公开(公告)号：KR100652400B1

公开(公告)日：2006-12-01

申请号：KR1020050011012

申请日：2005-02-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허성민 ,  김희범 ,  최성운 ,  박진홍

IPC: G03F1/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/30

Abstract: 본 발명에 따르면, 투광 기판 상에 형성된 차광 영역, 투광 기판에 설정된 0°위상 변이를 위한 제1위상 변이 영역이며 투광되는 광을 TE 모드 편광시키는 제1편광 영역인 제1투광 영역, 및 제1투광 영역에 접해 경계를 이루되 제1위상 변이 영역과 180°광 위상차를 가지는 제2위상 변이 영역이며 경계에서의 위상 충돌을 방지하기 위해서 투광되는 광을 TM 모드 편광시키는 제2편광 영역인 제2투광 영역을 포함하는 위상 변이 마스크(PSM)를 제시한다.
PSM, 위상 충돌, 이중 노광, 트림 마스크, 편광

公开(公告)号：KR1020060089550A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：KR1020050011012

申请日：2005-02-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허성민 ,  김희범 ,  최성운 ,  박진홍

IPC: G03F1/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/30 ,  G03F1/14 ,  G03F1/38

Abstract: 본 발명에 따르면, 투광 기판 상에 형성된 차광 영역, 투광 기판에 설정된 0°위상 변이를 위한 제1위상 변이 영역이며 투광되는 광을 TE 모드 편광시키는 제1편광 영역인 제1투광 영역, 및 제1투광 영역에 접해 경계를 이루되 제1위상 변이 영역과 180° 광 위상차를 가지는 제2위상 변이 영역이며 경계에서의 위상 충돌을 방지하기 위해서 투광되는 광을 TM 모드 편광시키는 제2편광 영역인 제2투광 영역을 포함하는 위상 변이 마스크(PSM)를 제시한다.
PSM, 위상 충돌, 이중 노광, 트림 마스크, 편광

公开(公告)号：KR101806923B1

公开(公告)日：2017-12-11

申请号：KR1020110067639

申请日：2011-07-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고영재 ,  김민석 ,  박진홍

IPC: H04R1/08 ,  H04B1/38 ,  H04M1/02

CPC classification number: H04M1/0274 ,  H04M1/03 ,  H04R1/083 ,  H04R2410/05 ,  H04R2499/11

Abstract: 본발명은휴대단말기세컨드마이크장치에관한것으로, 상세하게는, 세컨드마이크실장에따른여러가지제약요소를방지하는휴대단말기세컨드마이크장치에관한것이다. 본발명에따르면, 이어폰플러그가삽입되는삽입공간을갖는이어잭커넥터; 삽입공간에일단이연결된마이크홀; 및마이크홀의타단에연결된세컨드마이크를포함하는것을특징으로하기때문에, 휴대단말기의외관저해및 주변잡음제거성능저하를방지할수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种便携式终端的第二麦克风，以防止根据约束的数目与本发明涉及一种便携式终端的第二麦克风单元中，具体地，第二麦克风安装。 根据本发明，具有插入耳机插头的插入空间的耳机插座连接器; 麦克风孔，其一端连接到插入空间; 并且，第二麦克风与麦克风孔的另一端连接，因此能够防止便携式终端的外观恶化，并且能够消除环境噪音的消除性能。

公开(公告)号：KR101778525B1

公开(公告)日：2017-09-18

申请号：KR1020110031146

申请日：2011-04-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍 ,  고영재 ,  김민석

IPC: H04M1/60 ,  H04B15/00 ,  H04B1/40 ,  H04B15/04

CPC classification number: H04B15/00 ,  H04M1/6058

Abstract: 본발명은휴대단말기의노이즈제거장치및 방법에관한것으로상세하게는바이어스(MIC_Bias) 전원에의해발생되는전원노이즈와 TDMA 통신방식을이용함에따라나타나는 TDMA 노이즈를제거할수 있도록한 휴대단말기의노이즈제거장치및 방법에관한것이다. 본발명의실시예에따른노이즈제거장치는마이크단자를구비하고외부장치와접속하는인터페이스부; 상기마이크단자로부터입력되는전압을디지털변환하는 AD 변환기; 상기마이크단자로부터입력되는오디오신호를처리하는오디오처리부; 상기마이크단자와상기 AD 변환기의연결을온오프하는스위치; 및상기디지털변환된전압을기저장된참조테이블과비교하여상기인터페이스부에접속된외부장치의종류를인식한후, 노이즈가상기마이크단자와상기 AD 변환기를연결하는배선을통해상기오디오신호에혼입되는것을방지하도록상기스위치를오프시키는제어부를포함한다.

Abstract translation: 在详细说明本发明涉及一种降噪装置和便携式终端的方法是通过使用作为移动终端的降噪电源噪声和TDMA通信系统中所产生的偏压（向MIC_Bias）功率要除去的TDMA噪声可以根据设备出现 和方法。 根据本发明实施例的用于去除噪声的设备包括：接口单元，其具有麦克风端子并连接到外部设备; 一种AD转换器，用于数字转换来自麦克风端子的电压输入; 音频处理单元，用于处理从麦克风端子输入的音频信号; 开关，用于打开和关闭麦克风端子和AD转换器之间的连接; 然后相比于先前存储的与一个电压，其中噪声通过连接所述麦克风端子和AD转换器的布线混合音频信号的数字转换的参考表它识别连接到接口的外部设备的类型 并关闭开关以防止开关打开。

公开(公告)号：KR1020160059860A

公开(公告)日：2016-05-27

申请号：KR1020140161941

申请日：2014-11-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허진석 ,  박진홍

IPC: H05G2/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: H05G2/008 ,  B05B12/12 ,  G03F7/70033 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  H05G2/005

Abstract: 극자외선광 생성장치, 시스템및 극자외선광 생성장치의사용방법이제공된다. 상기극자외선광 생성장치는, 컬렉터미러부(collector mirror unit), 상기컬렉터미러부로공정가스를제공하는가스공급부, 상기컬렉터미러부의일 영역에배치되어상기컬렉터미러부의일면으로상기공정가스를제공하는가스공급노즐, 및상기가스공급노즐의분사구의형상을조절하는제어부를포함하되, 상기분사구의형상은상기제어부의제어동작에따라변한다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种极紫外光发生装置，其包括可以基于分析锡污染图案的结果向冷凝器供应流动的工艺气体的可变喷嘴，而不用不加区分地加工出现的锡污染图案 根据极紫外光发生装置中的冷凝器的装置的设置状态不同。 本发明提供了极紫外光发生装置，极紫外光发生系统以及极紫外光发生装置的使用方法。 所述极紫外光发生装置包括：集光镜单元; 气体供给单元，其向所述收集镜单元供给处理气体; 气体供给喷嘴，其设置在集光镜单元的一个区域中，以将处理气体供给到集光镜单元的一个表面; 以及调节气体供给喷嘴的喷孔形状的控制单元。 喷孔的形状根据控制单元的控制操作而变化。

公开(公告)号：KR1020140051652A

公开(公告)日：2014-05-02

申请号：KR1020120117948

申请日：2012-10-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박진홍 ,  여정호 ,  박주온 ,  박창민

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  H01L21/0275 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70858

Abstract: Provided are a lithography device, a method thereof, and a stage system. The lithography device comprises a reticle stage to which a reticle is fixed; at least one nozzle which is formed on at least one surface of the reticle stage and forms an air curtain by forcing protective gas to flow along the surface of the reticle; and a gas supply unit which supplies the protective gas to the nozzle.

Abstract translation: 提供了一种光刻设备，其方法和平台系统。 所述光刻设备包括光罩平台，所述掩模版台固定在所述掩模台上; 至少一个喷嘴，其形成在所述标线片台的至少一个表面上，并通过迫使保护气体沿所述掩模版的表面流动而形成空气幕; 以及将保护气体供给到喷嘴的气体供给单元。

公开(公告)号：KR1020100069503A

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：KR1020080128196

申请日：2008-12-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 허진석 ,  박진홍 ,  이대엽 ,  여정호

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F1/82 ,  H01L22/12

Abstract: PURPOSE: A reticle error detecting method is provided to directly detect a reticle error in a wafer level using only a 0 pear light among the diffraction light of a laser light. CONSTITUTION: A reticle(9) is installed on an exposure. A light is irradiated on the reticle using a light source(1) of the exposure. An error of the reticle is detected with only a zeroth diffraction light among a diffraction light passing through the reticle. The zeroth diffraction light is obtained by selecting a lighting system(5) on a pattern of the reticle. The reticle error is detected by measuring an image or the thickness variance of a photoresist film(13).

Abstract translation: 目的：提供一种标线错误检测方法，用于在激光的衍射光中仅使用0个梨光直接检测晶片级的标线误差。 规定：掩模版（9）安装在曝光中。 使用曝光的光源（1）将光照射在掩模版上。 在通过掩模版的衍射光中仅用零级衍射光检测掩模版的误差。 通过在掩模版的图案上选择照明系统（5）来获得零级衍射光。 通过测量光致抗蚀剂膜（13）的图像或厚度变化来检测掩模版错误。

公开(公告)号：KR1020070122089A

公开(公告)日：2007-12-28

申请号：KR1020060057126

申请日：2006-06-23

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 정석윤 ,  김일산 ,  박진홍 ,  한탁돈

IPC: G06F13/14 ,  G06F13/366

CPC classification number: G06F13/364

Abstract: A device and a method for arbitrating a bus are provided to assign a bus grant signal to all masters and simultaneously transfer the predetermined number of operation command signals having a predetermined approximation among the operation command signals received from the masters into a slave in response to the bus grant signal when the masters want to use the bus at the same time. A bus access permitter(212) outputs a plurality of bus grant signals for permitting bus access to a plurality of masters requesting the bus access at the same time. A simultaneous process grant signal selector(218) is received from the masters in response to the bus grant signal and selects the predetermined number of operation command signals having the predetermined approximation among the operation command signals for commanding the operation of the slave. An operation commander(220) transfers the selected operation command signal to the slave through the bus at the same time. The predetermined number is selected by dividing a data width of the bus into a basic unit of the data width to be inputted/output from the salve.

Abstract translation: 提供一种用于仲裁总线的装置和方法，用于向所有主机分配总线授权信号，并且响应于所述主机，将从母模接收到的操作命令信号中的预定数量的操作命令信号同时传送到从机 总线授权信号当主人想要同时使用公共汽车时。 总线访问许可寄存器（212）输出多个总线许可信号，用于允许总线访问同时要求总线访问的多个主机。 响应于总线许可信号从主机接收同时的处理许可信号选择器（218），并且在操作命令信号中选择预定数量的具有预定近似值的操作命令信号，以指示从机的操作。 操作指令器（220）通过总线将所选择的操作命令信号同时传送到从机。 通过将总线的数据宽度除以要从硬币输入/输出的数据宽度的基本单位来选择预定数量。

公开(公告)号：KR1020050051030A

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：KR1020030084715

申请日：2003-11-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김순호 ,  최성운 ,  문성용 ,  박진홍

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1335 ,  G02B5/1857 ,  G02B27/0944

Abstract: 다양한 광학 시스템에 적합화된 광학 요소 및 이의 제조 방법이 제공된다. 본 발명에 따른 광학 요소는 전면과 후면을 구비하며 조명에 대해 투명한 기판 및 기판의 매질 내부에 형성되어 기판의 후면에 입사되어 기판을 투과하는 조명의 강도, 형상 및/또는 성분을 조절하는 회절 어레이를 포함한다. 본 발명에 따른 광학 요소는 조명의 강도 또는 조명의 형상을 능동적으로 조절할 수 있다.

公开(公告)号：KR100295049B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980029738

申请日：1998-07-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김용훈 ,  박진홍

IPC: H01L21/027

Abstract: 위상 반전 마스크 제조방법이 개시되어 있다. 기판 상에 위상 반전영역과 위상 무 반전영역을 설정하는 차광막 패턴이 동시에 형성된다. 상기 위상 반전영역으로 설정된 기판에 홈을 형성한다. 상기 홈에 접해있으며 상기 기판의 위상 무 반전 영역으로 설정된 영역 상에 형성된 차광막 패턴을 제거한다. 상기 기판과 상기 차광막 패턴 사이에 위상 반전층이 형성되는 실시예가 있다. 이때, 상기 차광막 패턴에 의해 설정되는 영역은 위상반전층이 형성되지 않을 때와 반대가 된다. 즉 위상 반전영역은 위상 무 반전영역으로, 위상 무 반전영역은 위상 반전영역으로 된다.
이와 같이, 차광막 패턴을 형성할 때, 위상 반전 및 무 반전영역을 동시에 설정함으로써, 위상 반전 및 무 반전영역이 서로 다른 단계에서 형성됨에 따른 위상 반전 영역 또는 위상 무 반전영역의 위치가 쉬프트되는 것을 방지할 수 있다.