält eine Anordnung zum Erzeugen definierter Streulichtamplituden, speziell für die Messung von Partikeln und/oder die Oberflächeninspektion von Substraten, insbesondere von Wafers.
Dabei gelangt das von einem Laser (20) ausgestrahlte und focusierte Licht auf ein Referenzmedium (27) das ausserhalb der Fokusebene (10) angeordnet ist. Durch Vergleich des Streulichtanteils zwischen zu inspizierenden Substrat und Referenzmedium mit Hilfe eines Photodetektors (7) wird die Oberfläche des Wafers analysiert.

公开(公告)号：EP0152405A1

公开(公告)日：1985-08-28

申请号：EP84900829.0

申请日：1984-01-30

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： GALBRAITH, Lee, K. ,  PECEN, Jiri

IPC: G01B11 ,  G01M11 ,  G01N21 ,  H01L21

CPC classification number: G01N21/93 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/94 ,  G01N21/9501

Abstract: Dispositif d'essai pour calibrer un scanner optique où des modèles microscopiques (21) d'éléments de dispersion de lumière (13, 15) simulent la dispersion de lumière à partir de particules ou de criques de différentes tailles. On obtient la simulation de différence de tailles particulaires grâce à des groupes (25, 29, 33, 37) ou des réseaux de ces éléments de dispersion de différentes densités superficielles. Les modèles de groupe ou réseaux similaires sont disposés sur une surface avec des espaces (17) lorsque l'on peut s'attendre à un assortiment aléatoire de particules étrangères. De cette manière, les particules étrangères peuvent être comparées directement à un modèle d'essai. La surface d'essai peut être une tranche semi-conductrice (41) dotée d'un mince revêtement inerte avec des ouvertures (45) formant les éléments de dispersion de la lumière. Ces ouvertures peuvent être effectuées selon des techniques photolithographiques, par exemple par masquage et gravure, si bien que les divers modèles sur une surface peuvent être tous créés simultanément par le même procédé.

Abstract translation: 用于校准光学扫描仪的测试装置，其中光散射元件的微观图案模拟来自不同尺寸的颗粒或缺陷的光的散射。 通过具有不同面积密度的这些光散射元件的簇或阵列来实现不同粒径的模拟。 这种簇或阵列的图案设置在具有中间空间的表面上，其中可以预期随机分类的异物。 以这种方式，外来颗粒可以直接与测试图案进行比较。 测试表面可以是具有薄的惰性涂层的半导体晶片，其中开口形成光散射元件。 开口可以通过光刻技术制成，即掩模和蚀刻，使得表面上的各种图案都可以通过相同的工艺同时产生。