키폰시스템에서 보류음 송출 서비스장치 및 방법
    81.
    发明授权
    키폰시스템에서 보류음 송출 서비스장치 및 방법 失效
    키폰系统在템서서보기음음출서비스장치및방법

    公开(公告)号:KR100370772B1

    公开(公告)日:2003-02-05

    申请号:KR1019990041553

    申请日:1999-09-28

    Inventor: 이정우 이태규

    Abstract: PURPOSE: A servicing apparatus and a method for transmitting music on hold in a keyphone system is provided to perform an MOH(music on hold) transmitting service without comprising additional hardware such as an MOH transmitter in a keyphone system as well as to identify a caller and a general roof start trunk by using a trunk card. CONSTITUTION: An apparatus(100) connects one central office port, which is not used among central office ports comprised in a central office circuit(112) of a prior keyphone system, with an external MOH music source(108) for the MOH transmitting service, and in case that a corresponding extension required to receive is busy, the received signal is connected to the previously established central office port connected with the external MOH music source, and then an MOH for the MOH transmitting service from the external MOH music source is provided.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于在按键电话系统中保持音乐保持的服务装置和方法,用于执行MOH(保持音乐)发送服务,而不包括诸如键控电话系统中的MOH发射机之类的附加硬件,以及识别呼叫者 和通过使用中继卡的普通屋顶启动干线。 本发明的一个目的是提供一种装置(100),它将一个在先有的按键电话系统的中心局电路(112)中包括的中心局端口中不使用的一个中心局端口与用于MOH发送服务的外部MOH音乐源(108) ,并且在需要接收的对应分机忙的情况下,将接收到的信号连接到与外部MOH音乐源连接的先前建立的中心局端口,然后从外部MOH音乐源用于MOH发送服务的MOH是 提供。

    반도체장치 제조시스템 및 그 운영방법
    82.
    发明公开
    반도체장치 제조시스템 및 그 운영방법 有权
    制造半导体器件的系统及其工作方法

    公开(公告)号:KR1020020037661A

    公开(公告)日:2002-05-22

    申请号:KR1020010000323

    申请日:2001-01-04

    Abstract: PURPOSE: A system for fabricating a semiconductor device is provided to shorten an interval of time from a process to a measurement test by testing whether the process is normal in unloading a wafer from process equipment, and to reduce defects by previously stopping driving the process equipment. CONSTITUTION: A wafer transfer unit(36b) selectively loads or unloads the wafer between a cassette and a process chamber(32b). A measuring test apparatus(44b) tests whether a process is normally performed regarding the wafer during an unloading process. A control unit controls driving respective constitution elements through a measurement signal applied from the measuring test apparatus.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于制造半导体器件的系统,以通过测试从处理设备卸载晶片的过程是否正常以及通过先前停止驱动处理设备来减少缺陷来缩短从过程到测量测试的时间间隔 。 构成:晶片传送单元(36b)选择性地在盒和处理室(32b)之间加载或卸载晶片。 测量测试装置(44b)在卸载过程中测试关于晶片的处理是否正常进行。 控制单元通过从测量测试装置施加的测量信号控制驱动各个构成元件。

    반도체 장치의 미세패턴 형성방법
    83.
    发明公开
    반도체 장치의 미세패턴 형성방법 失效
    形成半导体器件微图案的方法

    公开(公告)号:KR1020020037096A

    公开(公告)日:2002-05-18

    申请号:KR1020000067079

    申请日:2000-11-13

    CPC classification number: H01L21/32139 Y10S438/975

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a micro-pattern of a semiconductor device is provided to prevent a rounding phenomenon generated from a line end of a pattern. CONSTITUTION: An etching object layer(102) is formed on an upper portion of a semiconductor substrate(100) in order to form a main pattern. A hard mask layer is formed on an upper portion of the etching object layer(102). The first hard mask layer pattern(104a) is formed by patterning the hard mask layer. An outline of the first direction of the main pattern is defined by forming the first hard mask layer. The outlines of the first direction and the second direction of the main pattern are defined and the second hard mask layer pattern is formed by patterning the first hard mask layer pattern(104a). The main pattern is formed by etching the etching object layer(102).

    Abstract translation: 目的:提供一种用于形成半导体器件的微图案的方法,以防止从图案的线端产生的倒圆现象。 构成:为了形成主图案,在半导体衬底(100)的上部形成蚀刻对象层(102)。 在蚀刻对象层(102)的上部形成有硬掩模层。 第一硬掩模层图案(104a)通过图案化硬掩模层而形成。 通过形成第一硬掩模层来限定主图案的第一方向的轮廓。 限定主图案的第一方向和第二方向的轮廓,并且通过图案化第一硬掩模层图案(104a)形成第二硬掩模层图案。 通过蚀刻蚀刻对象层(102)形成主图案。

    반도체 메모리 소자 개구부 제조용 포토마스크, 이를 사용한 사진 식각 방법 및 이 방법에 의해 제조된 개구부를 포함하는 반도체 메모리 소자
    84.
    发明公开
    반도체 메모리 소자 개구부 제조용 포토마스크, 이를 사용한 사진 식각 방법 및 이 방법에 의해 제조된 개구부를 포함하는 반도체 메모리 소자 有权
    用于形成具有打开的小型图像的半导体器件的光掩模,用于形成具有减小尺寸的开口的光刻蚀方法以及由其形成的半导体器件

    公开(公告)号:KR1020010081502A

    公开(公告)日:2001-08-29

    申请号:KR1020000007121

    申请日:2000-02-15

    Inventor: 이정우 김학

    CPC classification number: G03F7/40 G03F1/50

    Abstract: PURPOSE: A photo-mask, a photo-etching method for forming the opening having a reduced size, and a semiconductor device are to form an opening image to be applied to a photoresist flowing process, thereby forming a fine opening having a small pitch. CONSTITUTION: A plurality of opening images, which are aligned in a desire pitch, are formed in one direction on a mask for fabricating a semiconductor memory device. The opening image is transferred to a photoresist layer. A space between center portions of the opening images is larger than the pitch. The plurality of opening images are arranged in the form of zigzag. The opening image has a larger length in other direction orthogonal to the direction. The semiconductor memory device is a non-volatile memory device. The opening image is a bit line contact hole image(117). Alternatively, The semiconductor memory device is a DRAM(Dynamic Random Access Memory) device, and the opening image is a storage electrode contact hole image.

    Abstract translation: 目的:形成具有减小尺寸的开口的光掩模,光蚀刻方法和半导体器件将形成用于光致抗蚀剂流动工艺的开口图像,从而形成具有小间距的精细开口。 构成:在用于制造半导体存储器件的掩模上的一个方向上形成以期望间距对准的多个开口图像。 将开口图像转印到光致抗蚀剂层。 开口图像的中心部分之间的间隔大于间距。 多个打开图像以Z字形的形式排列。 开口图像在与方向正交的另一方向上具有较大的长度。 半导体存储器件是非易失性存储器件。 打开图像是位线接触孔图像(117)。 或者,半导体存储器件是DRAM(动态随机存取存储器),开放图像是存储电极接触孔图像。

    키폰 전화기를 이용한 메시지 표시방법
    85.
    发明公开
    키폰 전화기를 이용한 메시지 표시방법 无效
    使用键盘显示消息的方法

    公开(公告)号:KR1020010036638A

    公开(公告)日:2001-05-07

    申请号:KR1019990043743

    申请日:1999-10-11

    Inventor: 이정우

    Abstract: PURPOSE: A method for indicating messages using a key-phone is provided to give a product suitable for the user request by indicating various promises, family birthdays, other memorial days, etc., to inform a user of the main schedule. CONSTITUTION: A function of input key is identified on a key-phone(S100). If the input key is a key having a function for informing user of a certain information(S200), the user information about a user for receiving the certain information and the above certain information are recorded(S300). The recorded user information and certain information are stored in a storage according as a control signal from a controller(S400). If the set time is reached(S500), the above certain information is transmitted to the user in particular format by using the above user information(S600).

    Abstract translation: 目的:提供使用钥匙电话指示消息的方法,通过指示各种承诺,家庭生日,其他纪念日等来给予适合用户请求的产品,以通知用户主要时间表。 构成:在键盘上识别输入键的功能(S100)。 如果输入键是具有向用户通知特定信息的功能的键(S200),则记录关于用于接收特定信息的用户和上述某些信息的用户信息(S300)。 记录的用户信息和某些信息根据来自控制器的控制信号存储在存储器中(S400)。 如果达到设定时间(S500),则通过使用上述用户信息将特定信息以特定格式发送给用户(S600)。

    예열수단을 갖는 반도체장치 제조용 가스공급장치
    86.
    发明公开
    예열수단을 갖는 반도체장치 제조용 가스공급장치 失效
    用于生产具有预热器的半导体的气体供应商

    公开(公告)号:KR1020000012847A

    公开(公告)日:2000-03-06

    申请号:KR1019980031388

    申请日:1998-08-01

    Abstract: PURPOSE: In a conventional semiconductor, there was temperature drop of chemical fumes in the mixing process of oxygen and chemical fumes. Temperature drops caused a drop in steam pressure and generative layer uniformity problems. CONSTITUTION: The gas supplier is equipped with an oxygen supplier (2) and line heater (6) around an oxygen supplying pipe (3) that connects with a gas mixing chamber. An accumulator (7) with an inside assistant heater (7) is equipped in the line heater. Oxygen supplied through the oxygen supply pipe from the oxygen supplier to the gas mixing chamber (4) is preheated by the line heater (6). Oxygen is provided through the accumulator (7) to the gas mixing chamber (4) with equal pressure.

    Abstract translation: 目的:在传统的半导体中,在氧气和化学烟雾的混合过程中,化学烟雾的温度下降。 温度下降导致蒸汽压力下降和生成层均匀性问题。 规定:燃气供应商在与气体混合室连接的供氧管(3)周围配备有氧供应器(2)和管线加热器(6)。 具有内辅助加热器(7)的蓄能器(7)配备在线路加热器中。 通过供氧管从氧供给器供给到气体混合室(4)的氧气由线路加热器(6)预热。 氧气通过蓄能器(7)以相等的压力提供到气体混合室(4)。

    도전층패턴상에내식각성버퍼층을구비하는반도체장치및그제조방법
    87.
    发明公开
    도전층패턴상에내식각성버퍼층을구비하는반도체장치및그제조방법 失效
    在导电层图案上具有耐腐蚀缓冲层的半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:KR1019990015713A

    公开(公告)日:1999-03-05

    申请号:KR1019970037988

    申请日:1997-08-08

    Inventor: 이재한 이정우

    Abstract: 본 발명은 도전층 패턴 상에 내 식각성 버퍼층을 구비하는 반도체장치에 관해 개시한다. 상기 버퍼층은 포토공정에서 현상액에 대한 내 식각성을 갖는 물질층이다. 이 결과, 상기 도전층 패턴 형성후 실시되는 공정 예컨대, 상기 도전층 패턴 상에 비어홀을 갖는 폴리이미드층 패턴을 형성하기 위한 현상공정이나 폴리이미드층 패턴의 재 형성 공정에서 상기 도전층 패턴이 손상되는 것을 방지하여 패키지공정에서 반도체장치가 손상되는 것을 방지할 수 있다.

    키폰 전화기에서 입력 시간에 따른 기능키 확장방법
    88.
    发明公开
    키폰 전화기에서 입력 시간에 따른 기능키 확장방법 失效
    如何根据按键电话上的输入时间扩展功能键

    公开(公告)号:KR1019980082308A

    公开(公告)日:1998-12-05

    申请号:KR1019970017151

    申请日:1997-05-03

    Inventor: 이정우

    Abstract: 가. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
    키폰 전화기에서 기능키의 입력 시간에 대응하여 두가지 기능을 설정하여 사용하는 방법.
    나. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
    키폰 전화기에서 모듈 확장기를 부가하여 키의 숫자를 늘리지 않고 하나의 기능키에 대응하여 두 개의 서로 다른 기능을 수행하도록 하는 방법.
    다. 발명의 해결방법의 요지
    다수의 기능키를 구비한 키폰 전화기의 기능키 확장 방법이, 프로그램 모드시 등록할 기능키를 선택하고 선택된 하나의 기능키에 대응하여 서로 다른 제1 기능과 제 2기능을 등록하는 과정과, 기능키 사용 모드시 사용할 기능키가 선택되면 선택된 기능키의 입력 시간을 검사하는 과정과, 검사결과 기능키 입력시간이 설정시간 이하인 경우 상기 제 1기능을 수행하는 과정과, 검사결과 기능키 입력시간이 설정시간을 초과하는 경우 상기 제 2기능을 수행하는 과정으로 이루어짐을 특징으로하는 키폰 전화기에서 입력 시간에 따른 기능키 확장 방법.
    라. 발명의 중요한 용도
    키폰 전화기에서 기능키의 기능확장 방법.

    감광막 현상 장치
    89.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1019980029389A

    公开(公告)日:1998-07-25

    申请号:KR1019960048644

    申请日:1996-10-25

    Inventor: 최영준 이정우

    Abstract: 감광막 현상 장치에 관하여 개시한다. 본 발명은 현상 과정에서 현상액으로 용해되어 나오는 감광막을 상기 현상액 내에 골고루 확산시키기 위하여 현상조의 바닥면 소정 영역에 돌출되도록 설치된 복수개의 비늘판들을 구비하는 것을 특징으로 하는 감광막 현상 장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 상기 현상액의 유동을 더욱 활발하게 하여 상기 현상액에 용해되어 나오는 감광막을 상기 현상액에 침적되어 있는 반도체 기판으로 부터 멀리 확산시켜 보낼수 있다. 따라서 현상 및 세정 과정이 끝난 후에 미세 잔유물이 상기 반도체 기판 상에 잔존하는 것을 방지할 수 있다.

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