公开(公告)号：WO1985000885A1

公开(公告)日：1985-02-28

申请号：PCT/US1984000145

申请日：1984-01-30

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： TENCOR INSTRUMENTS ,  GALBRAITH, Lee, K. ,  PECEN, Jiri

IPC: G01N21/00

CPC classification number: G01N21/93 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/94 ,  G01N21/9501

Abstract: A test device for calibrating an optical scanner wherein microscopic patterns (21) of light scattering elements (13, 15) simulate the scattering of light from particles or flaws of different sizes. Simulation of different particles sizes is achieved by means of clusters (25, 29, 33, 37) or arrays of these light scattering elements having different areawise densities. Patterns of such clusters or arrays are disposed on a surface with intervening spaces (17) where a random assortment of foreign particles may be expected. In this manner, the foreign particles may be directly compared to a test pattern. The test surface may be a semiconductor wafer (41) having a thin, inert coating with openings (45) therein forming the light scattering elements. The openings may be made by photolithographic techniques, i.e., masking and etching, so that various patterns on a surface may be all created simultaneously by the same process.

Abstract translation: 用于校准光学扫描仪的测试装置，其中光散射元件的微观图案模拟来自不同尺寸的颗粒或缺陷的光的散射。 通过具有不同面积密度的这些光散射元件的簇或阵列来实现不同粒径的模拟。 这种簇或阵列的图案设置在具有中间空间的表面上，其中可以预期随机分类的异物。 以这种方式，外来颗粒可以直接与测试图案进行比较。 测试表面可以是具有薄的惰性涂层的半导体晶片，其中开口形成光散射元件。 开口可以通过光刻技术制成，即掩模和蚀刻，使得表面上的各种图案可以全部通过相同的工艺同时制作。

公开(公告)号：WO1992001923A1

公开(公告)日：1992-02-06

申请号：PCT/US1991001445

申请日：1991-03-01

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： TENCOR INSTRUMENTS ,  PECEN, Jiri ,  DRINKWATER, Jim

IPC: G01N21/47

CPC classification number: G01N21/94 ,  G01N2021/4742 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8864 ,  G01N2201/1085

Abstract: A particle imager and method for imaging particles on surfaces of substrates (19). A reflective suface (17) is scanned by a collimated light beam (57) and particles on the surface are detected by the scattered light caused by the particles. During a scan path (81) the intensity of the scattered light is measured forming intensity traces (91) and location addresses for the detected particles. Data from each scan path is stored in memory. A three-dimensional surface map (95) is formed from the data stored in memory. The intensity traces for a particle (71) when combined together in the surface map form an intensity profile (97, 99, 101) or signature of the particle. These signatures may then be compared to known particle signatures to determine characteristics of the detected particle.

Abstract translation: 一种用于在基板（19）的表面上成像颗粒的颗粒成像器和方法。 通过准直光束（57）扫描反射面（17），并且通过由颗粒引起的散射光来检测表面上的颗粒。 在扫描路径（81）期间，测量散射光的强度，形成强度迹线（91）和检测到的粒子的位置地址。 来自每个扫描路径的数据被存储在存储器中。 从存储在存储器中的数据形成三维表面图（95）。 当在表面图中组合在一起时，颗粒（71）的强度迹线形成强度分布（97,99,101）或颗粒的特征。 然后将这些签名与已知的粒子特征进行比较，以确定检测到的粒子的特征。

公开(公告)号：EP0152405A1

公开(公告)日：1985-08-28

申请号：EP84900829.0

申请日：1984-01-30

Applicant: TENCOR INSTRUMENTS

Inventor： GALBRAITH, Lee, K. ,  PECEN, Jiri

IPC: G01B11 ,  G01M11 ,  G01N21 ,  H01L21

CPC classification number: G01N21/93 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/94 ,  G01N21/9501

Abstract: Dispositif d'essai pour calibrer un scanner optique où des modèles microscopiques (21) d'éléments de dispersion de lumière (13, 15) simulent la dispersion de lumière à partir de particules ou de criques de différentes tailles. On obtient la simulation de différence de tailles particulaires grâce à des groupes (25, 29, 33, 37) ou des réseaux de ces éléments de dispersion de différentes densités superficielles. Les modèles de groupe ou réseaux similaires sont disposés sur une surface avec des espaces (17) lorsque l'on peut s'attendre à un assortiment aléatoire de particules étrangères. De cette manière, les particules étrangères peuvent être comparées directement à un modèle d'essai. La surface d'essai peut être une tranche semi-conductrice (41) dotée d'un mince revêtement inerte avec des ouvertures (45) formant les éléments de dispersion de la lumière. Ces ouvertures peuvent être effectuées selon des techniques photolithographiques, par exemple par masquage et gravure, si bien que les divers modèles sur une surface peuvent être tous créés simultanément par le même procédé.

Abstract translation: 用于校准光学扫描仪的测试装置，其中光散射元件的微观图案模拟来自不同尺寸的颗粒或缺陷的光的散射。 通过具有不同面积密度的这些光散射元件的簇或阵列来实现不同粒径的模拟。 这种簇或阵列的图案设置在具有中间空间的表面上，其中可以预期随机分类的异物。 以这种方式，外来颗粒可以直接与测试图案进行比较。 测试表面可以是具有薄的惰性涂层的半导体晶片，其中开口形成光散射元件。 开口可以通过光刻技术制成，即掩模和蚀刻，使得表面上的各种图案都可以通过相同的工艺同时产生。